一种可适用于多尺寸样片的样片托盘制造技术

本发明专利技术公开了一种可适用于多尺寸样片的样片托盘，包括托盘本体，所述托盘本体的表面开设有多种尺寸的多个样片放置槽，一个所述样片放置槽用于承载一枚相应尺寸的样片，相邻的两个所述样片放置槽的相对位置为相离、外切或相交设置；其能够用于作业多种不同尺寸的样片，通用性强，因而作业过程大大简化。

A sample tray for multi - size sample

The invention discloses a sample tray for sample size, which comprises a tray body, wherein the surface of the tray body is provided with a plurality of samples in a variety of sizes of the placing groove, a groove for the sample carrying a corresponding size of the sample, the relative position of the two adjacent sample placement for the separation, cut or set intersection; it could be used for the operation of various sizes, style, versatility, and operation process is greatly simplified.

【技术实现步骤摘要】
一种可适用于多尺寸样片的样片托盘
本专利技术涉及半导体以及机械加工设备
，尤其涉及一种可适用于多尺寸样片的样片托盘。
技术介绍
在机械加工以及半导体制备行业中，部分工艺如等离子体沉积、等离子体刻蚀、溅射、材料蒸发、机械打孔、研磨等都需要将待作业的样片放置于样片托盘上，利用样片托盘来进行后续作业。现有技术中，如图1、2所示，这种样片托盘包括托盘本体1，在托盘本体1的表面开设一种规格尺寸的样片放置槽，如第一样片放置槽2或第二样片放置槽3。作业时样品放置于样片放置槽内，利用样片放置槽对样片起一定的固定作用。然而，一种规格尺寸的样片放置槽一般只适用于一种对应规格的样片的放置，而在需要作业不同尺寸的样片时就需要频繁更换具有不同规格尺寸的样片放置槽的托盘(载盘)，由于作业样片的尺寸差异大，种类多，设备需要同时配备多个不同开槽尺寸的托盘(载盘)才能够满足作业需要。而且在托盘更换前后，对于半导体行业(如等离子体刻蚀)，还需要花费一定时间去进行一系列的工艺验证环节，才可以使用托盘，导致作业过程复杂，托盘存放占用空间大。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提出一种可适用于多尺寸样片的样片托盘，能够用于作业多种不同尺寸的样片，通用性强，因而作业过程大大简化。为达此目的，本专利技术采用以下技术方案：一种可适用于多尺寸样片的样片托盘，包括托盘本体，所述托盘本体的表面开设有多种尺寸的多个样片放置槽，一个所述样片放置槽用于承载一枚相应尺寸的样片，相邻的两个所述样片放置槽的相对位置为相离、外切或相交设置。优选的，多种尺寸的多个所述样片放置槽的底部平整，且深度一致。优选的，同一种尺寸的所述样片放置槽的中心位于以所述托盘本体的中心为圆心的圆周上。优选的，不同尺寸的所述样片放置槽的中心位于以所述托盘本体的中心为圆心的圆周上。优选的，同一尺寸的所述样片放置槽的中心等分以所述托盘本体的中心为圆心的圆周。本专利技术的有益效果为：本专利技术的可适用于多尺寸样片的样片托盘，通过在一个样片托盘的托盘本体上设置多种不同尺寸的多个样片放置槽，多个样片放置槽的相对位置可以为相离、外切或相交设置，因此，一个样片放置槽中可以放置一片相应尺寸的样片，通过样片放置槽实现最基础的侧部限位，此外，由于对应于一种设备的样片托盘的规格尺寸是固定的，在该固定尺寸的样片托盘上通过相离、外切或相交可以设置多种不同尺寸样片放置槽，可以用于作业多种不同尺寸的样片，极大地扩大其应用范围，通用性强，因而作业过程大大简化。附图说明图1是现有技术中的样片托盘的结构示意图一。图2是现有技术中的样片托盘的结构示意图二。图3是本专利技术的样片托盘的一种实施例的结构示意图。图4是图3中的样片托盘的另一种实施例的结构示意图。图5是图3中的样片托盘在A-A处的剖面结构示意图。图6是本专利技术的样片托盘的又一种实施例的结构示意图。图7是图6中的样片托盘的另一种实施例的结构示意图。图8是本专利技术的样片托盘的再一种实施例的结构示意图。图9是图8中的样片托盘的另一种实施例的结构示意图。图中：1-托盘本体；2-第一样片放置槽；3-第二样片放置槽。具体实施方式下面结合附图并通过具体实施方式来进一步说明本专利技术的技术方案。