一种像素界定层及其制备方法、显示面板技术

本申请公开了一种像素界定层及其制备方法、显示面板，用以提高OLED发光层的成膜均匀性、提高OLED发光层的出光效果、提高显示器件的寿命。本申请实施例提供的一种像素界定层，该像素界定层设置在衬底上，所述像素界定层包括：在所述衬底上由亲水像素界定层和疏水像素界定层交替叠层设置的至少四层像素界定子层；与所述衬底相邻的所述像素界定子层为所述亲水像素界定层，在垂直于所述衬底方向上，与所述衬底距离最远的所述像素界定子层为所述疏水像素界定层。

A pixel definition layer and its preparation method and display panel

The application discloses a pixel defining layer, a preparation method and a display panel for improving the film uniformity of the OLED luminous layer, improving the luminous effect of the OLED luminous layer and improving the service life of the display device. A pixel is the embodiment of the application provides the definition layer, the pixel defining layer disposed on the substrate, the pixel defining layer includes: a substrate on which a pixel defining layer hydrophilic and hydrophobic alternating layers of the pixel defining layer is provided with at least four layer pixel circle stator layer; with the pixel boundary layer adjacent to the stator the substrate for the hydrophilic pixel defining layer in the direction perpendicular to the substrate, and the substrate distance of the pixels and the stator layer as far as the hydrophobic pixel defining layer.

