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本发明公开了一种采用物理气相沉积工艺溅镀涂层的装置，包括旋转轴、等离子体发生器、原材料单元、真空溅镀工作主室，所述等离子体发生器、所述原材料单元以及所述真空溅镀工作主室顺序连接，所述原材料单元具有铜电极棒和用于提供溅射镀膜的原材料，所述原材...
该专利属于嘉兴申宁精密科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过嘉兴申宁精密科技有限公司授权不得商用。

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