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本发明提供一种基板清洗设备，包括机架、位于所述机架上方的护罩、传送机构、及喷淋机构，所述传送机构包括并列设置的数个导辊，且所述数个导辊中至少有一个为海绵刷导辊，且每一海绵刷导辊的上方相对设有一个第一压制辊，相比于对现有技术，通过在传送机构中...
该专利属于武汉华星光电技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过武汉华星光电技术有限公司授权不得商用。

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