【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及用于供给蒸汽的蒸汽供给设备、基板加工设备、 使用该基板加工设备的基板加工方法、电子器件的制造方法、 以及使用该电子器件的制造方法制造的电子器件。
技术介绍
许多现代电子器件都使用氧化膜或含有氧化物的膜。例如,安装在磁电阻随机存储器(magnetroresistive random access memory, MRAM)和硬盘驱动器(HDD)的磁头上的隧穿磁 电阻(tunneling magnetoresistance )器1牛^吏用两个》兹月莫之间 的厚度仅为几个原子层的氧化物(例如,氧化铝和氧化镁)。在 HDD的磁记录介质中,含有氧化物(例如,Si02)的CoCrPt 磁膜是用于垂直》兹记录系统的主流。此外,目前^皮积极研发的 电阻式随机存储器RAM ( RRAM)也使用金属合金氧化物或者 氧化薄膜作为记录膜。下一代HDD》兹头必需实现元件的低电阻,因此,通过使电 流垂直于膜表面流动而工作的电流垂直于平面巨》兹阻(current perpendicular to plane giant magnetroresistive , CPP-GMR)膜 ...
【技术保护点】
一种蒸汽供给设备,其包括: 保持单元,该保持单元用于保持液体物质或固体物质; 冷却部件,该冷却部件用于冷却所述保持单元; 检测部件,该检测部件用于检测所述保持单元的温度;以及 控制部件,该控制部件用于基于由所述检测部 件检测到的温度控制所述冷却部件; 其中,在所述控制部件的控制下,由所述冷却部件调整所述保持单元的温度,从而在供给所述液体物质或固体物质的蒸汽时控制所述液体物质或固体物质的蒸发或升华。
【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员:山本久,芝本雅弘,
申请(专利权)人:佳能安内华股份有限公司,佳能安内华科技股份有限公司,
类型:发明
国别省市:JP[日本]
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