氧化石墨烯的还原程度的测试方法技术

本发明专利技术公开了一种氧化石墨烯的还原程度的测试方法，其包括步骤：S1、采用静电力显微镜测定还原态氧化石墨烯在不同针尖偏压下的静电力显微镜图；S2、以静电力显微镜图中所述还原态氧化石墨烯的相位对针尖偏压作图，获得相位‑针尖偏压曲线；S3、根据相位‑针尖偏压曲线确定所述还原态氧化石墨烯较氧化石墨烯的还原程度的大小。本发明专利技术通过对比相位‑针尖偏压曲线的峰位及峰强变化，能够在氧化石墨烯样品被不同还原方法均匀还原后，对单片层还原态氧化石墨烯样品的还原程度差别进行纳米尺度的表征；相比现有技术，其可以作为静电力显微镜及扫描极化力显微镜等表征初始还原反应阶段方法的补充，用以丰富氧化石墨烯研究过程中的表征途径。

Test method for reduction degree of graphene oxide

The invention discloses a method for measuring the reduction degree of graphene oxide, which comprises the following steps: S1, electrostatic force microscopy (ESM) for measuring reduced graphene oxide under different tip bias voltages; S2, drawing the relative tip bias voltages of the reduced graphene oxide in the ESM diagram, and obtaining The phase-tip bias curve was obtained, and the reduction degree of the reduced graphene oxide was determined according to the phase-tip bias curve. By comparing the peak position and peak strength of the phase_tip bias curve, the invention can characterize the reduction degree difference of the monolayer reduced graphene oxide sample at nanometer scale after the graphene oxide sample is uniformly reduced by different reduction methods; compared with the existing technology, it can be used as an electrostatic force microscope and a scanning device. A complement to the methods used to characterize the initial reduction stage, such as the tracing force microscope, can be used to enrich the characterization of graphene oxide.

【技术实现步骤摘要】
氧化石墨烯的还原程度的测试方法
本专利技术属于氧化石墨烯表征测试
，具体来讲，涉及一种氧化石墨烯的还原程度的测试方法。
技术介绍
对氧化石墨烯的还原程度进行表征和测定是氧化石墨烯研究领域中的重要技术。在目前表征测试氧化石墨烯的诸多技术中，传统的谱学方法、基于微电极的电导率测试方法仅可以表征氧化石墨烯的还原反应的发生，但是给出的是测试样品的平均信息，不能在纳米尺度对分散的单片层氧化石墨烯的还原反应进行表征；光学观测和透射电子显微镜可以分别给出还原前后氧化石墨烯的颜色变化及原子结构信息的变化，然而无法给出性能上的差别，因此很难区分在还原程度上具有微小差别的还原态氧化石墨烯片层。目前，基于还原前后氧化石墨烯电学性质的变化，扫描探针显微技术如导电原子力显微镜、静电力显微镜及扫描极化力显微镜等被用于在纳米尺度来表征氧化石墨烯的还原，但由于导电原子力显微镜测量时工作在接触模式且探针与测试样品间构成电学回路，容易对测试样品产生还原或氧化的电诱导，进而影响测试样品的还原程度；虽然静电力显微镜及扫描极化力显微镜可以表征氧化石墨烯逐步被还原的过程，但是当还原反应在整个片层上均匀发生时，就很难表征不本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种氧化石墨烯的还原程度的测试方法，其特征在于，包括步骤：S1、采用静电力显微镜测定还原态氧化石墨烯在不同针尖偏压下的静电力显微镜图；S2、以所述静电力显微镜图中所述还原态氧化石墨烯的相位对针尖偏压作图，获得相位‑针尖偏压曲线；S3、根据所述相位‑针尖偏压曲线确定所述还原态氧化石墨烯较氧化石墨烯的还原程度的大小；其中，在所述相位‑针尖偏压曲线中，相位的峰值或谷值对应的特定针尖偏压的绝对值越小、和/或小于所述特定针尖偏压的任一针尖偏压下的相位的绝对值越大，则其对应的还原态氧化石墨烯较氧化石墨烯的还原程度越高。

【技术特征摘要】
1.一种氧化石墨烯的还原程度的测试方法，其特征在于，包括步骤：S1、采用静电力显微镜测定还原态氧化石墨烯在不同针尖偏压下的静电力显微镜图；S2、以所述静电力显微镜图中所述还原态氧化石墨烯的相位对针尖偏压作图，获得相位-针尖偏压曲线；S3、根据所述相位-针尖偏压曲线确定所述还原态氧化石墨烯较氧化石墨烯的还原程度的大小；其中，在所述相位-针尖偏压曲线中，相位的峰值或谷值对应的特定针尖偏压的绝对值越小、和/或小于所述特定针尖偏压的任一针尖偏压下的相位的绝对值越大...

【专利技术属性】
技术研发人员：申月，周园，海春喜，孙艳霞，曾金波，李翔，任秀峰，
申请(专利权)人：中国科学院青海盐湖研究所，
类型：发明
国别省市：青海,63