【技术实现步骤摘要】
一种硅单晶炉
本专利技术涉及光伏领域,尤其涉及一种硅单晶炉。
技术介绍
单晶硅作为一种半导体材料,一般用于制造集成电路和其他电子元件,目前单晶硅的生长技术有两种:区熔法和直拉法,其中直拉法是目前普遍采用的方法。在直拉法制造单晶硅时,要将多晶料置于石英坩埚中,经过高温加热使其熔化,然后籽晶由顶部降下至熔化的多晶硅中,通过控制液面的温度,使熔化的多晶硅在籽晶周围重新结晶,生成排列整齐的单晶硅棒。目前,硅单晶炉在生产过程中,由于冷却结晶速度较慢,由此,向上提拉硅单晶的速度不能过快,从而大大影响了生产效率,由此,急需解决。
技术实现思路
本专利技术的目的在于针对上述问题,提供一种硅单晶炉,以解决现有硅单晶炉生产效率低的问题。本专利技术的目的是通过以下技术方案来实现:一种硅单晶炉,包括炉体,所述炉体的一侧设置有抽真空口,炉体内位于其下部设置有保温筒,所述保温筒内设置有石墨钳锅,所述石墨钳锅的外侧设置有加热器,所述加热器与电极相连,所述石墨钳锅内设置有石英钳锅,保温筒内位于石英钳锅的上部设置有导流筒,炉体内位于导流筒的上部设置有冷却筒,所述冷却筒设置有夹层,所述夹层内通有循环冷却水。作为本专利技术的一种优选方案,所述保温筒与炉体之间设置有保温材料。作为本专利技术的一种优选方案,所述保温材料为保温毡。本专利技术的有益效果为,所述一种硅单晶炉通过在导流筒的上部增设冷却筒,起到加速冷却硅单晶的作用,进而可以提高硅单晶向上提拉的速度,从而提高生产效率,结构简单、易于实现。附图说明图1为本专利技术一种硅单晶炉的结构示意图。图中:1、炉体;2、抽真空口;3、保温筒;4、保温毡;5、托 ...
【技术保护点】
一种硅单晶炉,其特征在于:包括炉体,所述炉体的一侧设置有抽真空口,炉体内位于其下部设置有保温筒,所述保温筒内设置有石墨钳锅,所述石墨钳锅的外侧设置有加热器,所述加热器与电极相连,所述石墨钳锅内设置有石英钳锅,保温筒内位于石英钳锅的上部设置有导流筒,炉体内位于导流筒的上部设置有冷却筒,所述冷却筒设置有夹层,所述夹层内通有循环冷却水。
【技术特征摘要】
1.一种硅单晶炉,其特征在于:包括炉体,所述炉体的一侧设置有抽真空口,炉体内位于其下部设置有保温筒,所述保温筒内设置有石墨钳锅,所述石墨钳锅的外侧设置有加热器,所述加热器与电极相连,所述石墨钳锅内设置有石英钳锅,保温筒内位于石英钳锅的上部设置有导...
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