The utility model relates to a magnetron sputtering production in low energy barrier sputtered particles thermal deformation preventing device, the device is located between the target and the substrate, the substrate to be plated is arranged on the surface along the horizontal direction, wherein the device comprises a plurality of the substrates to be coated on the surface of the baffle plate assembly is above. Each of the two baffle assembly includes a cathode baffle arranged relatively, wherein the cathode comprises a vertical baffle plate is arranged along the vertical direction and is located on the inner side of the vertical plate are arranged along the horizontal direction of horizontal plate, the vertical plate has a first side located on the side of the level, the board has second located on the lateral side and the first side and the second side through a connecting plate, the connecting plate and the vertical plate and the horizontal plate are respectively an angle of 45 degrees, the utility model has the advantages of Yin There is no thermal deformation in the polar baffle, which ensures the high energy of sputter particles on the sputtering coating, the more uniform distribution of the sputtering particles and the good quality of the film.
【技术实现步骤摘要】
磁控溅射镀膜生产中阻挡低能量溅射粒子的防热变形装置
本技术涉及玻璃生产
,具体涉及一种磁控溅射镀膜生产中阻挡低能量溅射粒子的防热变形装置。
技术介绍
磁控溅射镀膜腔室中,阴极位上下两边往往使用一种L型阴极挡板,如图1所示,其主要作用是承接阴极靶材在磁控溅射过程中,距离阴极靶材较远的能量较低的粒子;通过此种L型阴极挡板,阻挡部分溅射能量较低的粒子,一方面能保证溅射到膜层上的粒子能量高、膜层质量好;另一方面能阻挡粒子溅射到供气口,防止堵住供气;另外,能使溅射到玻璃上的粒子分布更均匀,提高产品均匀性。磁控溅射中,由于粒子高速撞击靶材,部分能量以热能的形式转换出来,因此,整个溅射区域温度相当高,L型阴极挡板采用的是铝铁合金材料制作,热膨胀系数较高,为减少L型阴极挡板受热变形,往往在L型阴极挡板的固定位置通入冷却水冷却,通过此种冷却方式,能大大的减弱受热变形,但仍不能杜绝变形问题的存在,如图2所示,即是L型阴极挡板受热后发生变形的结构示意图,在将L型阴极挡板固定的固定螺丝的位置基本不变形,但离固定位置较远的地方,则变形严重,溅射到基体的溅射粒子的数量,受此变形的影响。 ...
【技术保护点】
一种磁控溅射镀膜生产中阻挡低能量溅射粒子的防热变形装置,设置于磁控溅射镀膜腔室中,其特征在于:所述装置位于靶材和基体之间并提供溅射粒子由所述靶材朝向所述基体运动的通道,所述基体的待镀设表面沿水平方向设置,所述装置包括多组位于所述基体待镀设表面正上方的挡板组件,多组所述挡板组件沿水平方向依次间隔排列,每组所述挡板组件包括相对设置的两阴极挡板,所述阴极挡板包括沿竖直方向设置的竖直板以及位于所述竖直板内侧的沿水平方向设置的水平板,所述竖直板具有位于最下方的第一侧面,所述水平板具有位于最外侧的第二侧面,所述第一侧面与所述第二侧面之间通过连接板相连接,所述连接板与所述竖直板以及与所述 ...
【技术特征摘要】
1.一种磁控溅射镀膜生产中阻挡低能量溅射粒子的防热变形装置,设置于磁控溅射镀膜腔室中,其特征在于:所述装置位于靶材和基体之间并提供溅射粒子由所述靶材朝向所述基体运动的通道,所述基体的待镀设表面沿水平方向设置,所述装置包括多组位于所述基体待镀设表面正上方的挡板组件,多组所述挡板组件沿水平方向依次间隔排列,每组所述挡板组件包括相对设置的两阴极挡板,所述阴极挡板包括沿竖直方向设置的竖直板以及位于所述竖直板内侧的沿水平方向设置的水平板,所述竖直板具有位于最下方的第一侧面,所述水平板具有位于最外侧的第二侧面,所述第一侧面与所述第二侧面之间通过连接板相连接,所述连接板与所述竖直板以及与所述水平板分别呈45°角。2.根据权利要求1所述的一种磁控溅射镀膜生产中阻挡低能量溅射粒子的防热变形装置,其特征在于:所述水平板的下底面与所述基体的待镀设表面之间的距离为50-100mm。3.根据权利要求1所述的一种磁控溅射镀膜生产中阻挡低能量溅射粒子的防热变形装置,其特征在于:每组所述挡板组件中两所述水平板之间形成的开口的宽度为150-400mm。4.根据权利要求1所述的一种磁控溅射镀膜生产中阻挡低能量溅射粒子的防热变形装置,其特征在于:每组所述挡板组件中所述竖直板的外侧均设有冷却管,所述冷却管与所述磁控溅射镀膜腔室固定相连,所述冷却管...
【专利技术属性】
技术研发人员:王栋权,宋保柱,李奎,
申请(专利权)人:吴江南玻华东工程玻璃有限公司,中国南玻集团股份有限公司,
类型:新型
国别省市:江苏,32
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