实施例一如图3、图4所示，在本实施例中，一种可适用于多尺寸样片的样片托盘，包括托盘本体1，所述托盘本体1的表面开设有多种尺寸的多个样片放置槽，一个所述样片放置槽用于承载一枚相应尺寸的样片，相邻的两个所述样片放置槽的相对位置为相离。优选的，如图5所示，多种尺寸的多个所述样片放置槽的底部平整，且深度一致。在实际加工时，多种尺寸的所述样片放置槽中，同一种尺寸的所述样片放置槽的放置形式可以根据实际托盘本体的尺寸以及自身的尺寸进行具体调整，可以是规则排布，也可以是不规则排布，而在本实施例中，如图3所示，同一种尺寸的所述样片放置槽的中心位于以所述托盘本体1的中心为圆心的圆周上，且同一尺寸的所述样片放置槽的中心等分以所述托盘本体1的中心为圆心的圆周。进一步地，不同尺寸的所述样片放置槽的中心可以位于以所述托盘本体1的中心为圆心的不同半径的圆周上，优选的，如图4所示，在本实施例中，不同尺寸的所述样片放置槽的中心位于以所述托盘本体1的中心为圆心的圆周上。这样排布可以使得同一种尺寸的样片放置槽的放置位置分布比较均匀，当放入样品之后也会使得整个托盘本体的受力各个方面都较为均衡，有利于后续的加工处理，也有利于保护托盘本体。进一步地，同一尺寸的相邻两个所述样片放置槽之间可以设置有其他尺寸的样片放置槽，也可以不设置，具体要根据实际的样片放置槽的尺寸以及托盘本体的尺寸来确定。在本实施例中，为了在固定规格的托盘本体上放置更多的样片放置槽，同一尺寸的相邻两个所述样片放置槽之间设置有至少一个其他尺寸的所述样片放置槽，这样，可以实现一大一小间隔设置，从而更加有效地利用样片托盘，达到充分利用，避免浪费空间。在本实施例中，如图3、图4所示，所述托盘本体1的表面开设有两种尺寸的所述样片放置槽。具体地，两种尺寸的样片放置槽是指第一样片放置槽2和第二样片放置槽3，且第一样片放置槽2的中心和第二样片放置槽3的中心均在以托盘本体1的中心为圆心的的同一圆周上；第一样片放置槽2和第二样片放置槽3间隔设置；第一样片放置槽2与第一样片放置槽2之间、第一样片放置槽2与第二样片放置槽3之间、以及第二样片放置槽3与第二样片放置槽3之间均为相离设置。实施例二如图6、图7所示，在本实施例中，其与实施例一的不同之处在于：相邻的两个所述样片放置槽为外切设置。实施例三如图8、图9所示，在本实施例中，其与实施例一的不同之处在于：相邻的两个所述样片放置槽为相交设置。在本专利技术中，两种是指两个不同尺寸规格，多种是指多个不同尺寸规格，其仅仅用于说明样片托盘上的样片放置槽的尺寸的种类个数，并不用于限定其个数。在本专利技术中，托盘本体1的材质可以为碳化硅、金属、塑料、陶瓷、氧化铝或氮化铝。在本专利技术中，样片放置槽的尺寸(尺寸是指内径、内侧长宽或边长)、深度都是根据实际样片的尺寸、厚度来确定的，此处不做限定。在本专利技术中，样片放置槽的形状可以为圆形、方形、椭圆形或多边形，其根据实际样片的形状而定，样片放入样片放置槽时，样片的底面是与对应的样片放置槽的底面实实在在的全部接触，样片的侧部与样片放置槽的侧部为间隙设置，因而这种方式在工艺制作时更加容易保证工艺，明显优于底部有悬空的结构形式。在本专利技术中，无论是相离、外切还是相交设置时，所有的样片放置槽的深度均保持一致，这样不仅可以减少加工过程中对每个样片放置槽的深度的多次核对和多次加工工序，容易加工，而且容易保证加工质量，在样品放入时，也更好保证放入的样品所处的位置高度，便于后续加工处理，更容易保证产品加工的一致性。本专利技术的样片托盘，其通过在样片托盘上进行不同尺寸的开槽，从而满足不同尺寸样片的作业要求。在既定的托盘本体1的固定面积的情况下，托盘本体上的开槽在相交时有部分位置重合，这样既能达到不同尺寸样片的可作业能力，还可以增大产能；作业不同尺寸样片时，也就不需要制备多个样片托盘，节省材料，减少占用空间；在半导体制备行业中，避免了设备作业不同尺寸样片时更换样片托盘所进行的一系列的工艺验证环节，节省时间，也能够保证工艺稳定性。以上结合具体实施例描述了本专利技术的技术原理。这些描述本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种可适用于多尺寸样片的样片托盘，包括托盘本体(1)，其特征在于，所述托盘本体(1)的表面开设有多种尺寸的多个样片放置槽，一个所述样片放置槽用于承载一枚相应尺寸的样片，相邻的两个所述样片放置槽的相对位置为相离、外切或相交设置。

【技术特征摘要】
1.一种可适用于多尺寸样片的样片托盘，包括托盘本体(1)，其特征在于，所述托盘本体(1)的表面开设有多种尺寸的多个样片放置槽，一个所述样片放置槽用于承载一枚相应尺寸的样片，相邻的两个所述样片放置槽的相对位置为相离、外切或相交设置。2.根据权利要求1所述的样片托盘，其特征在于，多种尺寸的多个所述样片放置槽的底部平整，且深度一致。3.根据权利要求1所...

【专利技术属性】
技术研发人员：顾庆钊，
申请(专利权)人：苏州能讯高能半导体有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏,32