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真空多区磁控阴极溅射头制造技术

技术编号:1811711 阅读:191 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
一种真空多区磁控阴极溅射头,它包含有框、靶材,磁场密封盒帽盖,磁场组合体等主要元件。其中,框的内缘,留有凹槽,以套合靶材后,以螺丝固定于磁场密封盒帽盖上,而其固定螺丝孔,制成向外开口的双凹马蹄型螺丝槽,以方便于拆换靶材时的螺孔定位吊挂。可将溅射头内的磁场,排列组合成多区域,使其有更多的溅射面积,以充分利用靶材,达到提高效益的目的。(*该技术在2000年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本技术涉及一种真空多区磁控阴极溅射头。一般常用的真空磁控阴极溅射头,是采用单一全区域的溅射方式,即在溅射头上,除周围的磁极外,中间只留上独立磁极,使用时其溅射面积不佳,且靶材的利用率极低,约只有25%-27%,且框无开口双凹马蹄型槽无法迅速套合靶材,及吊挂作业,更换靶材时,费时费工及靶材使用率不经济。本技术的目的在于克服上述缺点,提供一种真空多区磁控阴极溅射头及简易定位靶材固定框。本技术提出的真空多区磁控阴极溅射头及简易靶材固定框,利用将溅射头的磁场排列组合或许多小区域的设计,如所附的分解立体图4的磁场形状,使用时可增加其区域面积,改善其溅射面积,其溅射情形极佳,且其靶材的利用率高达40%-45%,并能节省材料。该固定框的四端各设有开口双凹马碲型螺丝槽,其开口槽的设计利于螺丝快速嵌入定位于固定螺丝孔中,双凹设计即在第一凹陷槽面再设一稍低的凹面,但不成全开口状,以容纳定位螺丝的螺丝头吊挂于其上,不至滑落。拆换靶材时,其中四颗定位螺丝只需留下下方单边二颗,使框吊挂在此二颗定位螺丝上,即可迅速套合新靶材及旋入卸下的其它螺丝,简易省时并提高经济利益。以下结合附图和最佳实施例对本技术进行详细说明附图说明图1是本技术的分解立体图。图2是本技术整体外观图。图3是本技术工作示意图。本技术的主要结构包含框1,靶材2,磁场密封盒帽3和磁场4,磁场4整体称为溅射头。其中框1为一中空框架,其内缘留有凹槽11,供靶材易迅速套合,框四端有开口双凹马碲型螺丝槽121、122、123、124,于拆换靶材时只须旋入螺丝131、132、133、134,即可将其余螺孔定位,且卸下时无需拆下四个定位螺丝,可留一边的二个在磁场封闭盒帽盖上吊挂,能节省更换靶材的时间。靶材2为一中有材料平板,以框的凹槽11套合后,固定于磁场密封盒帽盖上,溅射后耗损为多区的凹陷。磁场密封盒帽盖3,为一不导磁方箱型上盖,以隔真空固定在磁场4的底座上,其上方表面留有螺孔301、302、303、304等,可供框1上相对位置的定位螺丝及固定螺丝旋入,以固定靶材并于表面建立磁场,其二侧并有开孔31、32,供冷却水流循环以达散热目的。磁场4为一平板上排列组合多区的永久磁铁(极性如图3所示),以之于靶材面产生安排的磁场,其底座平板的作用是承接、固定磁场密封盒帽盖。本技术的整体组合情形,以磁场密封盒帽盖3套盖住磁场4,并固定于磁场的底座上,以隔离、冷却磁组合体于真空工作,其二端的开孔31、32可供冷却水流通,以冷却整体溅射头产生的高温,而其上方表面留有定位螺孔301、302、303、304及其它固定螺孔。当框1套合靶材2后,先旋入螺丝131、132至螺孔301、302,再将框与靶材的组合体上框的马碲型螺丝槽121、122塞入螺丝131、132中,再将螺丝133、134穿越马碲型螺丝槽123、123旋入磁场密封盒帽盖上的定位螺丝303、304,即可迅速定位其它螺孔,靶材更换程序亦然,只是框无需卸下,直接吊挂在定位螺丝上即可。综合上述,本技术不但省时省工,节省材料,还可提高经济效益,非常实用。权利要求1.一种真空多区磁控阴极溅射头,其特征在于将溅射头的磁场排列组合成多个区域,使用时可增加其区域面积,改善其溅射面积,提高靶材使用率至40-45%。2.如权利要求1所述的真空多区磁控阴极溅射头,其特征在于框的四端各设有开口双凹马碲型螺丝槽,其开口槽的设计利于螺丝的快速嵌入定位于其它的固定螺丝孔中;双凹设计即在第一凹陷槽面再设一稍低的凹面,但不成全开口状,以容纳定位螺丝的螺丝头吊挂于其上,不至滑落。专利摘要一种真空多区磁控阴极溅射头,它包含有框、靶材,磁场密封盒帽盖,磁场组合体等主要元件。其中,框的内缘,留有凹槽,以套合靶材后,以螺丝固定于磁场密封盒帽盖上,而其固定螺丝孔,制成向外开口的双凹马蹄型螺丝槽,以方便于拆换靶材时的螺孔定位吊挂。可将溅射头内的磁场,排列组合成多区域,使其有更多的溅射面积,以充分利用靶材,达到提高效益的目的。文档编号C23C14/35GK2077869SQ9020963公开日1991年5月29日 申请日期1990年6月29日 优先权日1990年6月29日专利技术者黄恬静 申请人:黄恬静本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种真空多区磁控阴极溅射头,其特征在于:将溅射头的磁场排列组合成多个区域,使用时可增加其区域面积,改善其溅射面积,提高靶材使用率至40-45%。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

【专利技术属性】
技术研发人员:黄恬静
申请(专利权)人:黄恬静
类型:实用新型
国别省市:71[中国|台湾]

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