一种彩膜基板及其制作方法和显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种彩膜基板及其制作方法和显示装置，该彩膜基板包括：衬底基板以及设置在衬底基板上的彩膜图形，平坦层和黑矩阵，其中，相邻的彩膜图形之间的平坦层上开设有过孔，所述黑矩阵至少设置于所述过孔内。本发明专利技术中，由于相邻的彩膜图形之间的平坦层上开设有过孔，过孔内填充有黑矩阵，因而从彩膜基板对向的阵列基板发出的光的漏光的途径被填充在平坦层的过孔内的黑矩阵完全阻挡，不会进入到相邻的子像素中，能够有效避免相邻子像素间的漏光现象。另外，无需为了避免漏光现象而加大黑矩阵的宽度，从而有助于分辨率的提高。

A color film substrate and its making method and display device

The invention provides a color film substrate and its manufacture method and display device, the color film substrate comprises a substrate and graphics color film is formed on a substrate on the substrate, the flat layer and a black matrix, wherein the color film between the adjacent flat pattern layer is provided with a hole, the black matrix is arranged on at least the hole. In the invention, because the color film graphics of the adjacent flat layer is provided with a through hole, the hole is filled with black matrix, and from the way light color film substrate on the array substrate to the light emitted by the black matrix is filled in through holes in the flat layer completely blocked, do not enter into the adjacent sub pixel, can effectively avoid light leakage between adjacent sub pixels. In addition, no need to avoid light leakage and increase the width of the black matrix, which helps to improve the resolution.

