一种硅片清洗装置及链式机台制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及硅片生产设备技术领域，尤其涉及一种硅片清洗装置及链式机台，该硅片清洗装置，包括水洗槽、喷淋组件和循环槽；喷淋组件包括喷头，喷头设于水洗槽的上方，循环槽设于水洗槽的下方，循环槽的槽口与水洗槽相对应，所述水洗槽包括并排设置的前洗槽和后洗槽。本实用新型专利技术提供的一种硅片清洗装置及链式机台，去除硅片上带有的药液，进而可避免如制绒液、刻蚀液、碱液、酸液等进入到其他的槽体中，从而保证各槽体中溶液的纯度，延长各槽体药液寿命，提升产能，降低制程风险；同时，其还具有结构简单的特点，可广泛应用于各类型硅片生产的链式机台中。

A silicon wafer cleaning device and a chain machine

The utility model relates to the technical field of wafer production equipment, in particular relates to a wafer cleaning device and a chain machine, the wafer cleaning device, including washing tank, spray components and the circular groove; a spray assembly includes a nozzle, nozzle is arranged above the washing tank, below the circular groove positioned inside the water washing tank, notch of the circulating groove and washing trough correspondingly, the washing tank includes parallel arranged before washing trough and after washing. A wafer cleaning device and a chain machine provided by the utility model, with the removal of liquid silicon, which can avoid such as etching liquid, etching liquid, alkali, acid into the other tank, so as to ensure the purity of the solution in the tank body, prolong the life of the liquid tank, improve productivity, reduce process risk; at the same time, it also has the characteristics of simple structure, can be widely used in various types of silicon wafer production chain machine.

【技术实现步骤摘要】
一种硅片清洗装置及链式机台
本技术涉及硅片生产设备
，尤其涉及一种硅片清洗装置及链式机台。
技术介绍
常规的化石燃料日益消耗殆尽，在现有的可持续能源中，太阳能无疑是一种最清洁、最普遍和最有潜力的替代能源。太阳能发电装置又称为太阳能电池或光伏电池，可以将太阳能直接转换成电能，其发电原理是基于半导体PN结的光生伏特效应。太阳能发电装置的核心是电池片，目前绝大多数都采用硅片制成。现有技术中，晶体硅太阳能电池的制备工艺主要包括：清洗、去损伤层、制绒、扩散制结、刻蚀、沉积减反射膜、印刷、烧结、电池片测试。其中，制绒和刻蚀是晶体硅太阳能电池生产过程中的两个重要工序。在制绒/刻蚀工序中，硅片经传送带依次通过制绒槽(刻蚀槽)，第一水洗槽，碱槽，第二水洗槽，酸槽，第三水洗槽，烘干槽。在硅片传送过程中，硅片经过制绒槽(刻蚀槽)时，会将部分制绒液(刻蚀液)带入第一水洗槽，从而导致第一水洗槽中含有一定浓度的制绒液(刻蚀液)，硅片离开第一水洗槽时，会将这部分制绒液(刻蚀液)带入碱槽，从而与碱槽溶液进行反应，降低碱槽溶液纯度，随着生产的进行，第一水洗槽中制绒液(刻蚀液)逐步增大，碱槽浓度逐步降低，同理，酸本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种硅片清洗装置，其特征在于，包括水洗槽（1）、喷淋组件和循环槽（2）；所述喷淋组件包括喷头（3），所述喷头（3）设于所述水洗槽（1）的上方，所述循环槽（2）设于所述水洗槽（1）的下方，所述循环槽（2）的槽口与所述水洗槽（1）相对应；所述水洗槽（1）包括并排设置的前洗槽（6）和后洗槽（7）；所述喷淋组件包括多个喷头（3），一部分所述喷头（3）连接清水管路（4），另一部分所述喷头（3）通过回水管（5）与所述循环槽（2）连接；所述清水管路（4）连接的所述喷头（3）与所述水洗槽（1）的后洗槽（7）相对设置，所述回水管（5）连接的所述喷头（3）与所述水洗槽（1）的所述前洗槽（6）相对设置。

【技术特征摘要】
1.一种硅片清洗装置，其特征在于，包括水洗槽（1）、喷淋组件和循环槽（2）；所述喷淋组件包括喷头（3），所述喷头（3）设于所述水洗槽（1）的上方，所述循环槽（2）设于所述水洗槽（1）的下方，所述循环槽（2）的槽口与所述水洗槽（1）相对应；所述水洗槽（1）包括并排设置的前洗槽（6）和后洗槽（7）；所述喷淋组件包括多个喷头（3），一部分所述喷头（3）连接清水管路（4），另一部分所述喷头（3）通过回水管（5）与所述循环槽（2）连接；所述清水管路（4）连接的所述喷头（3）与所述水洗槽（1）的后洗槽（7）相对设置，所述回水管（5）连接的所述喷头（3）与所述水洗槽（1）的所述前洗槽（6）相对设置。2.根据权利要求1所述的硅片清洗装置，其特征在于，所述前洗槽（6）的宽度大于所述后洗槽（7）的宽度，且所述前洗槽（6）对应的所述喷头（3）的数量大于所述后洗槽（7）对应的所述喷头（3）的数量。3.根据权利要求1所述的硅片清洗装置，其特征在于，所述喷淋组件包括上下两排所述喷头（3），位于上排的所述喷头（3）和位于下排的所述喷头（3）之间为硅片通道。4.根据权利要求1-3任一项所述的硅片清洗装置，其特征在于，所述喷头（3）为双喷喷头，所述喷头（3）包括两个喷淋口（8），...

【专利技术属性】
技术研发人员：侯玉，易书令，张春华，衡阳，陈佳男，郑旭然，邢国强，
申请(专利权)人：苏州阿特斯阳光电力科技有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏,32