An etching device is disclosed for etching a substrate, including a reaction chamber, a first electrode located in the reaction chamber, and a second electrode located in the reaction chamber, parallel to the first electrode, for carrying the substrate, and the second electrode and the substrate. There is a gap between the two electrodes, characterized in that the second electrode includes a main electrode plate, the upper surface of which is opposite to the substrate, and the upper surface includes a cooling area and an edge area; a protective wall, which is located between the cooling area and the edge area; and the edge area is formed between the protective wall and the main body. Between the edges of the electrode plate, at least one first protrusion structure is located in the edge region.
【技术实现步骤摘要】
蚀刻装置
本技术涉及蚀刻
，尤其涉及一种蚀刻装置。
技术介绍
液晶显示屏(LiquidCrystalDisplay，LCD)现已成为市场上主流的显示技术。LCD的基本构造是：在平行的第一玻璃基板和第二玻璃基板之间放置液晶分子，第一玻璃基板面向液晶分子的表面上设置彩色滤光片，第二玻璃基板面向液晶分子的表面上设置薄膜晶体管(ThinFilmTransistor,TFT)，通过对TFT提供不同的电压信号能够控制液晶分子的转动方向，从而控制与每个像素点对应的光的偏转，最终实现画面的显示。通常，在液晶显示屏的制造过程中，为了在玻璃基板上形成相关电路，需要对已经镀膜的玻璃基板进行蚀刻。现有的玻璃基板的蚀刻过程是将玻璃基板置于上电极和下电极之间，并在上电极和下电极之间充满充满氯气等腐蚀性气体，然后在上电极与下电极之间施加电压，将氯气等腐蚀性气体激发成腐蚀性电子以对玻璃基板进行蚀刻。图1示出现有技术的蚀刻装置的下电极局部截面示意图。如图1所示，在现有技术的蚀刻装置中，下电极10的边缘凸起与玻璃基板的接触面被设计为平整的平面11，以支撑玻璃基板。然而，在对玻璃基板的蚀刻处理过...
【技术保护点】
1.一种蚀刻装置，用于对基板进行蚀刻处理，包括：反应腔；第一电极，其位于所述反应腔内；以及第二电极，其位于所述反应腔内，与所述第一电极平行相对设置，用于承载基板；其特征在于，所述第二电极包括：主体电极板，其上表面与所述基板相对，所述上表面包括冷却区域和边缘区域；保护墙，其位于所述冷却区域与所述边缘区域之间；所述边缘区域形成于所述保护墙与所述主体电极板的边缘之间；至少一个第一突起结构，其位于所述边缘区域中。
【技术特征摘要】
1.一种蚀刻装置，用于对基板进行蚀刻处理，包括：反应腔；第一电极，其位于所述反应腔内；以及第二电极，其位于所述反应腔内，与所述第一电极平行相对设置，用于承载基板；其特征在于，所述第二电极包括：主体电极板，其上表面与所述基板相对，所述上表面包括冷却区域和边缘区域；保护墙，其位于所述冷却区域与所述边缘区域之间；所述边缘区域形成于所述保护墙与所述主体电极板的边缘之间；至少一个第一突起结构，其位于所述边缘区域中。2.根据权利要求1所述的蚀刻装置，其特征在于，所述第二电极还包括多个通孔，每个所述通孔贯穿所述主体电极板以连通所述主体电极板的上下表面。3.根据权利要求2所述的蚀刻装置，其特征在于，所述第二电极还包括与所述通孔对应的伸缩结构，所述伸缩结构位于所述通孔中，用于控制所述基板与所述...
【专利技术属性】
技术研发人员：陈德年，戴玉梅，
申请(专利权)人：昆山龙腾光电有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏,32
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