The invention discloses a microsurface common surface coating system for open materials, which belongs to the field of surface common type coating technology. The system includes a reaction chamber of a chemical vapor deposition reaction chamber is connected with the side air supply system through the vacuum control system is located on the side of the reaction chamber, the electric wire in the upper reaction chamber heating system, circulating water cooling system located in the lower part of the reaction chamber, a quartz window in the upper reaction chamber. The invention has the advantages that the coating film formed by nano scale, and raw materials were type, compact and uniform, controllable thickness; the device to control the temperature of water bath heating, air intake pipe and heating resistance wire wound by way of regulating the intake gas flow rate, the mass flow controller to reduce the cost of the equipment. The device, simplifies the configuration, greatly reduces the possibility of reaction monomer in the intake pipe of condenser.
【技术实现步骤摘要】
材料微观表面共型镀膜系统
本专利技术属于表面共型镀膜
,特别涉及到对材料微观表面进行纳米尺度级别的共型镀膜、表面疏水改性处理系统。
技术介绍
疏水性是材料表面的重要特征之一,它是由材料的化学组成和表面几何结构共同决定的。其性质通常用水接触角来评价。一般来说,水在固体表面接触角超过90°的表面称为疏水表面。当水在固体表面的接触角超过150°时,该表面称为超疏水表面。随着社会的发展,工业上和生活中对材料疏水性的要求越来越高。对于防水服装、包装材料、防水电子产品、自清洁表面、防雾表面等许多应用来说,较高的水接触角是疏水性最有效的关键基础。目前对于该类产品的疏水功能还有待提高,这也是各生产企业着力解决的技术问题。材料表面疏水改性的方法主要有物理法和化学法。物理改性的结果是改性剂与材料存在范德华力、氢键力等分子之间的相互作用力,但不存在共价键或离子键作用,改性效果不稳定。化学改性主要是指改性剂与材料表面发生化学反应,形成性质稳定的疏水薄膜层。其中利用氟硅烷、硅烷偶联剂等对材料表面进行接枝改性是最常用的疏水改性方法。[KSirichai,LiK.Preparationa ...
【技术保护点】
材料微观表面共型镀膜系统,其特征在于,包括化学气相沉积反应腔室(32)、进气供给系统(1)、真空控制系统(23)、电热合金丝加热系统(27)、循环水冷却系统(18)、石英观察窗(30);所述化学气相沉积反应腔室(32)包括下部腔体和可拆卸的上部腔体,所述下部腔体和上部腔体通过螺栓加氟橡胶圈密封;其下部腔体底部设置样品台(16),用于盛放待镀材料;所述化学气相沉积反应腔室(32)的上部腔体顶部设置石英观察窗(30);进气供给系统(1)与真空控制系统(23)分别与反应腔室(32)侧面连通,电热合金丝加热系统(27)与反应腔室(32)上部相连通;循环水冷却系统(18)与化学气相沉 ...
【技术特征摘要】
1.材料微观表面共型镀膜系统,其特征在于,包括化学气相沉积反应腔室(32)、进气供给系统(1)、真空控制系统(23)、电热合金丝加热系统(27)、循环水冷却系统(18)、石英观察窗(30);所述化学气相沉积反应腔室(32)包括下部腔体和可拆卸的上部腔体,所述下部腔体和上部腔体通过螺栓加氟橡胶圈密封;其下部腔体底部设置样品台(16),用于盛放待镀材料;所述化学气相沉积反应腔室(32)的上部腔体顶部设置石英观察窗(30);进气供给系统(1)与真空控制系统(23)分别与反应腔室(32)侧面连通,电热合金丝加热系统(27)与反应腔室(32)上部相连通;循环水冷却系统(18)与化学气相沉积反应腔室(32)下部相连通;所述进气供给系统(1)包括引发剂进气装置(6)和反应物单体进气装置(8)两部分;其中,反应物单体进气装置包括水浴加热装置(9)、反应物单体容器(10)、反应物气体流量计(11)、反应物进气导管(12)、反应物出气导管(15)、直流电源(13)及电热合金丝(14);水浴加热装置位于反应物单体容器下方;所述反应物单体容器通过反应物气体流量计与反应物进气导管一端相连;反应物进气导管另一端与化学气相沉积反应腔室相连;所述反应物出气导管(15)的末端封闭,位于化学气相沉积反应室内,其开口端与反应物进气导管在化学气相沉积反应腔室上的连接处相通,反应物出气导管的管壁上设置有导气孔,用于将反应物气体均匀地导入反应腔室内;所述电热合金丝缠绕在反应物进气导管外部,并与直流电源相连;所述的引发剂进气装置(6),包括引发剂容器(7)、引发剂气体流量计(5)、引发剂进气导管(4)、引发剂出气导管(2)和气阀(3);所述引发剂容器通过气体流量计与引发剂进气导管一端相连;引发剂进气导管另一端通过气阀与化学气相沉积反应腔室连接;所述引发剂出气导管位于化学气相沉积反应腔室内,其开口端与引发剂进气导管在化学气相沉积反应腔室上的连接处相通;所述真空控制系统(23)包括真空泵(26)、真空计(24)和气阀(25);所述真空泵与化学气相沉积反应腔室相连通;化学气相沉积反应腔室通过真空计与计算机连接;所述气阀与化学气相沉积反应腔室相连通;所述电电热合金丝加热系统(27)包括合金丝台架(31)、直流电源(29)及温度传感器(28);所述合金丝台架包括电热合金丝、陶瓷碗、可调支架,位于沉积反应腔室内,电热合金丝排布在合金丝台架上,并缠绕在陶瓷碗上;陶瓷碗位于合金丝台架(31)的两端,用于固定合金丝;合金丝台架底部通过可调支架与反应腔室内的样品台(1...
【专利技术属性】
技术研发人员:郭飞,从硕,董建华,蔡景成,
申请(专利权)人:大连理工大学,
类型:发明
国别省市:辽宁,21
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