The utility model provides a transistor integrating an ultraviolet detector structure and an electronic device with the transistor. Gallium nitride aluminum substrate is included, gallium nitride aluminum buffer layer, source contact, gate contact and leakage contact are arranged on the gallium nitride substrate. The gallium nitride layer is set with N type GaN layer, the N type GaN layer is set with unintentional doping layer, first ultraviolet detection contact, and the unintentionally doped layer is set with P nitriding. The gallium aluminum layer and the P type gallium nitride aluminum layer are provided with second ultraviolet detection contacts. Different from the existing technology, the above technical scheme can implement the function of power amplifier and ultraviolet detection on a transistor chip, so that no extra space is occupied and the structural changes are simple. This can increase the ultraviolet detection function on the existing electronic devices, such as mobile phones, so that users can make corresponding sunscreen protection measures.
【技术实现步骤摘要】
一种集成紫外线侦测器结构的晶体管及电子设备
本技术涉及晶体管
,尤其涉及一种集成紫外线侦测器结构的晶体管及具有该晶体管的电子设备。
技术介绍
随着全球暖化现象加剧,太阳紫外线也越来越强烈,太阳紫外线对人体的影响愈专利技术显,因此对于紫外线侦测就更为重要。目前市面上的智能手机并无加装紫外线侦测(UVdetector)功能,要实现紫外线侦测需要专门的设备。即使要在手机上实现紫外线侦测功能,需要加上额外的传感器,需要占用额外体积,则要对现有手机结构进行更改,工作量十分大。
技术实现思路
为此,需要提供一种集成紫外线侦测器结构的晶体管及具有该晶体管的电子设备,解决现有在手机上增加紫外线侦测功能需要对手机结构进行更改的问题。为实现上述目的,专利技术人提供了一种集成紫外线侦测器结构的晶体管及具有该晶体管的电子设备,包括氮化镓铝基板,氮化镓铝基板上设置有氮化镓铝缓冲层、源极触点、栅极触点和漏极触点,氮化镓铝缓冲层上设置有N型氮化镓层,N型氮化镓层上设置有非故意掺杂层、第一紫外线侦测触点,非故意掺杂层上设置有P型氮化镓铝层,P型氮化镓铝层上设置有第二紫外线侦测触点。进一步地,氮化镓铝基板下设置有蓝宝石衬底或者碳化硅衬底。本技术提供一种电子设备,包括有电路板,所述电路板上设置有晶体管,所述晶体管为上述的集成紫外线侦测器结构的晶体管。进一步地,所述电子设备为手机。区别于现有技术,上述技术方案可以在一个晶体管芯片上实现功放功能和紫外线检测功能,从而不用额外占用空间,结构上更改较简单。这样可以在现有的电子设备(如手机)上增加紫外线检测功能,方便用户做相应的防晒保护措施。附图说明图1 ...
【技术保护点】
一种集成紫外线侦测器结构的晶体管及具有该晶体管的电子设备,其特征在于:包括氮化镓铝基板,氮化镓铝基板上设置有氮化镓铝缓冲层、源极触点、栅极触点和漏极触点,氮化镓铝缓冲层上设置有N型氮化镓层,N型氮化镓层上设置有非故意掺杂层、第一紫外线侦测触点,非故意掺杂层上设置有P型氮化镓铝层,P型氮化镓铝层上设置有第二紫外线侦测触点。
【技术特征摘要】
1.一种集成紫外线侦测器结构的晶体管及具有该晶体管的电子设备,其特征在于:包括氮化镓铝基板,氮化镓铝基板上设置有氮化镓铝缓冲层、源极触点、栅极触点和漏极触点,氮化镓铝缓冲层上设置有N型氮化镓层,N型氮化镓层上设置有非故意掺杂层、第一紫外线侦测触点,非故意掺杂层上设置有P型氮化镓铝层,P型氮化镓铝层上设置有第二紫外线侦测触点。2.根据权利...
【专利技术属性】
技术研发人员:李华山,
申请(专利权)人:福建省福联集成电路有限公司,
类型:新型
国别省市:福建,35
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