一种沟道槽翘曲度测量方法及装置制造方法及图纸

本申请实施例提供一种半导体存储器制造工艺过程中沟道槽翘曲度测量方法和装置，所述方法包括：获取沟道槽图像，对所述沟道槽图像进行处理得到所述沟道槽壁面第一边界各点的坐标以及第二边界各点的坐标；根据所述沟道槽壁面第一边界各点的坐标和第二边界各点的坐标计算得到各中心点坐标；选取所述沟道槽顶部中心点作为基准中心点，确定所述基准中心点的法线；计算各中心点坐标相对于所述法线在水平方向上的偏离程度值作为所述沟道槽的翘曲度值。本申请实施例可以有效提高沟道槽翘曲度测量的准确性和效率。

【技术实现步骤摘要】
一种沟道槽翘曲度测量方法及装置
本申请实施例涉及半导体
，具体涉及一种半导体存储器制造工艺过程中沟道槽翘曲度测量方法及装置。
技术介绍
在半导体
，沟道槽刻蚀壁面的翘曲程度对后续工艺中沟道槽的填充、刻蚀均匀性具有显著影响。若沟道槽翘曲程度高，会引起栅线处淀积钨的侧壁厚度不均匀，进而导致栅线处钨和氮化钛层在淀积钨较厚处出现钨的残留，影响半导体器件的电学性能。因此，如何准确测量沟道槽刻蚀壁面的翘曲度成为一个重要的问题。现有技术中，在测量沟道槽刻蚀壁面的翘曲度时，一般通过人眼判断、标定测量照片中沟道槽刻蚀壁面的位置，根据标定的位置测量沟道槽在不同截面处的宽度，然后计算这些宽度值的3倍方差的平均值来表征沟道槽刻蚀壁面的翘曲度。申请人经过大量研究发现，尽管现有的测量方法可以在一定程度上反映出沟道槽壁面的翘曲程度，但是存在如下缺点：(1)现有技术中的测量方法通过人眼判断标定沟道槽刻蚀壁面的位置，存在主观性强、测量精度低、效率低的缺陷。(2)现有技术通过计算沟道槽在纵向上不同深度处的宽度的3倍方差值的方式来计算翘曲度，这种计算方式不能有效区分沟道槽宽度呈对称型变化但翘曲程度大的壁面形貌本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种沟道槽翘曲度测量方法，其特征在于，包括：获取沟道槽图像，对所述沟道槽图像进行处理得到所述沟道槽壁面第一边界各点的坐标以及第二边界各点的坐标；根据所述沟道槽壁面第一边界各点的坐标和第二边界各点的坐标计算得到各中心点坐标；选取所述沟道槽顶部中心点作为基准中心点，确定所述基准中心点的法线；计算各中心点坐标相对于所述法线在水平方向上的偏离程度值作为所述沟道槽的翘曲度值。

【技术特征摘要】
1.一种沟道槽翘曲度测量方法，其特征在于，包括：获取沟道槽图像，对所述沟道槽图像进行处理得到所述沟道槽壁面第一边界各点的坐标以及第二边界各点的坐标；根据所述沟道槽壁面第一边界各点的坐标和第二边界各点的坐标计算得到各中心点坐标；选取所述沟道槽顶部中心点作为基准中心点，确定所述基准中心点的法线；计算各中心点坐标相对于所述法线在水平方向上的偏离程度值作为所述沟道槽的翘曲度值。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述计算各中心点坐标相对于所述法线在水平方向上的偏离程度值作为所述沟道槽的翘曲度值具体通过以下公式：其中，T为翘曲度值，Xi为第i个中心点的横坐标，X1为第1个中心点的横坐标，n为中心点的个数。3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述获取沟道槽图像，对所述沟道槽图像进行处理得到所述沟道槽壁面第一边界各点的坐标和第二边界各点的坐标包括：获取所述沟道槽图像的灰度图像；对所述灰度图像进行降噪处理；对所述降噪处理后的灰度图像进行边缘检测处理，获得所述沟道槽壁面第一边界各点的坐标以及第二边界各点的坐标。4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述根据所述沟道槽壁面第一边界各点的坐标和第二边界各点的坐标计算得到各中心点坐标具体通过以下公式：其中，Xi为第i个中心点的横坐标，XAi为第一边界上第i个点的横坐标，XBi为第二边界上第i个点的横坐标，i为正整数。5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法还包括：当所述沟道槽图像为多个，每个沟道槽图像包括多个沟道槽时，保存沟道槽图像、测量位置、晶圆之间的对应关系；所述计算各中心点坐标相对于所述法线在水平方向上的偏离程度值作为所述沟道槽的翘曲度值包括：获取各测量位置对应的各沟道槽的中心点坐标，分别计算各沟道槽的中心点坐标相对于所述法线在水平方向上的偏离程度值作为所述沟道槽的翘曲度值；和/或，获取各...

【专利技术属性】
技术研发人员：芈健，陈子琪，乐陶然，刘欢，郭玉芳，
申请(专利权)人：长江存储科技有限责任公司，
类型：发明
国别省市：湖北,42