【技术实现步骤摘要】
一种彩膜基板及其制作方法和显示装置
本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种彩膜基板及其制作方法和显示装置。
技术介绍
顶发射有机发光二极管(OrganicLight-EmittingDiode,简称OLED)显示技术，可以满足高品质、高分辨率OLED产品的需求，因而被广泛应用。现有的一种顶发射OLED显示面板主要由白光OLED阵列基板以及与白光OLED阵列基板对合的彩膜(CF)基板组成，彩膜基板通常采用如图1所示的结构，其制作过程包括以下步骤：步骤101：在衬底基板11上形成黑矩阵(BM)12；步骤102：在黑矩阵12限定的子像素区域内形成彩膜图形13；步骤103：在彩膜图形13上形成平坦层(OC)14。上述彩膜基板存在以下问题：由于平坦层14较厚，因此白光OLED阵列基板的发光层(EL)发出的光进入平坦层14后，依然存在子像素间漏光的风险。
技术实现思路
有鉴于此，本专利技术提供一种彩膜基板及其制作方法和显示装置，能够有效避免相邻子像素间的漏光现象。为解决上述技术问题，本专利技术提供一种彩膜基板，包括：衬底基板以及设置在衬底基板上的彩膜图形，平坦层和黑矩阵，其中，相邻的彩膜图形之间的平坦层上开设有过孔，所述黑矩阵至少设置于所述过孔内。优选地，所述黑矩阵部分设置于所述过孔内，部分设置于所述平坦层上。优选地，位于相邻的两彩膜图形之间的黑矩阵在所述衬底基板上的正投影与所述相邻的两彩膜图形在所述衬底基板上的正投影部分重叠。优选地，所述彩膜基板还包括：隔垫物，所述隔垫物设置于所述黑矩阵上，所述隔垫物在所述衬底基板上的正投影位于所述黑矩阵在所述衬底基板上的正投影区域内。优选地，所述彩膜基板还包括：阴极辅助电极，设置于所述黑矩阵上，所述阴极辅助电极在所述衬底基板上的正投影位于所述黑矩阵在所述衬底基板上的正投影区域内；以及透明导电连接层，覆盖所述隔垫物、所述阴极辅助电极、所述黑矩阵和所述平坦层。本专利技术还提供一种彩膜基板的制作方法，用于形成上述彩膜基板，所述制作方法包括：提供一衬底基板；在所述衬底基板上形成彩膜图形，平坦层和黑矩阵，其中，相邻的彩膜图形之间的平坦层上形成有过孔，所述黑矩阵至少设置于所述过孔内。优选地，所述在所述衬底基板上形成彩膜图形，平坦层和黑矩阵的步骤包括：在所述衬底基板上形成彩膜图形；在所述彩膜图形上形成平坦层，其中，位于相邻的彩膜图形之间的平坦层上形成有过孔；形成黑矩阵，所述黑矩阵至少设置于所述过孔内。优选地，所述彩膜基板的制作方法还包括：在所述黑矩阵上形成阴极辅助电极，所述阴极辅助电极在所述衬底基板上的正投影位于所述黑矩阵在所述衬底基板上的正投影区域内；在所述黑矩阵上形成隔垫物，所述隔垫物在所述衬底基板上的正投影位于所述黑矩阵在所述衬底基板上的正投影区域内；形成覆盖所述隔垫物、所述阴极辅助电极、所述黑矩阵和所述平坦层的透明导电连接层。本专利技术还提供一种显示装置，包括阵列基板和彩膜基板，所述彩膜基板为上述彩膜基板。优选地，所述阵列基板为白光OLED阵列基板。本专利技术的上述技术方案的有益效果如下：本专利技术中，由于相邻的彩膜图形之间的平坦层上开设有过孔，过孔内填充有黑矩阵，因而从彩膜基板对向的阵列基板发出的光的漏光的途径被填充在平坦层的过孔内的黑矩阵完全阻挡，不会进入到相邻的子像素中，能够有效避免相邻子像素间的漏光现象。另外，无需为了避免漏光现象而加大黑矩阵的宽度，从而有助于分辨率的提高。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例的技术方案，下面将对本专利技术实施例的描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为现有技术中的彩膜基板的结构示意图；图2为本专利技术实施例一的彩膜基板的结构示意图；图3为本专利技术实施例二的彩膜基板的结构示意图；图4为本专利技术实施例三的彩膜基板的结构示意图；图5-图9为本专利技术实施例三的彩膜基板的制作方法的流程示意图。具体实施方式为使本专利技术实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本专利技术实施例的附图，对本专利技术实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例是本专利技术的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于所描述的本专利技术的实施例，本领域普通技术人员所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。请参考图2，图2为本专利技术实施例的彩膜基板的结构示意图，该彩膜基板包括：衬底基板21以及设置在衬底基板21上的彩膜图形22，平坦层23和黑矩阵24，其中，相邻的彩膜图形22之间的平坦层23上开设有过孔，所述黑矩阵24至少设置于所述过孔内。其中，一个彩膜图形22对应一个子像素。本专利技术实施例中，由于相邻的彩膜图形22之间的平坦层23上开设有过孔，过孔内填充有黑矩阵24，因而从彩膜基板对向的阵列基板发出的光的漏光的途径被填充在平坦层23的过孔内的黑矩阵24完全阻挡，不会进入到相邻的子像素中，能够有效避免相邻子像素间的漏光现象。另外，无需为了避免漏光现象而加大黑矩阵24的宽度，从而有助于分辨率的提高。本专利技术实施例中，彩膜图形22可以包括红(R)、绿(G)、蓝(B)三种颜色的彩膜图形22，当然，在本专利技术的其他一些实施例中，彩膜图形22的颜色也不限于R、G、B三种。本专利技术实施例中的平坦层23可以采用Resin、SOG和BCB等平坦化材料制成。从图2所示的实施例可以看出，所述黑矩阵24部分设置于所述过孔内，部分设置于所述平坦层23上，位于相邻的两彩膜图形22之间的黑矩阵24在所述衬底基板21上的正投影与所述相邻的两彩膜图形22在所述衬底基板上的正投影部分重叠，从而能够保证相邻的两彩膜图形不漏光。当然，为了保证子像素的开口率，位于相邻的两彩膜图形22之间的黑矩阵24在所述衬底基板21上的正投影与每一相邻的彩膜图形22在所述衬底基板上的正投影重叠的部分的宽度可以不超过预定宽度。所述预定宽度的数值可以根据需要设置。本专利技术实施例中的彩膜基板需要与阵列基板对合，从而形成显示面板，为了维持彩膜基板和阵列基板之间的盒厚，请参考图3，本专利技术实施例中的彩膜基板还可以包括：隔垫物25。当然，在本专利技术的其他一些实施例中，也不排除将隔垫物设置于阵列基板上的可能。由于隔垫物25与平坦层23之间的粘附性较差，如果将隔垫物25设置于平坦层23上，有可能会造成隔垫物25脱落。本专利技术实施例中，优选地，所述隔垫物25设置于所述黑矩阵24上，所述隔垫物25在所述衬底基板21上的正投影位于所述黑矩阵24在所述衬底基板21上的正投影区域内。隔垫物25与黑矩阵24之间的粘附性要由于平坦层与隔垫物25之间的粘附性，因而，将隔垫物25设置于所述黑矩阵24上，能够降低隔垫物25脱落的风险，提高具有该彩膜基板的显示面板的制造良率。本专利技术实施例中的彩膜基板可以为液晶显示面板中的彩膜基板，也可以为顶发射型OLED显示面板中的彩膜基板。当本专利技术实施例中的彩膜基板为顶发射型OLED显示面板中的彩膜基板时，需要与白光OLED阵列基板对合，形成OLED显示面板。白光OLED阵列基板包括白光OLED器件和薄膜晶体管(TFT)，该白光OLED器件包括阴极、发光层和阳极，其中，阴极通常采用透明金属氧化物导电材料制成，例如，ITO，AZO，IZ本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种彩膜基板，其特征在于，包括：衬底基板以及设置在衬底基板上的彩膜图形，平坦层和黑矩阵，其中，相邻的彩膜图形之间的平坦层上开设有过孔，所述黑矩阵至少设置于所述过孔内。

【技术特征摘要】
1.一种彩膜基板，其特征在于，包括：衬底基板以及设置在衬底基板上的彩膜图形，平坦层和黑矩阵，其中，相邻的彩膜图形之间的平坦层上开设有过孔，所述黑矩阵至少设置于所述过孔内。2.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述黑矩阵部分设置于所述过孔内，部分设置于所述平坦层上。3.根据权利要求2所述的彩膜基板，其特征在于，位于相邻的两彩膜图形之间的黑矩阵在所述衬底基板上的正投影与所述相邻的两彩膜图形在所述衬底基板上的正投影部分重叠。4.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，还包括：隔垫物，所述隔垫物设置于所述黑矩阵上，所述隔垫物在所述衬底基板上的正投影位于所述黑矩阵在所述衬底基板上的正投影区域内。5.根据权利要求4所述的彩膜基板，其特征在于，还包括：阴极辅助电极，设置于所述黑矩阵上，所述阴极辅助电极在所述衬底基板上的正投影位于所述黑矩阵在所述衬底基板上的正投影区域内；以及透明导电连接层，覆盖所述隔垫物、所述阴极辅助电极、所述黑矩阵和所述平坦层。6.一种彩膜基板的制作方法，其特征在于，用于形成如权利要求1-5任一项所述的彩膜基板，所述制作方法包括：提...

【专利技术属性】
技术研发人员：宋振，王国英，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11