一种采用物理气相沉积工艺溅镀涂层的装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种采用物理气相沉积工艺溅镀涂层的装置，包括旋转轴、等离子体发生器、原材料单元、真空溅镀工作主室，所述等离子体发生器、所述原材料单元以及所述真空溅镀工作主室顺序连接，所述原材料单元具有铜电极棒和用于提供溅射镀膜的原材料，所述原材料设置在靠近所述原材料单元与所述真空溅镀工作主室的连接处，所述铜电极棒的一端与所述等离子体发生器连接，所述铜电极棒的另一端与所述原材料相接触，所述真空溅镀工作主室具有一容纳所述旋转轴的工作空间，所述旋转轴的轴线与所述原材料所在平面平行，所述旋转轴套设有多个待处理工件。本发明专利技术能够提高金属刀具、工装夹具模具的表面镀膜的均匀性，并提高原材料的利用率。

【技术实现步骤摘要】
一种采用物理气相沉积工艺溅镀涂层的装置
本专利技术涉及表面涂层制备领域，特别涉及一种采用物理气相沉积工艺溅镀涂层的装置。
技术介绍
在高速切削中，由于刀具表面和被加工工件之间剧烈的摩擦而产生极高的切削热，从而导致刀具与工件接触的表面产生磨损，甚至导致刀具失效。因此，在刀具表面沉积涂层成为了保护刀具不受切削热影响的有效方法。在刀具表面制备涂层一般采用化学气相沉积和物理气相沉积。其中，物理气相沉积(PVD)的溅射镀膜是指在真空条件下，利用获得功能的粒子轰击靶材料表面，使靶材表面原子获得足够的能量而逃逸的过程。被溅射的靶材沉积到基材表面，就称作溅射镀膜。但是，现有技术中物理气相沉积中的磁控溅射技术存在气体离化率低、靶材利用率低的问题。
技术实现思路
本专利技术要解决的技术问题是提供一种采用物理气相沉积工艺溅镀涂层的装置，以提高金属刀具、工装夹具模具的表面镀膜的均匀性，并提高原材料的利用率。为了解决上述技术问题，本专利技术的技术方案为：一种采用物理气相沉积工艺溅镀涂层的装置，包括旋转轴、等离子体发生器、原材料单元、真空溅镀工作主室，所述等离子体发生器、所述原材料单元以及所述真空溅镀工作主室顺序连本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种采用物理气相沉积工艺溅镀涂层的装置，其特征在于：包括旋转轴、等离子体发生器、原材料单元、真空溅镀工作主室，所述等离子体发生器、所述原材料单元以及所述真空溅镀工作主室顺序连接，所述原材料单元具有铜电极棒和用于提供溅射镀膜的原材料，所述原材料设置在靠近所述原材料单元与所述真空溅镀工作主室的连接处，所述铜电极棒的一端与所述等离子体发生器连接，所述铜电极棒的另一端与所述原材料相接触，所述真空溅镀工作主室具有一容纳所述旋转轴的工作空间，所述旋转轴的轴线与所述原材料所在平面平行，所述旋转轴套设有多个待处理工件。

【技术特征摘要】
1.一种采用物理气相沉积工艺溅镀涂层的装置，其特征在于：包括旋转轴、等离子体发生器、原材料单元、真空溅镀工作主室，所述等离子体发生器、所述原材料单元以及所述真空溅镀工作主室顺序连接，所述原材料单元具有铜电极棒和用于提供溅射镀膜的原材料，所述原材料设置在靠近所述原材料单元与所述真空溅镀工作主室的连接处，所述铜电极棒的一端与所述等离子体发生器连接，所述铜电极棒的另一端与所述原材料相接触，所述真空溅镀工作主室具有一容纳所述旋转轴的工作空间，所述旋转轴的轴线与所述原材料所在平面平行，所述旋转轴套设有多个待处理工件。2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于：每相邻两个所述待处理工件之间设置有弹簧。3.根据权利要求1或2所述的装置，其特征在于：所述待处理工件的孔套设在所述旋转轴的轴身上，所述旋转轴的轴身设置有凸起，所述待处理工件的孔设置有凹槽，所述凸起与所述凹槽相配合。4.根...

【专利技术属性】
技术研发人员：山佳卫，山佳逸豪，
申请(专利权)人：嘉兴申宁精密科技有限公司，
类型：发明
国别省市：浙江,33