彩膜基板及其制作方法以及OLED显示器件技术

本发明专利技术提供一种彩膜基板及其制作方法以及OLED显示器件。该彩膜基板设置第一黑色矩阵(12)与第二黑色矩阵(14)共同进行遮光，能够减小显示混色的风险；设置第一黑色矩阵(12)的第一凹槽(121)与堤坝层(13)的第二凹槽(131)共同盛装并限制制作彩色色阻层(15)所需的打印墨水，且所述第一凹槽(121)的表面具有亲水性，所述第二凹槽(131)的表面具有疏水性，能够改善彩色色阻层(15)的平整度及膜厚均匀性，将该彩膜基板应用于OLED显示器件能够提升显示质量；设置堤坝层(13)与第二黑色矩阵(14)来替代现有技术中的支撑柱，能够简化制程。

Color film substrate and its making method and OLED display

【技术实现步骤摘要】
彩膜基板及其制作方法以及OLED显示器件
本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种彩膜基板及其制作方法以及OLED显示器件。
技术介绍
有机发光二极管显示器件(OrganicLightEmittingDiode，OLED)具有自发光、驱动电压低、发光效率高、响应时间短、清晰度与对比度高、近180°视角、使用温度范围宽、可实现柔性显示与大面积全色显示等诸多优点，被业界公认为是下一代的平面显示器新兴应用技术。OLED显示器件实现全彩显示的方式有以下几种：一、采用红绿蓝三种颜色的有机发光层直接发光；二、采用白色有机发光层加彩膜(ColourFilter，CF)；三、采用蓝色有机发光层加光色转换层。目前，对于采用白色有机发光层加彩膜实现全彩显示的OLED显示器件，其彩膜基板的设计需要参照液晶显示器(LiquidCrystalDisplay，LCD)中的彩膜基板结构。如图1所示，现有OLED显示器件的彩膜基板100一般包括封装盖板101、设在所述封装盖板101上的黑色矩阵(BlackMatrix，BM)102、填充所述黑色矩阵102空隙的彩色色阻层103、覆盖所述黑色矩阵102与彩色色阻层10本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种彩膜基板，其特征在于，包括：载体基板(11)、设在所述载体基板(11)上的第一黑色矩阵(12)、设在所述第一黑色矩阵(12)上的堤坝层(13)、于所述第一黑色矩阵(12)上覆盖所述堤坝层(13)的第二黑色矩阵(14)以及彩色色阻层(15)；所述第一黑色矩阵(12)具有呈阵列式排布的多个第一凹槽(121)，所述堤坝层(13)具有呈阵列式排布的多个第二凹槽(131)，一第二凹槽(131)对应位于一第一凹槽(121)上方；所述彩色色阻层(15)填充于由所述载体基板(11)、第一凹槽(121)与第二凹槽(131)限定的空间内；所述载体基板(11)的表面具有亲水性，所述第一凹槽(121)的表面具有亲...

【技术特征摘要】
1.一种彩膜基板，其特征在于，包括：载体基板(11)、设在所述载体基板(11)上的第一黑色矩阵(12)、设在所述第一黑色矩阵(12)上的堤坝层(13)、于所述第一黑色矩阵(12)上覆盖所述堤坝层(13)的第二黑色矩阵(14)以及彩色色阻层(15)；所述第一黑色矩阵(12)具有呈阵列式排布的多个第一凹槽(121)，所述堤坝层(13)具有呈阵列式排布的多个第二凹槽(131)，一第二凹槽(131)对应位于一第一凹槽(121)上方；所述彩色色阻层(15)填充于由所述载体基板(11)、第一凹槽(121)与第二凹槽(131)限定的空间内；所述载体基板(11)的表面具有亲水性，所述第一凹槽(121)的表面具有亲水性，所述第二凹槽(131)的表面具有疏水性；所述第一凹槽(121)的接触角小于第二凹槽(131)的接触角。2.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，还包括覆盖所述彩色色阻层(15)、第二黑色矩阵(14)与第一黑色矩阵(12)的保护层(17)。3.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述第一黑色矩阵(12)与第二黑色矩阵(14)的材料均为黑色有机树脂或黑色无机薄膜，所述堤坝层(13)的材料为含有氟元素的有机树脂。4.如权利要求3所述的彩膜基板，其特征在于，所述黑色无机薄膜为金属氧化物或金属硫化物。5.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述第一黑色矩阵(12)的厚度为100nm～5000nm，所述堤坝层(13)的厚度为1um～10um，所述第二黑色矩阵(14)的厚度为100nm～2000nm。6.如权利要求...

【专利技术属性】
技术研发人员：李文杰，刘亚伟，
申请(专利权)人：深圳市华星光电半导体显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44