薄膜制造装置和薄膜制造方法制造方法及图纸

目的在于提供一种能够进一步降低对基板的负荷的薄膜制造装置。一种薄膜制造装置，其将含有薄膜的形成材料的溶液的雾供给至基板而在所述基板上形成薄膜，其特征在于具备：等离子体产生部，其具有配置于所述基板的一个面侧的第1电极和第2电极，使所述第1电极与第2电极之间产生等离子体；和雾供给部，其使所述雾通过所述第1电极与所述第2电极之间而供给至所述基板。

Film manufacturing device and film manufacturing method

The aim is to provide a thin film manufacturing device which can further reduce the load on the substrate. A thin film manufacturing device, substrate material supplied to the spray solution containing the film and film formed on the substrate, comprising: plasma generation, first electrodes and second electrodes having a surface configuration on the substrate, the plasma is generated between the first the electrode and the second electrode; and the mist supply unit of the fog through between the first electrode and the second electrode is supplied to the substrate.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】薄膜制造装置和薄膜制造方法
本专利技术涉及薄膜制造装置和薄膜制造方法。本专利技术要求在2015年2月18日申请的申请号为2015-030022的日本专利申请和在2016年2月2日申请的申请号为2016-018125的日本专利申请的优先权，对于认可基于文献参照方式的编入的指定国，通过参照方式将该申请所述的内容编入本申请中。
技术介绍
对原料气体照射等离子体而使原料层叠于基板上的技术被广泛应用。通常，层叠工序在真空或减压的环境中进行，因此存在装置大型化的问题。因此，在专利文献1中公开了一种片状基材的连续处理方法，其特征在于，在具备被密封成能够允许气体泄漏的程度的非气密状态的片导入口和片排出口的处理容器内，配设一对对置电极，利用固体电介质覆盖所述对置电极的一方或双方的对置面，使片状基材在所述对置电极之间连续地行进，与此同时，使处理用气体从所述片状基材的行进方向的反方向连续地接触片状基材，并且，对所述对置电极之间施加脉冲化的电场，由此产生放电等离子体。在先技术文献专利文献专利文献1：日本特开平10-130851号公报
技术实现思路
专利技术所要解决的课题可是，在现有的技术中，可能会由于在电极面内本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种薄膜制造装置，其将含有薄膜的形成材料的溶液的雾供给至基板而在所述基板上形成薄膜，其特征在于，所述薄膜制造装置具备：等离子体产生部，其具有配置于所述基板的一个面侧的第1电极和第2电极，使所述第1电极与所述第2电极之间产生等离子体；和雾供给部，其使所述雾通过所述第1电极与所述第2电极之间而供给至所述基板。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.02.18 JP 2015-030022;2016.02.02 JP 2016-018121.一种薄膜制造装置，其将含有薄膜的形成材料的溶液的雾供给至基板而在所述基板上形成薄膜，其特征在于，所述薄膜制造装置具备：等离子体产生部，其具有配置于所述基板的一个面侧的第1电极和第2电极，使所述第1电极与所述第2电极之间产生等离子体；和雾供给部，其使所述雾通过所述第1电极与所述第2电极之间而供给至所述基板。2.根据权利要求1所述的薄膜制造装置，其特征在于，所述第1电极和所述第2电极被配置为大致平行。3.根据权利要求1或2所述的薄膜制造装置，其特征在于，所述第1电极和所述第2电极的以规定的间隔对置的部分中的所述间隔最窄的部分的形状是线状。4.根据权利要求1至3中的任意一项所述的薄膜制造装置，其特征在于，从所述第1电极和所述第2电极中的更接近所述基板的一方的电极至所述基板为止的距离比所述第1电极与所述第2电极之间的距离长。5.根据权利要求1至4中的任意一项所述的薄膜制造装置，其特征在于，所述第1电极和所述第2电极中的至少一方被电介质覆盖。6.根据权利要求1至5中的任意一项所述的薄膜制造装置，其特征在于，所述薄膜制造装置具备输送部，所述输送部将含有树脂且具有挠性的所述基板向所述等离子体产生部输送。7.根据权利要求6所述的薄膜制造装置，其特征在于，所述输送部是在外周侧具有所述等离子体产生部的大致圆弧形状。8.根据权利要求1至7中的任意一项所述的薄膜制造装置，其特征在于，所述基板相对于水平面倾斜。9.根据权利要求1至8中的任意一项所述的薄膜制造装置，其特征在于，所述薄膜制造装置具备对所述等离子体产生部施加电压的电源部，所述电...

【专利技术属性】
技术研发人员：奈良圭，中积诚，西康孝，中村有水，浪平隆男，高村纪充，
申请(专利权)人：株式会社尼康，国立大学法人熊本大学，
类型：发明
国别省市：日本,JP