一种类钻石金属镀膜基板制造技术

本实用新型专利技术涉及一种类钻石金属镀膜基板。它包括基片、依次沉积在基片表面上的过镀膜层和保护膜层，所述的基片是金属基片；所述的过镀膜层是镀制的一层或多层过渡金属或者化合物；所述的保护膜层是类钻石膜层。本基板具备膜层附着力强，其整体表面硬度高、尤其具有防刮花，抗菌、抗划痕等特点。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种金属镀膜
，尤其涉及一种类钻石金属镀膜基板。
技术介绍
随着人们生活水平的提高，电子产品成为人们不可缺少的生活用品，而且人们越来越追求电子产品的美观、大方。电子产品的外壳用镀膜来增加其美观，但现有的膜层常是漆膜，很容易刮花、碰花等。类金刚钻石膜有着和金刚石几乎一样的性质，如高硬度、耐磨损、高表面光洁度、高电阻率、优良的场发射性能，高透光率及化学惰性等，它的产品广泛应用在机械、电子、微电子机械系统(MEMS)、光学和生物医学等各个领域。类金刚钻石膜的沉积温度低、表面平滑，具有比金刚石膜更高的性价比，且在相当广泛的领域内可以代替金刚钻石膜，所以自80年代以来一直是研宄的热点。类金刚钻石(DLC)的低摩擦系数和高耐磨性使类金刚钻石薄膜已在切削工具、磁存储、人工关节等领域得到应用。众所周知，金属基片表面一般都很光洁，在其表面直接镀类钻石膜后，仍存在镀膜附着力差、容易产生刮痕的问题。
技术实现思路
针对现有技术类钻石膜层存在镀膜附着力差、易产生刮痕的问题，本技术提供一种附着力强，抗划伤性能高、高疏水防污、防指纹、抗菌的类钻石金属镀膜基板。为解决上述技术问题，本技术提供的技术方案是:一种类钻石金属镀膜基板，包括基片、依次沉积在基片表面上的过镀膜层和保护膜层，所述的基片是金属基片；所述的过镀膜层是镀制的一层或多层过渡金属层或者化合物层；所述的保护膜层是类钻石膜层。进一步:在上述类钻石金属镀膜基板中，所述的金属基片是铝合金片、不锈钢片、锌合金片、铜合金片、钛片及钛合金片中的一种。所述的过渡金属或者化合物是Cr、Zr、Nb、W、WC、S1、SiC、T1、TiC、TiN和TiCN中的至少一种。所述的过镀膜层是I?8层；所述的过镀膜层的厚度是0.1?3um。所述的类钻石膜层是0.1?2um。所述的类钻石膜层的硬度是维氏硬度10?50GPa。类钻石简称DLC，它是无定形碳中含Sp3键的亚稳态结构，在金刚石中，碳原子以SP3键结合，在石墨中碳原子以SP 2键合，在DLC中，有sp 3、Sp2两种键合形式，因而类钻石膜的结构和性能介于金刚石和石墨之间。目前，类钻石膜层的制备方法很多，如离子束沉积(IBD)、溅射沉积、射频CVD(RFCVD)、磁过滤阴极弧沉积(FCVA)、脉冲激光沉积等物理气相沉积和直流CVD (DCCff)、电子束蒸发CVD、微波CVD (ECRCVD)等化学气相沉积。类钻石的性能与类钻石SP3键SP 2与键的含量密切相关。通过控制制备类钻石薄膜的工艺条件，可以控制薄膜中SP3键与SP 2键的含量。类金刚钻石薄膜层(DLC)可以由等离子体辅助化学气相沉积(PACVD)、等离子体增强化学气相沉积(PECVD)、脉冲真空弧光等离子体沉积等技术沉积制备。在这些方法中，等离子体增强化学气相沉积(PECVD)方法具有沉积温度低，绕镀性好，制备的薄膜均匀致密等诸多特点而成为最常用的方法。与现有技术相比，本技术的金属镀膜基板，包括基片、依次沉积在基片表面上过镀膜层和保护膜层，所述的基片是金属基片；所述的过镀膜层是交替镀制的一层或多层过渡金属或者化合物Cr，Zr, Nb, W，WC, Si, SiC, Ti, TiC, TiN, TiCN,所述的保护膜层是类钻石膜层。本技术的过镀膜层是交替镀制的一层或多层过渡金属或者化合物Cr，Zr, Nb, W，WC, Si, SiC, Ti, TiC, TiN, TiCN，本技术的类钻石金属镀膜基板，主要应用在手机背壳和边框、平板电脑背壳和边框以及电视背板和边框等。