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本实用新型公开了一种降低LCD低盒厚产品不良率的双旋转阴极镀膜系统，通过在磁钢外设置有围绕其不断转动的环形靶柱，因此在溅射时不会在靶的某个固定位置产生刻蚀，能均匀利用靶柱，避免由于不规则刻蚀所造成的峰值放电而让膜层出现打弧坑的现象，有效降低...
该专利属于江门亿都半导体有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过江门亿都半导体有限公司授权不得商用。

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