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一种镀膜进气结构制造技术
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文档序号:17709211
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本实用新型公开了一种镀膜进气结构,包括一个或两个并列的离子源及设置在离子源两侧的分气块,分气块的出气口至基板的间距小于离子源的出气口至基板的间距;离子源的两侧还设置有对应分气块的陶瓷板。该实用新型可直接增加N个这种进气结构独立独立单元,组合...
该专利属于常州比太科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过常州比太科技有限公司授权不得商用。
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