成膜设备制造技术

本实用新型专利技术提供一种成膜设备，属于成膜技术领域，其可至少部分解决现有的防着板清洁完全靠人工进行的问题。本实用新型专利技术的成膜设备包括：成膜腔，其用于在设于其内部的基板上成膜；传送单元，其用于沿传送路径将防着板送入成膜腔并移动到预定位置，以及沿传送路径将防着板移出成膜腔；清洁单元，其设于所述成膜腔外的传送路径处，用于对由成膜腔移出的防着板进行清洁。

【技术实现步骤摘要】
成膜设备
本技术属于成膜
，具体涉及一种成膜设备。
技术介绍
溅射成膜是显示面板、触摸屏、半导体等领域中一种常用的成膜技术，其是在真空的溅射腔中，用氩离子轰击成膜材料的靶材，从而将靶材粒子溅射出来并沉积在基板(如玻璃基板、半导体基板等)上形成膜层。为防止溅射到基板外的靶材粒子沉积在腔壁等处而造成污染，需要在基板边缘外设置防着板，以使射到基板外的靶材粒子沉积在防着板上。随着溅射成膜的进行，防着板表面堆积的靶材粒子和灰尘逐渐增加，附着能力变差，靶材粒子容易掉落而导致膜层品质变差，因此要定期对防着板进行清洁。现有的防着板清洁方法是将设备停机，打开溅射腔，人工将防着板逐一拆下(防着板有多块并通过螺钉分别固定)送去清洁，再安装新防着板。以上防着板清洁过程完全人工进行，工作量大，容易造成零件损坏、丢失，如果防着板安装位置不准确还可能与基板干涉，造成产品破碎、玻璃划伤、放电击穿等；而且，部分溅射材料会产生粉尘等有害物质，人员直接拆装防着板需要接触有害物质，影响身心健康；同时，以上过程要经过停机、降温、破真空、开机、抽真空、升温等一系列的工序后才能继续进行溅射工作，耗时长，严重降低设备的稼动率本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种成膜设备，包括成膜腔，其用于在设于其内部的基板上成膜，其特征在于，所述成膜设备还包括：传送单元，其用于沿传送路径将防着板送入成膜腔并移动到预定位置，以及沿传送路径将防着板移出成膜腔；清洁单元，其设于所述成膜腔外的传送路径处，用于对由成膜腔移出的防着板进行清洁。

【技术特征摘要】
1.一种成膜设备，包括成膜腔，其用于在设于其内部的基板上成膜，其特征在于，所述成膜设备还包括：传送单元，其用于沿传送路径将防着板送入成膜腔并移动到预定位置，以及沿传送路径将防着板移出成膜腔；清洁单元，其设于所述成膜腔外的传送路径处，用于对由成膜腔移出的防着板进行清洁。2.根据权利要求1所述的成膜设备，其特征在于，所述传送单元包括：多个沿所述传送路径连续设置的、用于承载并输送防着板的传送器，各传送器能被独立控制。3.根据权利要求2所述的成膜设备，其特征在于，所述传送单元还包括：至少一个设于所述传送路径上的转向模块，其用于改变防着板的朝向。4.根据权利要求3所述的成膜设备，其特征在于，所述转向模块包括：用于承载所述防着板的转向平台；用于使所述转向平台转动的转向驱动器。5.根据权利要求1所述的成膜设备，其特征在于，所述传送单元包括：多个用于检测防着板位置的位置传感器。6.根据权利要求1所述的成膜设备，其特征在于，所述成膜设备还包括多个防着板，所述防着板包括：用于与传送单元接触的底部；与所述底部相对的顶部；连接在所述底部与顶部间的两个侧部；被所述底部、顶部、侧部围绕的正面和背面，所述正面用于承接成膜材料。7.根据权利要求6所述的成膜设备，其特征在于，所述防着板的侧部设有用于与相邻防着板的侧部拼接的拼接结构。8.根据权利要求7所述的成膜设备，其特征在于，所述防着板的至少一个侧部设有弹性块。9.根据权利要求6所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈广飞，刘大刚，刘峰，
申请(专利权)人：合肥鑫晟光电科技有限公司，京东方科技集团股份有限公司，
类型：新型
国别省市：安徽,34