一种彩膜基板、其制作方法及显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种彩膜基板、其制作方法及显示装置，该彩膜基板，包括：衬底基板，位于衬底基板上多个呈阵列排布的彩色滤光单元，位于彩色滤光单元之上的平坦层，位于平坦层之上的阴极层，以及位于平坦层与阴极层之间的与阴极层电连接的辅助阴极层；其中，多个颜色不同的彩色滤光单元组成一个像素单元；在至少部分像素单元中，平坦层在相邻的彩色滤光单元之间的位置处设有凹槽结构；至少部分辅助阴极层位于凹槽结构内部。本发明专利技术实施例提供的彩膜基板，在至少部分像素单元中，平坦层在相邻的彩色滤光单元之间的位置处设置凹槽结构，且至少部分辅助阴极层位于凹槽内部，从而可以阻挡发光层斜入射的光线，有效避免了子像素之间漏光的问题。

A color film substrate, its making method and display device

【技术实现步骤摘要】
一种彩膜基板、其制作方法及显示装置
本专利技术涉及显示
，尤指一种彩膜基板、其制作方法及显示装置。
技术介绍
在显示领域，有机电致发光器件(OrganicLight-EmittingDiode，OLED)相对于液晶显示器(LiquidCrystalDisplay，LCD)，具有自发光、反应快、视角广、亮度高、色彩艳、轻薄等优点，被认为是下一代显示技术。OLED器件有底发射和顶发射两种出光方式，顶发射OLED器件相对于底发射OLED器件有更好的分辨率和色彩饱和度，并且发光效率高、色域广且寿命长。与底发射OLED器件相比，顶发射OLED器件由于光是从器件的顶部出射，光线不受背板中薄膜晶体管(ThinFilmTransistor，TFT)的影响，因此其开口率较高，有利于器件与电路的集成，容易实现高分辨率和高画面质量显示。因而有源驱动有机电致发光器件(AM-OLED)有助于未来制备大尺寸、高清晰度有机显示设备，因此广受关注。在顶发射OLED器件的工艺过程中，要求彩膜(CF)基板中的像素结构与背板中的薄膜晶体管(TFT)配合使用，通过将背板玻璃和彩膜基板压合的工艺实现顶发射结构。现有技术本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种彩膜基板，其特征在于，包括：衬底基板，位于所述衬底基板上多个呈阵列排布的彩色滤光单元，位于所述彩色滤光单元之上的平坦层，位于所述平坦层之上的阴极层，以及位于所述平坦层与所述阴极层之间的与所述阴极层电连接的辅助阴极层；其中，多个颜色不同的所述彩色滤光单元组成一个像素单元；在至少部分所述像素单元中，所述平坦层在相邻的所述彩色滤光单元之间的位置处设有凹槽结构；至少部分所述辅助阴极层位于所述凹槽结构内部。

【技术特征摘要】
1.一种彩膜基板，其特征在于，包括：衬底基板，位于所述衬底基板上多个呈阵列排布的彩色滤光单元，位于所述彩色滤光单元之上的平坦层，位于所述平坦层之上的阴极层，以及位于所述平坦层与所述阴极层之间的与所述阴极层电连接的辅助阴极层；其中，多个颜色不同的所述彩色滤光单元组成一个像素单元；在至少部分所述像素单元中，所述平坦层在相邻的所述彩色滤光单元之间的位置处设有凹槽结构；至少部分所述辅助阴极层位于所述凹槽结构内部。2.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述平坦层在任意两个所述彩色滤光单元之间的位置处均设有凹槽结构。3.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述凹槽结构贯穿所述平坦层。4.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，还包括：位于所述衬底基板上用于分隔各所述彩色滤光单元的黑矩阵；所述辅助阴极层在所述衬底基板上的正投影位于所述黑矩阵在所述衬底基板上的正投影所在的范围内。5.如权利要求4所述的彩膜基板，其特征在于，还包括：位于所述平坦层...

【专利技术属性】
技术研发人员：王国英，宋振，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11