反应釜气体分布器制造技术

本实用新型专利技术属于化工技术领域，具体涉及一种反应釜气体分布器，包括进气管、上盖板、缓冲室、下盖板、通气管和连接管，上盖板与下盖板上均分布有若干气孔，上盖板设置在缓冲室的顶部，下盖板设置在缓冲室的底部，缓冲室侧壁上设置有若干个缓冲孔；上盖板的中心连接有进气管，进气管与缓冲室连通；缓冲室下方的下盖板上设置有若干通气管，通气管与缓冲室连通，通气管通过连接管连接有泡帽，泡帽上沿圆周方向设置有若干个排气孔。本实用新型专利技术的气体分布器设置有缓冲室，在缓冲的同时使周围的液体能够与气体进行均匀的接触，且缓冲室下方设置有与其连通的通气管，通气管上设置有泡帽，气体通过泡帽沿一定角度排出，可以均匀的分布在液体内。

Gas distributor of reaction kettle

【技术实现步骤摘要】
反应釜气体分布器
本技术属于化工
，具体涉及一种反应釜气体分布器。
技术介绍
气体分布器是使气体通入液体时能够均匀分布在其中的装置，一些化工领域的反应釜中经常配合使用气体分布器，通入的气体可以与反应釜内的溶液进行反应得到所需的化工产物，或是为反应过程提供某种有利的环境，气体分布器工作时是将大股的圆柱空气流分成许多细股的空气流，在搅拌器的配合下粉碎成更小气泡，气体气泡的粉碎主要依靠搅拌器的强制剪切来进行破碎，而当气体分布器的出气孔较大或是通入的气体量较大时，搅拌轴剪切的阻力越大，反应釜内溶液的混合搅拌便会受到影响，且由于一些气体分布器的体积过大会影响附近的溶液与气泡的接触，导致气体的分布效果不够均匀。
技术实现思路
本技术提供了一种结构简单，方便使用的气体分布器，可以将气体缓冲分散为更小的气泡，使气体分布器附近的溶液能够均匀的接触气泡。为了解决上述技术问题，本技术提供了一种反应釜气体分布器，包括进气管、上盖板、缓冲室、下盖板、通气管和连接管，所述上盖板与下盖板上均分布有若干气孔，所述上盖板设置在缓冲室的顶部，所述下盖板设置在缓冲室的底部，所述缓冲室是由缓冲室侧壁、以及顶部的上盖板和底部的本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种反应釜气体分布器，其特征在于：包括进气管(1)、上盖板(2)、缓冲室(4)、下盖板(6)、通气管(7)和连接管(9)，所述上盖板(2)与下盖板(6)上均分布有若干气孔(3)，所述上盖板(2)设置在缓冲室(4)的顶部，所述下盖板(6)设置在缓冲室(4)的底部，所述缓冲室(4)是由缓冲室侧壁(41)、以及顶部的上盖板(2)和底部的下盖板(6)围成的空间，所述缓冲室侧壁(41)上设置有若干个缓冲孔(5)；所述上盖板(2)的中心连接有进气管(1)，所述进气管(1)与缓冲室(4)连通；所述缓冲室(4)下方的下盖板(6)上设置有若干通气管(7)，所述通气管(7)与缓冲室(4)连通，所述通气管(7)通过...

【技术特征摘要】
1.一种反应釜气体分布器，其特征在于：包括进气管(1)、上盖板(2)、缓冲室(4)、下盖板(6)、通气管(7)和连接管(9)，所述上盖板(2)与下盖板(6)上均分布有若干气孔(3)，所述上盖板(2)设置在缓冲室(4)的顶部，所述下盖板(6)设置在缓冲室(4)的底部，所述缓冲室(4)是由缓冲室侧壁(41)、以及顶部的上盖板(2)和底部的下盖板(6)围成的空间，所述缓冲室侧壁(41)上设置有若干个缓冲孔(5)；所述上盖板(2)的中心连接有进气管(1)，所述进气管(1)与缓冲室(4)连通；所述缓冲室(4)下方的下盖板(6)上设置有若干通气管(7)，所述通气管(7)与缓冲室(4)连通，所述通气管(7)通过连接管(9)连接有泡帽(8)，所述泡帽(8)...

【专利技术属性】
技术研发人员：郑云满，
申请(专利权)人：江西贝美药业有限公司，
类型：新型
国别省市：江西,36