一种新型二极管半导体专用清洗液制造技术

本发明专利技术涉及一种新型二极管半导体专用清洗液，包括以下重量份的组分：季铵氢氧化物3～5份、聚丙烯酸类缓蚀液6～12份、烷基二醇芳基醚6～10份、表面活性剂4～8份、烷基苄基二甲基氯化铵10～14份、增效剂10～14份、氧化剂3～5份、乙醇9～11份和去离子水30～50份；其中，表面活性剂为醇醚和酚醚表面活性剂的混合物，且醇醚与酚醚的质量比为2.1～2.5:1。本发明专利技术的优点在于：本发明专利技术的新型二极管半导体专用清洗液中合理配置各有效组分以及溶剂的用量，在室温下就能够快速、彻底的降低清洗液本身的表面张力，使得清洗液具有水溶性好，渗透力强的特点；选用的各配方成分均不污染环境，没有危险性，不会破坏大气层，清洗后的废液便于处理排放，保证环保。

A new type of special cleaning liquid for diode semiconductor

The invention relates to a novel semiconductor diode special cleaning fluid, which comprises the following components by weight: 3 to 5 portions of quaternary ammonium hydroxide and acrylic acid corrosion solution 6 ~ 12 alkyl diol aryl ether 6 ~ 10, 4 ~ 8 surfactant, alkyl benzyl methyl ammonium chloride from 10 to two 14, 10 to 14 portions of synergist and oxidant 3 ~ 5, 9 ~ 11 ethanol and deionized water from 30 to 50; the surfactant is a mixture of alcohol ether and phenol ether surfactants, and the quality of alcohol ether and phenol ether is 2.1 ~ 2.5:1. The invention has the advantages of reasonable allocation of the effective components and the amount of solvent model diode semiconductor special cleaning liquid of the invention, it can quickly and thoroughly reduce the surface tension of the cleaning liquid at room temperature, so the cleaning liquid has good water solubility, strong penetration characteristics of each ingredient selection; no environmental pollution, no danger, will not destroy the atmosphere, easy to deal with the discharge of waste water after cleaning, to ensure environmental protection.

【技术实现步骤摘要】
一种新型二极管半导体专用清洗液
本专利技术属于半导体工业
，特别涉及一种新型二极管半导体专用清洗液。
技术介绍
二极管是现代微电子行业发展的基础，早在上世纪二极管制作工艺就已经非常成熟并大量应用于电子行业的各个领域，随着电子微电子产业的迅速发展，二极管等分立器件已经成为微电子企业中利润较低，技术含量较低的行业，为了保证一定的利润，在二极管行业中使用大量对人体有害的物质作为清洗二极管表面的清洗液，如何在保证效果的情况下研制低成本、无污染的新型清洗液就成了刻不容缓的要求。迄今为止，各种清洗方式中，以化学清洗居多，即使用化学清洗剂以某一设定的清洗流程，对电子元件，尤其是二极管进行清洗；因而，中国专利号为201410650324.X提出了一种二极管专用清洗液，其包括以下成分的重量百分比：季铵氢氧化物1～3%，醋酸/醋酸钠缓冲水溶液2～6%，柠檬酸/柠檬酸盐缓冲水溶液2～6%，烷基二醇芳基醚5～8%，表面活性剂3～5%，烷基苄基二甲基氯化铵8～10%，增效剂8～10%，乙醇8～10%，去离子水余量；合理配置各有效组分以及溶剂的用量，在室温下就能够快速、彻底的降低清洗液本身的表面张力，使得本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种新型二极管半导体专用清洗液，其特征在于：包括以下重量份的组分：季铵氢氧化物3～5份、聚丙烯酸类缓蚀液6～12份、烷基二醇芳基醚6～10份、表面活性剂4～8份、烷基苄基二甲基氯化铵10～14份、增效剂10～14份、氧化剂3～5份、乙醇9～11份和去离子水30～50份；其中，表面活性剂为醇醚和酚醚表面活性剂的混合物，且醇醚与酚醚的质量比为2.1～2.5:1。

【技术特征摘要】
1.一种新型二极管半导体专用清洗液，其特征在于：包括以下重量份的组分：季铵氢氧化物3～5份、聚丙烯酸类缓蚀液6～12份、烷基二醇芳基醚6～10份、表面活性剂4～8份、烷基苄基二甲基氯化铵10～14份、增效剂10～14份、氧化剂3～5份、乙醇9～11份和去离子水30～50份...

【专利技术属性】
技术研发人员：曹建民，
申请(专利权)人：如皋市下原科技创业服务有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏,32