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本实用新型涉及硅片生产设备技术领域，尤其涉及一种硅片清洗装置及链式机台，该硅片清洗装置，包括水洗槽、喷淋组件和循环槽；喷淋组件包括喷头，喷头设于水洗槽的上方，循环槽设于水洗槽的下方，循环槽的槽口与水洗槽相对应，所述水洗槽包括并排设置的前洗槽...
该专利属于苏州阿特斯阳光电力科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过苏州阿特斯阳光电力科技有限公司授权不得商用。

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