The utility model discloses a double rotating cathode coating system for reducing LCD low box thickness product defect rate, through the magnet arranged around the annular column the continuous rotation of the target, it will not cause etching in a fixed position of the target in the sputtering target, can use uniform column, avoid the peak discharge the rules of etching caused by that film appear crater phenomenon, effectively reduce the rate of adverse LCD low box thick products; in addition, due to the sputtering process can produce high temperature, the utility model is added into the circulating water from the water circulation device through the water injection cavity in the annular column in the target, can continue to ring target column cooling, improve the system stability and durability.
【技术实现步骤摘要】
一种降低LCD低盒厚产品不良率的双旋转阴极镀膜系统
本技术涉及一种溅射镀膜装置,特别是一种降低LCD低盒厚产品不良率的双旋转阴极镀膜系统。
技术介绍
在LCD设备生产过程中,镀膜是其中一项关键的工序,如图1所示,现有的溅射镀膜装置中,平面靶材安装在孪生平面阴极矩形管腔上,管腔内底板001上安装有永久磁铁002,磁铁产生磁力线覆盖着整个靶面003宽度,从靶表面释放的电子受到洛伦磁力的作用,向与磁场和电场正交的方向飞行。电子会在阴极上沿着螺旋线运动,就像在一条跑道上一样,靶材前面电场与磁场近乎正交,洛伦磁力最大,会形成离子云。靶的刻蚀主要发生在离子云下,随着刻蚀的进行,逐渐在靶的表面刻蚀出一个环形跑道,到了靶的使有后期靶表面的非刻蚀区域电荷容易聚积,到一定量会产生放电打弧,另外靶的溅射槽内由于不规则的刻蚀所造成的峰值放电也会产生打弧,形成打弧坑,当打弧坑的高度大于低厚盒产品高度时,会造成LCD产品的短路不良。
技术实现思路
为解决上述问题,本技术的目的在于提供一种能有效避免在靶上产生放电打弧、降低LCD低盒厚产品不良率的双旋转阴极镀膜系统。本技术解决其问题所采用的技术方案是: ...
【技术保护点】
一种降低LCD低盒厚产品不良率的双旋转阴极镀膜系统,其特征在于:包括溅射腔,所述溅射腔内设置有承载待镀膜LCD玻璃的载板(1)和两套旋转溅射装置(2),所述旋转溅射装置(2)包括环形靶柱(21)和带动环形靶柱(21)旋转的传动装置,所述环形靶柱(21)内固定有两个以上的磁钢(22),相邻磁钢(22)面向环形靶柱(21)的极性相反,所述环形靶柱(21)内还设置有端部固定块(23),所述磁钢(22)固定于端部固定块(23)中,所述端部固定块(23)与环形靶柱(21)之间设置有轴承,所述环形靶柱(21)围绕磁钢(22)转动,所述端部固定块(23)与环形靶柱(21)之间构成一密闭的 ...
【技术特征摘要】
1.一种降低LCD低盒厚产品不良率的双旋转阴极镀膜系统,其特征在于:包括溅射腔,所述溅射腔内设置有承载待镀膜LCD玻璃的载板(1)和两套旋转溅射装置(2),所述旋转溅射装置(2)包括环形靶柱(21)和带动环形靶柱(21)旋转的传动装置,所述环形靶柱(21)内固定有两个以上的磁钢(22),相邻磁钢(22)面向环形靶柱(21)的极性相反,所述环形靶柱(21)内还设置有端部固定块(23),所述磁钢(22)固定于端部固定块(23)中,所述端部固定块(23)与环形靶柱(21)之间设置有轴承,所述环形靶柱(21)围绕磁钢(22)转动,所述端部固定块(23)与环形靶柱(21)之间构成一密闭的注水腔(24),还包括一水循环装置(3),所述注水腔(24)通过水循环管道与水循环装置(3...
【专利技术属性】
技术研发人员:马晓亮,
申请(专利权)人:江门亿都半导体有限公司,
类型:新型
国别省市:广东,44
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