基板清洗设备制造技术

本发明专利技术提供一种基板清洗设备，包括机架、位于所述机架上方的护罩、传送机构、及喷淋机构，所述传送机构包括并列设置的数个导辊，且所述数个导辊中至少有一个为海绵刷导辊，且每一海绵刷导辊的上方相对设有一个第一压制辊，相比于对现有技术，通过在传送机构中增设海绵刷导辊，能够有效提高清洗效果，从而当该基板清洗设备用于基板显影后的终极清洗工序时，能够有效避免光刻胶残留及滚痕的形成，提高产品的清洗良率。

Substrate cleaning equipment

The invention provides a substrate cleaning device, which comprises a frame, is located in the shield rack, transmission mechanism, and the spraying mechanism, wherein the conveying mechanism comprises a plurality of guide rollers arranged in parallel, wherein a plurality of guide roll in at least one sponge brush roller, and above every sponge brush the guide roller is provided with a relative first pressing roller, compared to the existing technology, the sponge brush roller is arranged in the transport mechanism, can effectively improve the cleaning effect, and when the substrate cleaning equipment for the ultimate substrate after developing a cleaning process, can effectively prevent the formation of free residual photoresist and roll marks, improve cleaning product yield.

【技术实现步骤摘要】
基板清洗设备
本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种基板清洗设备。
技术介绍
在显示
，液晶显示器(LiquidCrystalDisplay，LCD)与有机发光二极管显示器(OrganicLightEmittingDiode，OLED)等平板显示器已经逐步取代阴极射线管(CathodeRayTube，CRT)显示器，广泛的应用于液晶电视、手机、个人数字助理、数字相机、计算机屏幕或笔记本电脑屏幕等。显示面板是LCD、OLED的重要组成部分。不论是LCD的显示面板，还是OLED的显示面板，通常都具有一薄膜晶体管(ThinFilmTransistor，TFT)阵列基板。以LCD的显示面板为例，其主要是由一TFT阵列基板、一彩色滤光片(ColorFilter，CF)基板、以及配置于两基板间的液晶层(LiquidCrystalLayer)所构成，其工作原理是通过在TFT阵列基板与CF基板上施加驱动电压来控制液晶层中液晶分子的旋转，将背光模组的光线折射出来产生画面。在TFT阵列基板的制作过程中，基板都需要经过涂布光刻胶、曝光、显影这样一个光刻工序。显影的目的是去除在曝光过程中发生了光学反应的光刻胶，从而在基板上形成与曝光掩模板对应的光刻胶图形，显影后基板上覆盖有光刻胶的位置，在下一个工序刻蚀的过程中由于光刻胶的保护，相应位置的金属或非金属膜不会受到损害，从而最后达到在基板上形成TFT电路的目的。显影后还需要对玻璃基板上被显影的光刻胶和残留的显影液进行清洗，如果清洗不彻底，基板上会残留药液以及光刻胶颗粒，最终会引起基板不良。目前的基板显影后的清洗过程参照图1所示，图中A为基板显影区，H表示显影后基板走向，基板显影区紧挨着显影后基板清洗区，显影后基板清洗区通常包括三级清洗单元，对显影后的基板进行三个阶段的清洗，三级清洗单元具体设置为依次邻接的初级清洗区B、中级清洗区C和终极清洗(Final-Rinse，FR)区D，初级清洗区B上设置有初级清洗设备100，由初级清洗设备100对显影后基板进行一级清洗；中级清洗区C上设置有中级清洗设备200，由中级清洗设备200对一级清洗后基板进行中级清洗；终极清洗区D上设置有终极清洗设备300，由终极清洗设备300供纯水以对中级清洗后基板进行终极清洗。显影后基板清洗的目的是除去其上的光刻胶和显影液，初级清洗去除了基板上大部分的光刻胶和显影液，中级清洗去除了剩余的一部分，最后通过终极清洗将光刻胶和显影液完全清除，终极清洗为了保证基板的清洁度，必须使用纯水，初级清洗和中级清洗对清洗用水的要求不局限于纯水，所以为了节约用水，通常会在中级清洗区C和终极清洗区D之间设置一集水池，与终极清洗设备相连通，收集终极清洗区D排出的含有极少光刻胶和显影液的废水，该废水作为循环水，通过水泵(pump)将该循环水供给与第一集水池相连通的初级清洗设备100和/或中级清洗设备200以对基板进行清洗。