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本发明提供一种大面积拉曼增强基底的制备方法及其产品和应用，所述方法包括：在光滑玻璃或者单晶硅片基底利用磁控溅射共溅射制备一层Ag纳米薄膜，以及在此基础上利用原子层沉积制备一层Al2O3纳米薄膜，在此技术之上再利用磁控溅射制备一层Ag纳米薄膜...该专利属于上海纳米技术及应用国家工程研究中心有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海纳米技术及应用国家工程研究中心有限公司授权不得商用。