一种晶圆承载台制造技术

技术编号:17171606 阅读:27 留言:0更新日期:2018-02-02 04:48
一种晶圆承载台,包括旋转轴;所述旋转轴上固定有一个晶圆承载台;所述晶圆承载台上设有8个圆环形开口晶圆槽;所述8个圆环形开口晶圆槽呈正方形排列,两两一边,晶圆槽开口方向与其所在的一边垂直向外;所述晶圆槽向内设有至少两挡台阶,以放置不同尺寸的晶圆;本实用新型专利技术所述的晶圆承载台,一次可放置8片晶圆,可提供2片晶圆进行同步加工,且可在2片晶圆加工好之后旋转承载台,将其移出加工位,执行下一个工序,并同时将2片待加工的晶圆旋转至加工位进行同步加工,本实用新型专利技术所述的晶圆承载台节省了晶圆加工过程中的等待过程,大大加快了加工效率。

A type of wafer bearing platform

A wafer loading table includes a rotating shaft; a wafer bearing platform fixed on the rotating shaft; the wafer supporting platform is provided with 8 annular opening wafer groove; the 8 ring opening slot forms a square array wafer, 22 side, and the wafer slot opening on the side of the vertical direction outward; the wafer retaining groove is provided with at least two steps to place the wafers of different sizes; the utility model of the wafer bearing platform, a wafer can be placed 8, can provide 2 wafers for synchronous processing, and rotation after wafer processing 2 good pieces removed from the bearing table. Processing, the execution of the next step, and at the same time the 2 pieces to be machined to the processing of wafer rotation synchronous processing, the utility model of the wafer bearing platform saves wafer processing in the waiting process, greatly speeding up Processing efficiency.

【技术实现步骤摘要】
一种晶圆承载台
本技术涉及集成电路加工
,尤其涉及集成电路加工处理过程中的晶圆传输承载装置。
技术介绍
集成电路技术对现代社会科技的发展十分重要,各类电子商品,其内部均存在集成电路组件。在竞争激烈的集成电路工业之中,集成电路组件的产率以及良率,是生产企业立足与发展的重要条件。晶圆是当前集成电路的基础半成品,晶圆的加工处理的好坏快慢也是影响集成电路发展重要的因素之一。在晶圆的加工过程中,需要使用相关设备,对晶圆进行加工处理,例如,对其进行光刻、离子注入、机械研磨设备、光刻与涂胶设备或者硅片清洗设备等流程。在现有技术中,大多是晶圆承载台上只能放置一片晶圆,待这一片晶圆加工处理完成后,使用机械手臂等装置先将其移走,然后再移入未处理的晶圆。此种过程移动过程浪费时间较多,且移动时处理过程只能暂停,因此整体工作效率低下。为此,本专利技术特设计了一种晶圆承载台,能一次传输2片晶圆进行同步加工,并且加工过程不会因为机械手臂转移晶圆而暂停。
技术实现思路
本技术的目的是提供一种晶圆承载台,能一次传输2片晶圆进行同步加工,并且加工过程不会因为机械手臂转移晶圆而暂停,节省了晶圆加工过程中的等待过程,大大加快了加工效率。为实现上述目的,本技术所提供的技术方案是:一种晶圆承载台,包括旋转轴;所述旋转轴上固定有一个晶圆承载台;所述晶圆承载台上设有8个圆环形开口晶圆槽;所述8个圆环形开口晶圆槽呈正方形排列,两两一边,晶圆槽开口方向与其所在的一边垂直向外;所述晶圆槽向内设有至少两挡台阶,以放置不同尺寸的晶圆;本专利技术所述的晶圆承载台,一次可放置8片晶圆,可提供2片晶圆进行同步加工,且可在2片晶圆加工好之后旋转承载台,将其移出加工位,执行下一个工序,并同时将2片待加工的晶圆旋转至加工位进行同步加工。进一步的,所述的一种晶圆承载台,应用于离子注入设备、机械研磨设备、光刻与涂胶设备或者硅片清洗设备。相较于现有的晶圆承载台,本技术的有益效果是:本专利技术所述的晶圆承载台,改善了在现有技术中,大多是晶圆承载台上只能放置一片晶圆,待这一片晶圆加工处理完成后,使用机械手臂等装置先将其移走,然后再移入未处理的晶圆的方式。本专利技术所述的晶圆承载台一次可放置8片晶圆,可提供2片晶圆进行同步加工,且可在2片晶圆加工好之后旋转承载台,将其移出加工位,执行下一个工序,并同时将2片待加工的晶圆旋转至加工位进行同步加工,本专利技术所述的晶圆承载台节省了晶圆加工过程中的等待过程,大大加快了加工效率。附图说明图1为一种晶圆承载台示意图;图2为一种晶圆承载台剖面示意图;1.旋转轴;2.承载台;3.晶圆槽;4.晶圆槽第一台阶;5.晶圆槽第二台阶。具体实施方式下面结合附图和实施例对本技术做进一步说明。本技术较佳实施例为:参见附图1、附图2。本实例一种晶圆承载台,包括旋转轴1,旋转轴1固定在离子注入设备、机械研磨设备、光刻与涂胶设备或者硅片清洗设备中;所述旋转轴1上固定有一个晶圆承载台2,通过控制旋转转轴1的旋转,带动晶圆承载台2的转动,以转移晶圆;所述晶圆承载台2上设有8个圆环形开口晶圆槽3,所述晶圆槽3是中空且开口的,呈圆环形;所述8个圆环形开口晶圆槽3呈正方形排列,两两一边,晶圆槽3开口方向与其所在的一边垂直向外,便于机械手臂抓取转移晶圆,且所述晶圆槽3开口宽度小于晶圆槽3的直径,大于机械手臂末端执行器的宽度;所述晶圆槽3向内设有至少包括晶圆槽第一台阶4、晶圆槽第二台阶5的两挡台阶,以放置不同尺寸的晶圆;本专利技术所述的晶圆承载台,一次可放置8片晶圆,可提供2片晶圆进行同步加工,且可在2片晶圆加工好之后旋转承载台,将其移出加工位,执行下一个工序,并同时将2片待加工的晶圆旋转至加工位进行同步加工。以上所述实例只为本技术之较佳实例,并非以此限制本技术的实施范围。故任何在上述实施方式的精神和原则内所做的修改、等同替换和改进等,均应包含在该技术的保护范围内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种晶圆承载台,其特征是:包括旋转轴;所述旋转轴上固定有一个晶圆承载台;所述晶圆承载台上设有8个圆环形开口晶圆槽;所述8个圆环形开口晶圆槽呈正方形排列,两两一边,晶圆槽开口方向与其所在的一边垂直向外;所述晶圆槽向内设有至少两挡台阶,以放置不同尺寸的晶圆。

【技术特征摘要】
1.一种晶圆承载台,其特征是:包括旋转轴;所述旋转轴上固定有一个晶圆承载台;所述晶圆承载台上设有8个圆环形开口晶圆槽;所述8个圆环形开口晶圆槽呈正方形排列,两两一边,晶圆槽开口方向与其所在的一边垂直...

【专利技术属性】
技术研发人员:王子菲
申请(专利权)人:上海陛通半导体能源科技股份有限公司
类型:新型
国别省市:上海,31

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