热敏平版印版原版制造技术

技术编号:17741330 阅读:48 留言:0更新日期:2018-04-18 16:03
本发明专利技术公开阳图制版平版印版原版,其中优化涂层,用于在曝露于热和/或光时产生最小程度的烧蚀。涂层包括包含式(I)的结构成分的红外吸收剂:其中A表示‑S‑R

Thermosensitive lithographic plate

The present invention discloses an original version of plate plate printing plate, in which the optimized coating is used to produce minimal ablation when exposed to heat and / or light. The coating includes type (I) infrared absorbent composition: wherein A represents S R

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】热敏平版印版原版专利
本专利技术涉及一种包括新IR染料的阳图制版平版印版原版,该IR染料在曝露于热和/或光时提供具有减小烧蚀的版。专利技术背景平版印刷一般包括利用一种安装在旋转印刷机滚筒上所谓的印刷母版,如印版。母版的表面上带有平版印版图像,并通过将油墨施加到所述图像上,然后将油墨从母版转印到接收材料上来得到印刷品,接收材料一般为纸。在常规平版印刷中,油墨及含水润版液(也被称为润湿液体)被提供到平版图像,平版图像由亲油(或疏水性,即接受油墨,斥水)区域及亲水(或疏油,即接受水,斥墨)区域组成。在所谓的无水胶印中,平版图像由受墨区域和不粘墨(斥墨)区域组成,在无水胶印期间,只有油墨提供到母版上。平版印刷母版一般由以成像方式曝光并且处理一种被称为印版原版的成像材料获得。原版涂层以成像方式曝露于热或光,一般通过数字调制曝光装置,例如,激光,其触发(物理)化学过程,如烧蚀、聚合、由聚合物交联或热塑性聚合物胶乳颗粒的凝聚作用降溶,由分子间相互作用破坏或增加显影阻挡层渗透性增溶。虽然一些印版原版能够在曝光后立即产生平版图像,但最流行的印版原版需要湿处理,因为曝光在涂层的曝光和非曝光区域之间在本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种阳图制版平版印版原版,所述阳图制版平版印版原版在具有亲水表面或提供有亲水层的载体上包括包含红外吸收化合物的热敏和/或光敏涂层,其特征在于红外吸收化合物包含式I的结构成分:

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.08.12 EP 15180688.21.一种阳图制版平版印版原版,所述阳图制版平版印版原版在具有亲水表面或提供有亲水层的载体上包括包含红外吸收化合物的热敏和/或光敏涂层,其特征在于红外吸收化合物包含式I的结构成分:其中A表示-S-R1,其中R1表示任选被取代的芳烷基、烷芳基、环烷基、烯基、炔基或杂芳基和/或其组合;Q=-CHR’-CHR”-、-CR’=CR”-或-CHR’-CHR”-CHR”’-,并且R’、R”和R”’独立表示氢、烷基、环烷基、芳烷基、烷芳基、芳基或杂芳基,或者R’和R”或R”和R”’一起形成环状结构。2.权利要求1的印版原版,其中所述红外吸收剂具有式II的结构:其中A和Q具有与权利要求1中相同的含义;T和T’独立表示氢、烷基、卤素、烷氧基、氰基、-CO2Rn、-CONRkRm、-SO2Rn、-SO2NRoRp或任选被取代的环化苯并环,其中Rk,Rm表示氢、任选被取代的烷基或芳基,Rn表示任选被取代的烷基或芳基,并且Ro和Rp表示氢、任选被取代的烷基或芳基;Rz和Rz’独立表示任选被取代的烷基;Z和Z’独立表示-S-、-CH=CH-或-CRaRb-;Ra和Rb表示任选被取代的烷基、芳烷基、烷芳基或芳基;并且W-使发色基团为中性。3.权利要求1或2的印版原版,其中R1表示任选被取代的杂芳基。4.前述权利要求中任一项的印版原...

【专利技术属性】
技术研发人员:J洛库菲尔T德斯梅特
申请(专利权)人:爱克发有限公司
类型:发明
国别省市:比利时,BE

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