镀膜静电消除装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开一种镀膜静电消除装置，包括真空镀膜室，所述真空镀膜室内设有放卷气涨轴、导辊和镀膜辊，所述放卷气涨轴上有原膜，所述原膜先经过离子源处理后穿过导辊进入镀膜辊再到收卷，所述真空镀膜室内安装有阳极膜线性离子源，该阳极膜线性离子源的正面发射沟道朝向所述原膜所在平面，所述阳极膜线性离子源连接高纯氩气瓶。本实用新型专利技术通过阳极膜线性离子源解决了镀铝产品变形、膜邹及黑线条等现象，并且解决了BOPP转移膜的静电树纹，无需增加电晕机处理，避免膜变形，可有效去除膜表面的有机污染物及氧化层，直接联机处理速度可达到350M/MIN以上，提高生产效率及产品质量合格率。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术属于镀膜
，具体涉及一种镀膜静电消除装置。
技术介绍
镀铝产品膜上均附带静电离子，因原材料、涂层及环境温度、湿度等因素影响，镀铝时产生放静电火光使产品变形、膜邹及黑线条等现象，且在BOPP转移膜等非极性塑料薄膜上镀铝时会产生静电树纹，常用解决方法是增加一道电晕机处理，而增加电晕机后会使膜变形，速度只能达到60M/MIN，造成产品合格率与效率低下。
技术实现思路
本技术所要解决的技术问题便是针对上述现有技术的不足，提供一种镀膜静电消除装置，可有效解决镀铝产品变形、膜邹及黑线条等现象，提高产品合格率及生产效率。本技术所采用的技术方案是一种镀膜静电消除装置，包括真空镀膜室，所述真空镀膜室内设有放卷气涨轴、导辊和镀膜辊，所述放卷气涨轴上有原膜，所述原膜穿过导辊进入镀膜辊后收卷，所述真空镀膜室内安装有阳极膜线性离子源，该阳极膜线性离子源的正面发射沟道朝向所述原膜所在平面，所述阳极膜线性离子源连接高纯氩气瓶。作为优选，所述阳极膜线性离子源为⑶NY-YJM1000。作为优选，所述阳极膜线性离子源的正面发射沟道上安装挡板。作为优选，所述阳极膜线性离子源安装在放卷气涨轴与第一根导辊之间的原膜本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种镀膜静电消除装置，包括真空镀膜室，所述真空镀膜室内设有放卷气涨轴、导辊和镀膜辊，所述放卷气涨轴上有原膜，所述原膜穿过导辊进入镀膜辊后收卷，其特征在于：所述真空镀膜室内安装有阳极膜线性离子源，该阳极膜线性离子源的正面发射沟道朝向所述原膜所在平面，所述阳极膜线性离子源连接高纯氩气瓶。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：王创茂，
申请(专利权)人：福建泰兴特纸有限公司，
类型：实用新型
国别省市：