一种镀膜进气结构制造技术

本实用新型专利技术公开了一种镀膜进气结构，包括一个或两个并列的离子源及设置在离子源两侧的分气块，分气块的出气口至基板的间距小于离子源的出气口至基板的间距；离子源的两侧还设置有对应分气块的陶瓷板。该实用新型专利技术可直接增加N个这种进气结构独立独立单元，组合高效便捷；分气块导入的沉积气体更靠近基板，成膜质量高且沉积气体利用率高；离子源导入的为产生等离子体的混合气体，且离子源在分气块的作用下远离沉积气体，可减少离子源表面的沉积，降低对离子源放电、表面掉渣以及气孔被堵的风险；陶瓷板用于隔离反应气体，保证成膜质量和效率，以及隔离离子源对分气块的放电现象。

A coated intake structure

The utility model discloses a coating inlet structure, including one or two parallel ion source and ion source gas is disposed in a block on both sides of the air outlet spacing to substrate distance and substrate gas outlet block is smaller than the ion source; on both sides of the ion source is also provided with a ceramic plate corresponding points gas block. The utility model can directly increase the N intake structure of the independent unit, combination of efficient and convenient; the deposition gas gas block into the more close to the substrate, the film quality is high and the deposition gas utilization rate is high; the introduction of ion source mixed gas plasma, and the ion source from the deposition gas in the gas distributing block effect next, can reduce the deposition surface ion source, ion source discharge, reduce the surface and pores blocked the dregs of risk; the ceramic plate is used for isolating the reaction gases, ensure the film quality and efficiency, and the isolation of ion source discharge phenomenon on the gas block.

【技术实现步骤摘要】
一种镀膜进气结构
本技术涉及太阳能电池片生产
，特别涉及一种太阳能电池片钝化用镀膜系统，尤其涉及一种具有独立单元功能的镀膜进气结构。
技术介绍
随着光伏发电的应用越来越广及生产成本的越来越高，有效控制晶体硅光伏组件的成本，特别是硅片成本尤其重要，即采用更薄的硅片以及增加电池的转换效率是降低硅片成本的重要手段。目前，转换效率大于20%的电池结构都具有电介质层的钝化表面，即通常在P型太阳能电池片背面镀有一层Al2O3或氮化硅等薄膜形成表面钝化（非受光面）或在N型太阳能电池片正面镀有一层薄膜形成钝化（受光面），通过表面钝化使太阳能电池片获得如下特性：①薄膜钝化层作为背反射器，可以增加长波光的吸收；②薄膜钝化层介于硅基体和铝背面场间，可以有效减少电池片的翘曲，有利于产业化良率的提高；③原子态的氢饱和基体表面悬挂键，有效降低界面复合，提高载流子收集效率；④大量的固定电荷的场钝化效应，可以提高载流子收集效率，增加短路电流，改善电池的整体性能。目前，业界普遍采用的太阳能电池片表面钝化方法有如下几种：①原子层沉积（ALD）：具有沉积温度低，薄膜厚度易控制、精确度高、钝化性能良好且可满足工业话生本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种镀膜进气结构，其对应设置在设备主体之间并与基板平行设置，其特征在于，包括一个具有进气出气口的离子源、设置在所述离子源两侧的具有进气出气口的分气块，以及设置在所述离子源两侧并位于所述分气块内侧的陶瓷板以用于隔离所述离子源与分气块；所述分气块的出气口对应所述陶瓷板设置并与所述陶瓷板之间具有间隙，通过所述陶瓷板的阻挡作用将沉积气体通过所述间隙垂直引导至所述基板，所述间隙的出气口至基板的间距小于所述离子源的出气口至基板的间距。

【技术特征摘要】
1.一种镀膜进气结构，其对应设置在设备主体之间并与基板平行设置，其特征在于，包括一个具有进气出气口的离子源、设置在所述离子源两侧的具有进气出气口的分气块，以及设置在所述离子源两侧并位于所述分气块内侧的陶瓷板以用于隔离所述离子源与分气块；所述分气块的出气口对应所述陶瓷板设置并与所述陶瓷板之间具有间隙，通过所述陶瓷板的阻挡作用将沉积气体通过所述间隙垂直引导至所述基板，所述间隙的出气口至基板的间距小于所述离子源的出气口至基板的间距。2.根据权利要求1所述的一种镀膜进气结构，其特征在于，所述离子源的两侧还设置有磁铁，以通过磁场进一步强化离子源产生的等离子体。3.根据权利要求1或2所述的一种镀膜进气结构，其特征在于，所述设备主体及离子源均设置有冷却水道，以用于设备主体及离子源的冷却降温。4.一种镀膜进气结构，其对应设置...

【专利技术属性】
技术研发人员：朱广东，杨玉杰，刘金浩，庄正军，上官泉元，
申请(专利权)人：常州比太科技有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏,32