一种基板及其制备方法、显示面板、显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术实施例提供一种基板及其制备方法、显示面板、显示装置，涉及显示技术领域，用于解决平坦层在制作过程中出现的凹凸不平的问题。该制备方法包括：形成平坦层；其中，所述形成平坦层包括：在形成有图案化膜层的衬底基板上形成第一子平坦层；所述第一子平坦层的远离所述衬底基板的表面具有凹陷部；在所述凹陷部中形成第二子平坦层，以使所述平坦层的表面的平整度较所述第一子平坦层的远离所述衬底基板的表面的平整度平整。用于形成平坦层。

A substrate and a preparation method, a display panel and a display device

The embodiment of the invention provides a substrate, a preparation method, a display panel and a display device, and relates to the display technology field, which is used to solve the uneven problem in the production process of the flat layer. The preparation method comprises: forming a flat layer; wherein, the formation of a flat layer includes forming a first sub layer flat substrate patterned layer on the formation; the first sub flat layer away from the substrate surface has a hollow part; in form second sub flat layer of the sag and in order to make the surface away from the substrate to the surface layer of the flat flatness is the first sub flat layer roughness formation. Used to form a flat layer.

【技术实现步骤摘要】
一种基板及其制备方法、显示面板、显示装置
本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种基板及其制备方法、显示面板、显示装置。
技术介绍
目前，随着科学技术的快速的发展，各类显示装置逐渐发展起来，例如，液晶显示装置(LiquidCrystalDisplay，简称LCD)、有机电致发光二极管显示装置(OrganicLight-EmittingDiodeDisplay，简称OLED)。无论是LCD显示装置，还是OLED显示装置，在其制作过程中，常会形成平坦层，若平坦层的平整度不够，则像素内容易出现凹凸不平的现象，从而会严重影响显示装置的性能。以OLED显示装置为例，有机电致发光器件的成膜方式主要有溶液制程，溶液制程的成膜方式包括喷墨打印、喷嘴涂覆、旋涂或丝网印刷等。而溶液制程具有液滴自由流淌的特点，这就对平坦层的平整度要求较高，因为平坦层的平整度对液滴的分布影响较大，会影响有机电致发光器件膜层的厚度均匀性，而有机电致发光器件膜层的厚度均匀性又会影响有机电致发光器件发出光的均匀性以及有机电致发光器件的寿命和效率，特别对于顶发射器件来说，其像素电极的平坦状态更差，严重影响发光均匀性和器件性能。而现本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基板的制备方法，其特征在于，包括：形成平坦层；其中，所述形成平坦层包括：在形成有图案化膜层的衬底基板上形成第一子平坦层；所述第一子平坦层的远离所述衬底基板的表面具有凹陷部；在所述凹陷部中形成第二子平坦层，以使所述平坦层的表面的平整度较所述第一子平坦层的远离所述衬底基板的表面的平整度平整。

【技术特征摘要】
1.一种基板的制备方法，其特征在于，包括：形成平坦层；其中，所述形成平坦层包括：在形成有图案化膜层的衬底基板上形成第一子平坦层；所述第一子平坦层的远离所述衬底基板的表面具有凹陷部；在所述凹陷部中形成第二子平坦层，以使所述平坦层的表面的平整度较所述第一子平坦层的远离所述衬底基板的表面的平整度平整。2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，在形成有图案化膜层的衬底基板上形成第一子平坦层，具体包括：在形成有图案化膜层的衬底基板上形成第一子平坦薄膜，对所述第一子平坦薄膜进行干燥处理，以形成第一子平坦层；所述第一子平坦薄膜包括第一子平坦层制备材料和溶剂。3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，在所述凹陷部中形成第二子平坦层，具体包括：在所述凹陷部中形成第二子平坦薄膜，对所述第二子平坦薄膜进行干燥处理，以形成第二子平坦层；所述第二子平坦薄膜包括第二子平坦层制备材料和溶剂。4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，在所述凹陷部中形成第二子平坦层之前，所述制备方法还包括：所述第二子平坦层的材料为亲水性材料，对所述第一子平坦层的表面进行处理，以使所述第一子平坦层的表面具有亲水性；或者，所述第二子平坦层的材料为疏水性材料，对所述第一子平坦层的表面进行处理，以使所述第一子平坦层的表面具有疏水性。5.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，在所述凹陷部中形成第二子平坦薄膜，所述第二子平坦薄膜的厚度大于所述凹陷部的凹陷深度。6.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，...

【专利技术属性】
技术研发人员：贾文斌，王辉锋，廖金龙，朱飞飞，万想，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，合肥鑫晟光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11