【技术实现步骤摘要】
一种像素界定层及其制备方法、显示面板
本申请涉及显示
，尤其涉及一种像素界定层及其制备方法、显示面板。
技术介绍
有机发光二极管(OrganicLight-EmittingDiode，OLED)属于电激发光器件，具有自发光、高发光效率、低工作电压、轻薄、可柔性化以及制程工艺简单等优点，在显示照明等领域应用广泛。目前，OLED中发光层的成膜方式有两种，一种是蒸镀制程，这种最适合小尺寸OLED的生产，且目前已经量产；另一种是溶液制程，这种方法主要是利用已经配置好的有机材料溶液进行旋涂、喷墨打印或丝网印刷等方式成膜，这种方式具有成本低、产能高、适用于大尺寸面板等优点，被国内外广泛研究。其中，喷墨打印技术，由于较高的材料利用率，可作为大尺寸OLED的量产方式。现有技术中的喷墨打印工艺，是采用顶部表面能较小而底部表面能较大的双功能材料作为像素界定层(Pixeldefinitionlayer，PDL)，PDL顶部的表面能较小从而具有疏水的特性，这可以限制发光材料的墨滴在发光区，但是，PDL侧面具有亲水性，这使发光材料的墨滴在干燥过程中会沿着PDL边缘攀爬，形成一个边缘厚、中间薄的膜层，即OLED发光层厚度不均匀，这会影响OLED发光层的出光效果、影响显示器件的寿命。
技术实现思路
本申请实施例提供了一种像素界定层及其制备方法、显示面板，用以提高OLED发光层的成膜均匀性、提高OLED发光层的出光效果、提高显示器件的寿命。本申请实施例提供的一种像素界定层，该像素界定层设置在衬底上，所述像素界定层包括：在所述衬底上由亲水像素界定层和疏水像素界定层交替叠层设置的至少四层像素界定子层；与所述衬底相邻的所述像素界定子层为所述亲水像素界定层，在垂直于所述衬底方向上，与所述衬底距离最远的所述像素界定子层为所述疏水像素界定层本申请实施例提供的像素界定层，由亲水像素界定层和疏水像素界定层交替设置形成，后续在像素界定层之间通过喷墨打印工艺设置OLED发光层时，多层亲水像素界定层的拉力和多层疏水像素界定层的排斥力的交替作用于对发光层材料的墨滴，拉力和排斥力均匀作用于墨滴，从而减少墨滴在干燥过程中沿着像素界定层边缘攀爬，使得墨滴通过干燥过程形成厚度均匀的膜层，从而可以提高发光层成膜的厚度均一性，保证了发光层出光颜色的均一性，提高发光层的出光效果，提高显示器件的寿命。可选地，沿靠近所述衬底指向远离所述衬底的方向上，不同所述亲水像素界定层的厚度逐渐减小。可选地，沿靠近所述衬底指向远离所述衬底的方向上，不同所述疏水像素界定层的厚度逐渐增加。从而可以进一步防止OLED发光材料墨滴在干燥过程中沿着像素界定层边缘攀爬，进一步提高发光层成膜的厚度均一性，提高发光层的出光效果，提高显示器件的寿命。可选地，沿靠近所述衬底指向远离所述衬底的方向上，不同所述疏水像素界定层在垂直于所述衬底方向上的正投影的面积逐渐增加。可选地，沿靠近所述衬底指向远离所述衬底的方向上，不同所述亲水像素界定层在垂直于所述衬底方向上的正投影的面积逐渐增加。可选地，沿靠近所述衬底指向远离所述衬底的方向上，不同所述像素界定子层在垂直于所述衬底方向上的正投影的面积逐渐增加。从而本申请实施例提供的像素界定层在垂直于衬底方向上的界面的轮廓类似于倒梯形，这样，像素界定层中的最上层的疏水像素界定层可以对OLED发光材料的墨滴施加垂直于衬底向下的排斥力，从而可以进一步防止墨滴在干燥过程中沿着像素界定层边缘攀爬，进一步提高发光层成膜的厚度均一性，提高发光层的出光效果，提高显示器件的寿命。可选地，所述疏水像素界定层的材料还包括烷氧基化合物。在疏水性材料中混入烷氧基化合物，从而可以增大疏水像素界定层和亲水像素界定层的贴合性。本申请实施例提供的一种显示面板，包括本申请实施例提供的像素界定层。本申请实施例提供的一种像素界定层制备方法，该方法包括：在衬底上设置亲水像素界定层；在所述亲水像素界定层上交替叠层设置疏水像素界定层和亲水像素界定层，形成包括至少四层像素界定子层的像素界定层；在垂直于所述衬底方向上与所述衬底距离最远的所述像素界定子层为所述疏水像素界定层。本申请实施例提供的像素界定层制备方法，制得的像素界定层由亲水像素界定层和疏水像素界定层交替设置形成，后续在像素界定层之间通过喷墨打印工艺设置OLED发光层时，多层亲水像素界定层的拉力和多层疏水像素界定层的排斥力的交替作用于对发光层材料的墨滴，拉力和排斥力均匀作用于墨滴，从而减少墨滴在干燥过程中沿着像素界定层边缘攀爬，使得墨滴通过干燥过程形成厚度均匀的膜层，从而可以提高发光层成膜的厚度均一性，保证了发光层出光颜色的均一性，提高发光层的出光效果，提高显示器件的寿命。可选地，采用纳米压印工艺设置所述亲水像素界定层和所述疏水像素界定层。附图说明为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简要介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域的普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本申请实施例提供的一种像素界定层的结构示意图；图2为本申请实施例提供的另一种像素界定层的结构示意图；图3为本申请实施例提供的又一种像素界定层的结构示意图；图4为本申请实施例提供的又一种像素界定层的结构示意图；图5为本申请实施例提供的一种像素界定层制备方法的流程示意图；图6为本申请实施例提供的另一种像素界定层制备方法的流程示意图。具体实施方式本申请实施例提供了一种像素界定层及其制备方法、显示面板，用以提高OLED发光层的成膜厚度均一性、提高OLED发光层的出光效果、提高显示器件的寿命。本申请实施例提供的一种像素界定层，如图1所示，该像素界定层6设置在衬底1上，像素界定层1包括：在衬底1上由亲水像素界定层3和疏水像素界定层4交替叠层设置的至少四层像素界定子层2；与衬底1相邻的像素界定子层2为亲水像素界定层3，在垂直于衬底1方向上，与衬底1距离最远的像素界定子层2为疏水像素界定层4本申请实施例提供的像素界定层，由亲水像素界定层和疏水像素界定层交替设置形成，后续在像素界定层之间通过喷墨打印工艺设置OLED发光层时，多层亲水像素界定层的拉力和多层疏水像素界定层的排斥力的交替作用于对发光层材料的墨滴，拉力和排斥力均匀作用于墨滴，从而减少墨滴在干燥过程中沿着像素界定层攀爬，使得墨滴通过干燥过程形成厚度均匀的膜层，从而可以提高发光层成膜的厚度均一性，保证了发光层出光颜色的均一性，提高发光层的出光效果，提高显示器件的寿命。需要说明的是，在制备好的薄膜晶体管(ThinFilmTransistor，TFT)驱动电路衬底基板上涂布一层平坦层，之后，在平坦层上通过溅射形成OLED的电极层，在通过曝光显影刻蚀形成图案化电极，这就制备形成本申请实施例提供的衬底。平坦层的厚度可以是1-10微米，平坦层上设置有过孔，从而可以使得OLED电极与TFT电路连接，且平坦层全部覆盖在衬底基板上，电极层的材料可以是氧化铟锡(Indiumtinoxide，ITO)等，像素界定层与电极相互间隔设置。可选地，沿靠近所述衬底指向远离所述衬底的方向上，不同所述亲水像素界定层的厚度逐渐减小。可选地，沿靠近所述衬底指向远离所述衬本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种像素界定层，该像素界定层设置在衬底上，其特征在于，所述像素界定层包括：在所述衬底上由亲水像素界定层和疏水像素界定层交替叠层设置的至少四层像素界定子层；与所述衬底相邻的所述像素界定子层为所述亲水像素界定层，在垂直于所述衬底方向上，与所述衬底距离最远的所述像素界定子层为所述疏水像素界定层。

【技术特征摘要】
1.一种像素界定层，该像素界定层设置在衬底上，其特征在于，所述像素界定层包括：在所述衬底上由亲水像素界定层和疏水像素界定层交替叠层设置的至少四层像素界定子层；与所述衬底相邻的所述像素界定子层为所述亲水像素界定层，在垂直于所述衬底方向上，与所述衬底距离最远的所述像素界定子层为所述疏水像素界定层。2.根据权利要求1所述的像素界定层，其特征在于，沿靠近所述衬底指向远离所述衬底的方向上，不同所述亲水像素界定层的厚度逐渐减小。3.根据权利要求2所述的像素界定层，其特征在于，沿靠近所述衬底指向远离所述衬底的方向上，不同所述疏水像素界定层的厚度逐渐增加。4.根据权利要求3所述的像素界定层，其特征在于，沿靠近所述衬底指向远离所述衬底的方向上，不同所述疏水像素界定层在垂直于所述衬底方向上的正投影的面积逐渐增加。5.根据权利要求4所述的像素界定层，其特征在于，沿靠近所述衬底指向远离所...

【专利技术属性】
技术研发人员：胡月，王欣欣，彭锐，廖金龙，
申请(专利权)人：合肥鑫晟光电科技有限公司，京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：安徽,34