The present invention provides a photocurable composition with excellent storage stability and rapid curing when bonding opaque materials and the products thereof. Provided is a light-curable composition comprising: (A) compounds with unsaturated double bonds; (B) at least one compound in a group composed of the following general formulas (1), general formulas (2), and general formulas (3) freely selected; and (C) sensitizers. In general formulas (1), general formulas (2) and general formulas (3), R1 to R3 are independently composed of selected free nitro, cyano, hydroxyl, acetyl, carbonyl, substituted or unrestituted allyl, substituted or unrestituted alkyl, substituted or unrestituted alkoxy, unrestituted or substituted aryl, unrestituted or substituted aryloxy, heterocyclic. A substituent of at least one group in a group consisting of a structure and a group containing multiple rings. At least two groups in a group of free R1 to R3 can bond to each other to form a ring structure with the carbon atoms they bond.
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】光固化性组合物以及产品
本专利技术涉及一种光固化性组合物以及产品。特别是,本专利技术涉及一种可用于不透明材料的粘接,贮存稳定性优异的光固化性组合物以及产品。
技术介绍
在多种多样的粘接剂之中,已知有加热固化型、二液混合型等粘接剂。加热固化型的粘接剂受限于对无法加热处理的零件的用途,而二液混合型的粘接剂的混合的计量、进程复杂。作为不需要加热处理、混合处理的一液型常温固化性树脂,已知有紫外线固化性树脂,已知有通过照射紫外线等光而瞬间进行聚合固化的光固化性树脂。从固化性的迅速、由于是一液型而不需要混合进程的操作性的良好、贮存稳定性的良好等方面考虑,光固化性树脂在表面的包覆、灌封等各种情形下使用。一般而言,光固化性树脂利用了如下原理:通过光照射而产生活性自由基等,自由基聚合性的单体、低聚物进行聚合。由此,若停止光照射,则活性自由基的产生停止,聚合性单体、低聚物的聚合反应也停止。另外,阴影部、窄隙部等光不会到达的部分不会固化。因此,在贴合等粘接时需要被粘物是透明的,需要紫外线等活性能量直接照射到粘接组合物。另一方面,作为一液型常温固化性树脂,存在通过氧气的隔断而进行被粘物的贴合等时的固化反应的厌氧固化性组合物。厌氧固化性组合物具有如下性质:以(甲基)丙烯酸酯单体为主成分,在与空气或氧气(以下,简称为空气)接触期间不会长期凝胶化而以液态状态稳定地保持,若隔断或排除空气,则会迅速固化。厌氧固化性组合物利用上述性质,用于螺钉、螺栓等的粘接、固定;嵌合零件的固接;凸缘面间的粘接、密封;产生于铸造零件的气孔的填充等。专利文献1公开了作为一般的厌氧固化性组合物的组成的(A)具有 ...
【技术保护点】
1.一种光固化性组合物,其含有:(A)具有不饱和双键的化合物;(B)选自由下述通式(1)、通式(2)、以及通式(3)构成的组中的至少一种化合物;以及(C)增感剂,[化学式1]
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.01.22 JP 2016-0108241.一种光固化性组合物,其含有:(A)具有不饱和双键的化合物;(B)选自由下述通式(1)、通式(2)、以及通式(3)构成的组中的至少一种化合物;以及(C)增感剂,[化学式1][化学式2][化学式3](在通式(1)、通式(2)以及通式(3)中,R1至R3各自独立地为:包含选自由硝基、氰基、羟基、乙酰基、羰基、取代或未取代的烯丙基、取代或未取代的烷基、取代或未取代的烷氧基、未取代或取代芳基、未取代或取代芳氧基、含杂环结构的基团、以及具有多个环的基团构成的组中的至少一种基团的取代基,选自由R1至R3构成的组中的至少两种基...
【专利技术属性】
技术研发人员:绿川智洋,山家宏士,
申请(专利权)人:思美定株式会社,
类型:发明
国别省市:日本,JP
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