用上述基板制成的手机/平板电脑/电视等的背壳和边框，基板上的类钻石膜层的硬度大、膜层附着力强、基板整体具备抗划伤性能尚、尚疏水防污、防指纹、抗菌、抗划痕等特点。【附图说明】附图1是本技术实施方式一基板的结构简图；附图2是本技术实施方式二的基板结构简图；其中I基片、2过镀膜层、3保护膜层。【具体实施方式】参照附图1-2及本技术实施方式来进一步说明本技术。实施方式一:一种金属镀膜基板，包括基片1、依次沉积在基片表面上过镀膜层2和保护膜层3，所述的基片是金属基片；所述的过镀膜层是一层过渡金属或者化合物层，所述的过渡金属或者化合物是Cr、Zr、Nb、W、WC、S1、SiC, T1、TiC, TiN, TiCN中的任一种，所述的保护膜层是类钻石膜层。所述的类钻石膜层是0.1?2um。所述的类钻石膜层的硬度是维氏硬度10?50GPa。实施方式二:一种金属镀膜基板，包括基片1、依次沉积在基片表面上过镀膜层2和保护膜层3，所述的基片是金属基片；所述的过镀膜层是镀制的过渡金属层和/或化合物层，所述的过渡金属或者化合物选自Cr、Zr、Nb、W、WC、S1、SiC, T1、TiC、TiN, TiCN,所述的过镀膜层是2?8层，所述的保护膜层是类钻石膜层。所述的类钻石膜层是0.1?2um。所述的类钻石膜层的硬度是维氏硬度10?50GPa。将上述两实施方式的类钻石金属镀膜基板，应用在手机背壳和边框、平板电脑背壳和边框以及电视背板和边框上。基板上的类钻石膜层的硬度大，膜层附着力强，抗划伤性能高，且具有高疏水防污，防指纹，抗菌的特点、尤其的抗划痕的性能特别好。在上述两实施方式中，所述的过镀膜层的总厚度是0.1?3um，所述的金属基片是铝合金、不锈钢、锌合金，铜合金，钛及钛合金中的一种。以上所述为本技术的较佳实施例，在不脱离本技术构思情况下，进行任何显而易见的变形和替换，均属本技术保护范围。【主权项】1.一种类钻石金属镀膜基板，包括基片(I)、依次沉积在基片表面上的过镀膜层(2)和保护膜层(3)，其特征在于:所述的基片是金属基片；所述的过镀膜层是镀制的一层或多层过渡金属或者化合物；所述的保护膜层是类钻石膜层。2.根据权利要求1所述的金属镀膜基板，其特征在于:所述的金属基片是铝合金片、不锈钢片、锌合金片、铜合金片、钛片及钛合金片中的一种。3.根据权利要求2所述的金属镀膜基板，其特征在于:所述的过渡金属或者化合物是Cr、Zr、Nb、W、WC、S1、SiC、T1、TiC、TiN 和 TiCN 中的至少一种。4.根据权利要求3所述的金属镀膜基板，其特征在于:所述的过镀膜层是I?8层；所述的过镀膜层的厚度是0.1?3um。5.根据权利要求4所述的金属镀膜基板，其特征在于:所述的类钻石膜层是0.1?2um06.根据权利要求5所述的金属镀膜基板，其特征在于:所述的类钻石膜层的硬度是维氏硬度10?50GPa。【专利摘要】本技术涉及一种类钻石金属镀膜基板。它包括基片、依次沉积在基片表面上的过镀膜层和保护膜层，所述的基片是金属基片；所述的过镀膜层是镀制的一层或多层过渡金属或者化合物；所述的保护膜层是类钻石膜层。本基板具备膜层附着力强，其整体表面硬度高、尤其具有防刮花，抗菌、抗划痕等特点。【IPC分类】B32B15-04, B32B9-04【公开号】CN204505998【申请号】CN201520020154【专利技术人】蒋绍洪, 李玉成 【申请人】惠州市莱特尔纳米涂层科技有限公司【公开日】2015年7月29日【申请日】2015年1月12日本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种类钻石金属镀膜基板，包括基片(1)、依次沉积在基片表面上的过镀膜层(2)和保护膜层(3)，其特征在于：所述的基片是金属基片；所述的过镀膜层是镀制的一层或多层过渡金属或者化合物；所述的保护膜层是类钻石膜层。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：蒋绍洪，李玉成，
申请(专利权)人：惠州市莱特尔纳米涂层科技有限公司，
类型：新型
国别省市：广东;44