The invention relates to a mask device, including: mask and a shielding part; a plurality of through holes are uniformly arranged on the mask; the shutter is connected with the mask, the shutter opening through port, through the mouth of the shape of irregular shape, part of the through hole hole alignment on the mask the through holes and openings aligned with the remaining part of a block block connected on the mask through holes on the. Through holes are evenly arranged on the mask plate, the mask has the same mechanical properties of each part, the mask plate deformation, avoid folds, and irregular shape of the opening of the shutter can adapt to screen shaped region AA, organic materials can in turn through the through hole through the mouth and through the mouth aligned deposition to the substrate, and occluded by occlusion of the through hole, can effectively block the organic material, the irregular shape of profiled AA region is formed on the substrate, which has shaped display area display of the evaporation effect is better.
【技术实现步骤摘要】
掩膜装置
本专利技术涉及有机发光显示制造
,特别是涉及掩膜装置。
技术介绍
AMOLED(Active-matrixorganiclightemittingdiode,有源矩阵有机发光二极体)生产制程中最影响良率的制程为蒸镀制程,蒸镀制程的基本过程即通过加热有机材料,使得有机材料蒸发,并通过高精度精细掩膜板蚀刻完成的通孔蒸镀到玻璃基板上,形成发光单元。蒸镀制程中,蒸发后的有机材料通过掩膜板的有效区的通孔蒸镀到基板上,形成显示屏的AA(AtiveArea,有效显示区域)区,也称显示区。高精度精细掩膜板通常通过蚀刻方法制作。高精度精细掩膜板厚度通常不大于40μm,由于其厚度较小,因此,传统的高精度精细掩膜板非常柔软,极易变形。为了防止掩膜板变形,目前传统的高精度精细掩膜板的设计方案通常需要在蒸镀的有效区之外设置Dummy(预留)区,通过Dummy区来减少因高精度精细掩膜板在张网力作用下的变形;然而传统的高精度精细掩膜板的设计方案因有效区和Dummy区之间会存在不被蚀刻的实体部分,导致高精度精细掩膜板整体的力学性能参数不一样,在张网受力的影响下容易产生褶皱,褶皱的 ...
【技术保护点】
一种掩膜装置,其特征在于,包括掩膜板和遮挡件;所述掩膜板上均匀开设有若干通孔;所述遮挡件抵接于所述掩膜板,所述遮挡件开设有通口,所述通口的形状为不规则形状,所述通口对齐于所述掩膜板上的部分所述通孔,且所述通口与对齐的各所述通孔连通,所述遮挡件挡设于所述掩膜板上的剩余部分所述通孔。
【技术特征摘要】
1.一种掩膜装置,其特征在于,包括掩膜板和遮挡件;所述掩膜板上均匀开设有若干通孔;所述遮挡件抵接于所述掩膜板,所述遮挡件开设有通口,所述通口的形状为不规则形状,所述通口对齐于所述掩膜板上的部分所述通孔,且所述通口与对齐的各所述通孔连通,所述遮挡件挡设于所述掩膜板上的剩余部分所述通孔。2.根据权利要求1所述的掩膜装置,其特征在于,所述掩膜板包括预留区和有效蒸镀区,所述预留区设置于所述有效蒸镀区的外侧,所述通口的形状与所述有效蒸镀区的形状匹配,且所述通口对齐于所述有效蒸镀区;各所述通孔包括若干第一通孔和若干第二通孔,各所述第一通孔均匀开设于所述有效蒸镀区,各所述第二通孔均匀开设于所述预留区;所述通口与各所述第一通孔连通,且所述遮挡件挡设于各所述第二通孔。3.根据权利要求2所述的掩膜装置,其特征在于,所述遮挡件的形状与所述预留区的形状匹配,且所述遮挡件对齐于所述预...
【专利技术属性】
技术研发人员:苏君海,龚建国,吴俊雄,冉应刚,柯贤军,李建华,
申请(专利权)人:信利惠州智能显示有限公司,
类型:发明
国别省市:广东,44
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。