单一加热系统多反应室的化学气相沉积设备技术方案

一种化学气相沉积设备，包括：至少两个独立的带有进气口和排气口的反应室，一个可移动加热设备；所述的每个反应室包括一个一端开口而另一端封闭的反应管、一个置于反应管内部的导气管、和一个同时与反应管开口端和导气管相连的转接器件；所述的可移动加热设备具有套设所述的反应管的空腔。根据本发明专利技术的化学气相沉积设备，利用一套加热设备可以给多个反应室进行加热，无需反复的升降温，不仅充分节约了能源，还可以提高生产效率。

【技术实现步骤摘要】
单一加热系统多反应室的化学气相沉积设备
本专利技术涉及材料制造及改性领域，尤其涉及一种化学气相沉积设备。
技术介绍
化学气相沉积法制备薄膜材料广泛应用于半导体工业及其他工业领域。对于一个典型的化学气相沉积过程，具有特定组分和流量的反应气体从进气口进入装有反应基材的反应室，在反应室中，发生化学反应并在反应基材上沉积薄膜，反应付产物及剩余气体从排气口排出。(水平或垂直)管式炉系统是一种常用的用于化学气相沉积的设备，请参阅图1。图1所示为一种现有的管式炉化学气相沉积设备000。该设备000的反应室001为石英或陶瓷反应管。反应室001的中部置于管式炉002中。反应基材003置于反应室001中部。通常，反应气体从反应室001的一端，即进气口004进入反应室001，在反应室001中发生化学反应并在反应基材003上沉积薄膜，反应付产物及剩余气体从反应室001的另一端，即排气口005排出。这种设备000具有如下几个缺点：1)不能进行快速热处理，即加热和降温速度受到限制。2)整个生产过程包括装入反应基材，加热反应基材(同时会有一部分能量用于加热管式炉本身)，沉积薄膜，降温(包括炉体的降温)，取出反应本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种化学气相沉积设备，其特征在于，包括：至少两个独立的带有进气口和排气口的反应室，一个可移动加热设备；所述的每个反应室包括一个一端开口而另一端封闭的反应管、一个置于反应管内部的导气管、和一个同时与反应管开口端和导气管相连的转接器件；所述的转接器件包括至少一个连接口、一个进气口、一个排气口、和一个放料口，其连接口与所述的反应管开口端相连，进气口在转接器件内部的一端与所述的导气管的一端相连，所述的导气管的另一端延伸至接近所述的反应管的封闭端；所述的可移动加热设备具有套设所述的反应管的空腔。

【技术特征摘要】
1.一种化学气相沉积设备，其特征在于，包括：至少两个独立的带有进气口和排气口的反应室，一个可移动加热设备；所述的每个反应室包括一个一端开口而另一端封闭的反应管、一个置于反应管内部的导气管、和一个同时与反应管开口端和导气管相连的转接器件；所述的转接器件包括至少一个连接口、一个进气口、一个排气口、和一个放料口，其连接口与所述的反应管开口端相连，进气口在转接器件内部的一端与所述的导气管的一...

【专利技术属性】
技术研发人员：曾鸣，丘辉，
申请(专利权)人：福建闽烯科技有限公司，
类型：发明
国别省市：福建,35