如图2所示，现有的终极清洗设备包括机架310、固定于机架上310的护罩320、位于护罩320内的数道并列设置的传送辊330、及设于护罩320内并分布于所述数道传送辊(Roller)330上下两侧的数道喷水管340；如图3所示，在清洗过程中，基板400放置于传送辊330上，使得基板400的背面与传送辊330接触，利用基板400本身的重力使基板400与传送辊330产生摩擦力，并在传送辊330转动时推动基板400往固定方向行进，同时，喷水管340上设于数个喷嘴341，这些喷嘴341向基板400的表面喷射纯水，用以清洗玻璃基板400。然而在基板显影后的实际清洗过程中，经历过终极清洗后的基板400，其上仍会存在光刻胶残留，在基板400表面形成滚痕(RollerMark)，造成清洗不良的情况产生。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种基板清洗设备，能够提高清洗效果，避免清洗后的基板上留有脏污及滚痕。为实现上述目的，本专利技术提供一种基板清洗设备，包括机架、位于所述机架上方的护罩、传送机构、及喷淋机构；所述护罩用于提供基板清洗空间，所述传送机构用于承载并运送基板，所述喷淋机构用于向基板喷淋清洗液；所述传送机构包括并列设置的数个导辊，且所述数个导辊中至少有一个为海绵刷导辊，其他的为传送导辊；每一海绵刷导辊的上方相对设有一个第一压制辊。所述数个导辊中，所有海绵刷导辊之间的传送导辊、及两侧的部分传送导辊构成一海绵刷传送区，所述海绵刷传送区内每一传送导辊的上方相对设有一个第二压制辊。每一海绵刷导辊的两端分别设有操作模块、及驱动模块；所述驱动模块包括第一马达，每一海绵刷导辊及每一第一压制辊在相应的第一马达驱动下进行转动。每一海绵刷导辊下方对应设有两个平衡杆，所述平衡杆的两端分别固定连接于相应的操作模块、及驱动模块上。所述护罩包括顶板和从所述顶板向下延伸的左侧壁、右侧壁、前侧壁、及后侧壁；所述护罩的前侧壁与后侧壁上设有数个过孔，每一海绵刷导辊的两端分别穿过所述前侧壁与后侧壁上的过孔并通过轴承与所述操作模块、及驱动模块进行连接，每一第一压制辊的两端分别穿过所述前侧壁与后侧壁上的过孔并通过轴承与所述操作模块、及驱动模块进行连接；所述护罩的左侧壁、右侧壁上均设有基板传送孔；所述机架在对应所述护罩的前后两侧分别具有一模块固定座，所述操作模块与驱动模块分别在所述护罩的前后两侧固定于所述模块固定座上。所述传送机构还包括两个相对设置的轴承座、第二马达、及传动组件，所述传动组件在所述第二马达驱动下带动每个传送导辊、及每个第二压制辊进行转动；每一轴承座上对应每个海绵刷导辊设有一个第一凹陷部，对应每个传送导辊设有一个第二凹陷部；每一传送导辊的两端分别枢接于所述两个轴承座，每一第二压制辊的两端分别枢接于所述两个轴承座；所述传动组件为齿轮齿条传动组件。所述喷淋机构包括分布于所述数个导辊上下两侧的数条喷淋管，每一喷淋管上设有数个喷嘴；每一喷淋管对应设于两相邻导辊之间间隙的上方、或下方。所述海绵刷导辊包括第一旋转杆、及贴附于所述第一旋转杆上的海绵层，所述海绵层的材料为研磨型海绵；所述第一压制辊与第二压制辊均包括第二旋转杆、及贴附于所述第二旋转杆上的塑料层，所述塑料层的材料为聚乙烯醇。所述的基板清洗设备在使用过程中，所述海绵刷导辊、传送导辊、第一压制辊、及第二压制辊与基板接触点的切线速度均相同；所述海绵刷导辊的转速为50rpm-500rpm；所述海绵刷导辊与第一压制辊之间的间隙距离允许基板通过，所述传送导辊、与第二压制辊之间的间隙距离允许基板通过。所述的基板清洗设备用于基板显影后的终极清洗工序。本专利技术的有益效果：本专利技术提供的一种基板清洗设备，包括机架、位于所述机架上方的护罩、传送机构、及喷淋机构，所述传送机构包括并列设置的数个导辊，且所述数个导辊中至少有一个为海绵刷导辊，且每一海绵刷导辊的上方相对设有一个第一压制辊，相比于对现有技术，通过在传送机构中增设海绵刷导辊，能够有效提高清洗效果，从而当该基板清洗设备用于基板显影后的终极清洗工序时，能够有效避免光刻胶残留及滚痕的形成，提高产品的清洗良率。为了能更进一步了解本专利技术的特征以及
技术实现思路
，请参阅以下有关本专利技术的详细说明与附图，然而附图仅提供参考与说明用，并非用来对本专利技术加以限制。附图说明下面结合附图，通过对本专利技术的本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基板清洗设备，其特征在于，包括机架(30)、位于所述机架(30)上方的护罩(40)、传送机构(10)、及喷淋机构(20)；所述护罩(40)用于提供基板清洗空间，所述传送机构(10)用于承载并运送基板(50)，所述喷淋机构(20)用于向基板(50)喷淋清洗液；所述传送机构(10)包括并列设置的数个导辊(105)，且所述数个导辊(105)中至少有一个为海绵刷导辊(101)，其他的为传送导辊(102)；每一海绵刷导辊(101)的上方相对设有一个第一压制辊(103)。

