Cleaning device of the utility model discloses a CZ Czochralski silicon single crystal furnace and auxiliary chamber, which is characterized by comprising a telescopic rod hollow, a support installed end of the telescopic rod, the outer peripheral distribution of the support desk support rod arranged at intervals, the end of support bar are respectively provided with a cleaning brush head, the cleaning brush head comprises a curved brush head, a brush head, a brush head conical plane, is connected with the telescopic sleeve rod hole and a rotary hollow rod installed central the support desk, hose between the hollow rod and the telescopic rod penetrates a slender, the hose head is provided with a plurality of circular holes. The utility model for room surface structure design of elastic inner wall of the furnace 3 shape brush better cleaning of different surface oxide, each cleaning in place, improve the efficiency of furnace cleaning, the operation is convenient and simple, can save the labor intensity of the operating personnel, to meet the requirement of use.
【技术实现步骤摘要】
一种CZ直拉法硅单晶炉副室的清洁装置
:本技术涉及机械清洁结构,主要涉及一种CZ直拉法硅单晶炉副室的清洁装置。
技术介绍
:硅单晶炉是一种软轴提拉型单晶炉,在惰性气体的保护环境中,以高纯的石墨电阻加热器,将半导体多晶硅高温融化,用直拉法的方式生长出一种无位错的单晶硅棒。但是单晶硅生长的条件要求十分地苛刻,从原料、热场、控制系统、保护性气体、设备、石英坩埚等等,每一个环节都必须认真地做到位。单晶硅晶体生长是在真空的环境下进行的,这就对真空室的内环境提出了更高的要求。(本次主要针对生长12英寸大单晶炉的副室设计如图1)硅单晶炉的真空环境主要由主炉室、炉盖、副炉室等组成。主炉室的结构是宽大、扁短,空间比较的宽敞,停炉后清理炉内的卫生比较容易简单。对于副炉室的结构特点是深长、空间相对比较狭小。这对于清洁副炉室内壁的卫生比较复杂。对于传统的清理副炉室的方式就是用一根长的杆一端绑上无尘纸然后再喷洒上无水乙醇,这样擦拭内壁人工的劳动量加大,也不方便主要的是清理的不到位、不干净,一些死角清理不到,给下次的生产引入污染,对单晶的生长和晶体的品质带来了不利影响。
技术实现思路
:本技术目的就是解决现有的带有副室门的生长大直径单晶硅的大型CZ直拉法单晶炉的副室清洁中存在的问题,提高清炉的效率,降低操作人员的劳动量,设计出一种CZ直拉法硅单晶炉副室的清洁装置。本技术是通过以下技术方案实现的:一种CZ直拉法硅单晶炉副室的清洁装置,其特征在于:包括有中空的伸缩套杆,所述伸缩套杆的端部安装有支撑台,所述支撑台的外周边分布有间隔设置的支撑杆,所述支撑杆的端部分别安装有清洁刷头,所述清洁刷头包括有 ...
【技术保护点】
一种CZ直拉法硅单晶炉副室的清洁装置,其特征在于:包括有中空的伸缩套杆,所述伸缩套杆的端部安装有支撑台,所述支撑台的外周边分布有间隔设置的支撑杆,所述支撑杆的端部分别安装有清洁刷头,所述清洁刷头包括有弧形刷头、锥形刷头、平面刷头,所述支撑台的中部安装有与伸缩套杆内孔连通且可转动的中空细杆,所述中空细杆以及伸缩套杆之间贯穿一个细长的软管,所述软管的头部设有多个圆形喷孔。
【技术特征摘要】
1.一种CZ直拉法硅单晶炉副室的清洁装置,其特征在于:包括有中空的伸缩套杆,所述伸缩套杆的端部安装有支撑台,所述支撑台的外周边分布有间隔设置的支撑杆,所述支撑杆的端部分别安装有清洁刷头,所述清洁刷头包括有弧形刷头、锥形刷头、平面刷头,所述支撑台的中部安装有与伸缩套杆内孔连通且可转动的中空细杆,所述中空细杆以及伸缩套杆之间贯穿一个细长的软管,所述软管的头部设有多个圆形喷孔。2.根据权利要求1所述的CZ直拉法硅单晶炉副室的清洁装置,其特征在...
【专利技术属性】
技术研发人员:马四海,张笑天,马青,朱光开,丁磊,
申请(专利权)人:安徽易芯半导体有限公司,
类型:新型
国别省市:安徽,34
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