大面积拉曼增强基底的制备方法及其产品和应用技术

技术编号:17419281 阅读:35 留言:0更新日期:2018-03-07 16:03
本发明专利技术提供一种大面积拉曼增强基底的制备方法及其产品和应用,所述方法包括:在光滑玻璃或者单晶硅片基底利用磁控溅射共溅射制备一层Ag纳米薄膜,以及在此基础上利用原子层沉积制备一层Al2O3纳米薄膜,在此技术之上再利用磁控溅射制备一层Ag纳米薄膜,然后在氮气保护下进行快速退火处理,最后再在此基础上利用原子层沉积制备一层Al2O3纳米薄膜。本发明专利技术制备工艺简单,其产品的拉曼增强效果优良,且适合于大面积制备。

Preparation of large area Raman enhanced substrate and its products and Applications

The invention provides a large area of enhanced Raman scattering substrate preparation method and its product and application, the method includes: in the smooth glass or silicon substrate by magnetron co sputtering a layer of Ag film, and on the basis of the use of atomic layer deposition preparing a layer of Al2O3 nano films, based on this technology again prepared by magnetron sputtering a layer of Ag film, and then annealed in nitrogen, then on the basis of the use of atomic layer deposition of a layer of Al2O3 nano film preparation. The preparation process of the invention is simple, and the Raman enhancement effect of the product is excellent, and is suitable for large area preparation.

【技术实现步骤摘要】
大面积拉曼增强基底的制备方法及其产品和应用
本专利技术属于纳米薄膜制备以及检测分析领域,尤其涉及一种大面积拉曼增强基底的制备方法及其产品和应用。
技术介绍
拉曼散射是光的一种散射现象,是当单色入射光的光子与待测分子相互作用,发生非弹性碰撞,光子与分子之间发生能量交换,光子改变运动方向和频率所发生的散射拉曼散射光谱由于其对分子和化学键振动峰的特异性,成为一个功能强大的分子检测技术。由于拉曼散射非常小的散射横截面,拉曼散射是一个很弱的过程,而不利于微量物质的定性分析。能否使散射增强是拉曼散射光谱探测技术实用化的关键。1974年Fleischman观察到附着于粗糙金属纳结构表面分子的拉曼散射光谱强度可以大幅度提高,被称为表面增强拉曼散射(Surface-enhancedRamanScattering,简称SERS)。表面增强拉曼散射(SERS)是一种具有表面选择性的增强效应,可以将吸附在材料表面的分子的拉曼信号放大几个数量级,在分析、环境和催化等领域中可以达到超灵敏的检测。常见的表面增强拉曼散射包括粗糙银膜、金纳米粒子、银纳米粒子、金包银纳米粒子等。利用纳米金、银胶体粒子,存在着重复性较差本文档来自技高网...
大面积拉曼增强基底的制备方法及其产品和应用

【技术保护点】
一种大面积拉曼增强基底的制备方法,其特征在于,包含以下步骤:(1)利用磁控溅射在光滑玻璃或者单晶硅片基底上制备60‑100nm厚的Ag纳米薄膜;(2)利用原子层沉积法在上述基底上进一步制备一层2‑8nm厚Al2O3纳米薄膜;(3)再上述基底上进一步利用磁控溅射制备40‑60nm厚Ag纳米薄膜;(4)将上述基底在氮气氛围下,进行快速退火;(5)利用原子层沉积法在退火后的基底上进一步制备1‑5nm厚Al2O3纳米薄膜。

【技术特征摘要】
1.一种大面积拉曼增强基底的制备方法,其特征在于,包含以下步骤:(1)利用磁控溅射在光滑玻璃或者单晶硅片基底上制备60-100nm厚的Ag纳米薄膜;(2)利用原子层沉积法在上述基底上进一步制备一层2-8nm厚Al2O3纳米薄膜;(3)再上述基底上进一步利用磁控溅射制备40-60nm厚Ag纳米薄膜;(4)将上述基底在氮气氛围下,进行快速退火;(5)利用原子层沉积法在退火后的基底上进一步制备1-5nm厚Al2O3纳米薄膜。2.根据权利要求1所述的大面积拉曼增强基底的制备方法,其特征在于,步骤(1)和(3)中所述磁控溅射,用金属Ag靶作为靶材,溅射气氛为氩气。3.根据权利要...

【专利技术属性】
技术研发人员:何丹农尹桂林卢静金彩虹
申请(专利权)人:上海纳米技术及应用国家工程研究中心有限公司
类型:发明
国别省市:上海,31

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