【技术特征摘要】
1.一种基板清洗设备，其特征在于，包括机架(30)、位于所述机架(30)上方的护罩(40)、传送机构(10)、及喷淋机构(20)；所述护罩(40)用于提供基板清洗空间，所述传送机构(10)用于承载并运送基板(50)，所述喷淋机构(20)用于向基板(50)喷淋清洗液；所述传送机构(10)包括并列设置的数个导辊(105)，且所述数个导辊(105)中至少有一个为海绵刷导辊(101)，其他的为传送导辊(102)；每一海绵刷导辊(101)的上方相对设有一个第一压制辊(103)。2.如权利要求1所述的基板清洗设备，其特征在于，所述数个导辊(105)中，所有海绵刷导辊(101)之间的传送导辊(102)、及两侧的部分传送导辊(102)构成一海绵刷传送区，所述海绵刷传送区内每一传送导辊(102)的上方相对设有一个第二压制辊(104)。3.如权利要求1所述的基板清洗设备，其特征在于，每一海绵刷导辊(101)的两端分别设有操作模块(111)、及驱动模块(112)；所述驱动模块(112)包括第一马达，每一海绵刷导辊(101)及每一第一压制辊(103)在相应的第一马达驱动下进行转动。4.如权利要求3所述的基板清洗设备，其特征在于，每一海绵刷导辊(101)下方对应设有两个平衡杆(113)，所述平衡杆(113)的两端分别固定连接于相应的操作模块(111)、及驱动模块(112)上。5.如权利要求4所述的基板清洗设备，其特征在于，所述护罩(40)包括顶板(41)和从所述顶板向下延伸的左侧壁(42)、右侧壁(43)、前侧壁(44)、及后侧壁(45)；所述护罩(40)的前侧壁(44)与后侧壁(45)上设有数个过孔(401)，每一海绵刷导辊(101)的两端分别穿过所述前侧壁(44)与后侧壁上(45)的过孔(401)并通过轴承与所述操作模块(111)、及驱动模块(112)进行连接，每一第一压制辊(103)的两端分别穿过所述前侧壁(44)与后侧壁(45)上的过孔(401)并通过轴承与所述操作模块(111)、及驱动模块(112)进行连接；所述护罩(40)的左侧壁(42)、右侧壁(43)上均设有基板传送孔(402)；所述机架(3...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈建锋，
申请(专利权)人：武汉华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：湖北,42