薄膜形成装置制造方法及图纸

提供一种低成本且量产性较高的薄膜形成装置。在成膜室（11）的内部配置由转台构成的旋转装置（21），在对准场所（16）上进行了成膜对象物（5a、5b）的对准之后，在设于旋转装置（21）的基板支架（34a、34b）上配置进行了与掩模（4a、4b）之间的对准的成膜对象物（5a、5b），使旋转装置（21）旋转而移动到成膜场所（15）上。接着，使成膜源（22）一边释放成膜材料的微小粒子一边移动，在成膜场所（15）上的成膜对象物（5a、5b）上形成薄膜。此时，能够在对准场所（16）上配置未成膜的成膜对象物（5a、5b）并进行对位。因此，在本薄膜形成装置（10）中，有一个成膜源（22）和一个对准所需的装置即可。

Thin film forming device

A thin film forming device with low cost and high production capacity is provided. In the film forming chamber (11) rotating device of the internal configuration by a turntable (21), at the place (16) on the film object (5a, 5b) alignment, in a rotating device (21) of the substrate support (34a, 34B) on the configuration and mask (4a, 4b) between the alignment film object (5a, 5b), the rotary device (21) rotating and moving to the film (15) on the site. Then, the thin film source (22) releases the tiny particles on the side of the membrane material and moves on the film forming objects (5a, 5b) on the film-forming place (15) to form thin films. At this time, a film forming object (5a, 5b) which is not formed is configured on the alignment site (16), and the alignment is carried out. Therefore, in the film forming device (10), there is a film forming source (22) and a device required for alignment.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】薄膜形成装置
本专利技术涉及薄膜形成装置的
，特别涉及高效地形成薄膜的薄膜形成装置。
技术介绍
在玻璃基板等大型的成膜对象物上形成成膜材料的薄膜时，广泛使用如下技术：将成膜对象物配置于真空室内，一边从成膜源释放成膜材料的蒸气等微小粒子，一边使其在与成膜对象物对置的位置移动，使微小粒子附着于成膜对象物的表面。图6的附图标记110是该技术的薄膜形成装置，在输送室112的周围配置有两个成膜室111a、111b和多个真空室113，各室111a、111b、113连接于输送室112。在两个成膜室111a、111b的内部分别配置有基板支架121，在基板支架121的上方配置有相机等拍摄装置135，在下方配置有成膜源122。成膜源122安装于成膜源移动装置131，若成膜源移动装置131动作，则成膜源122在基板支架121的下方位置沿水平方向往复移动。在输送室112的内部配置有由基板输送机器人构成的基板移动装置125。图6（b）的附图标记105a示出了被基板移动装置125搬入到成膜室111a的内部、并配置在基板支架121上的成膜对象物。在该成膜对象物105a被搬入到成膜室111a内时，在被配置到基板支架121上之前，在成膜室111a的内部被配置于对准移动装置（未图示），在该状态下，由拍摄装置135对成膜对象物105a的对准标记与基板支架121的对准标记进行拍摄，拍摄结果被输出到控制装置136，成膜对象物105a与基板支架121之间的位置误差被检测出，成膜对象物105a利用控制装置136以使位置误差变小的方式移动，以位置误差变小的状态配置到基板支架121上。在基板支架121上设有贯通孔，配置于基板支架121的成膜对象物105a的表面在贯通孔的底面露出。在成膜源122的表面中的与成膜对象物105a相面对的部分设有多个释放孔123，若一边从释放孔123释放成膜材料的微小粒子一边利用成膜源移动装置131移动成膜源122，则微小粒子到达在成膜对象物105a的贯通孔底面露出的表面，附着而生长出薄膜。在图6（b）中，在在一个成膜室111a的内部在成膜对象物105a的表面形成薄膜的期间，载置于基板移动装置125的成膜对象物105b被搬入到另一个成膜室111b的内部。这样，在图6（a）、图6（b）的薄膜形成装置110中，在在一个成膜室111a的内部在成膜对象物105a的表面形成薄膜的期间，能够向另一个成膜室111b的内部搬入未成膜的成膜对象物105b，并进行成膜对象物105b的对位，因此能够不中断向成膜对象物105a、105b的成膜工序。然而，在该薄膜形成装置110中，虽然两个成膜室111a、111b共用一个基板移动装置125，但在两个成膜室111a、111b的内部分别配置有成膜源122和成膜源移动装置131，不会实现低成本。在图7（a）的薄膜形成装置210中，在输送室212的周围连接有一个成膜室211与多个真空室214，并在该一个成膜室211的内部配置有两个基板支架221a、221b。成膜源移动装置231遍及一个基板支架221a的下方位置与另一个基板支架221b的下方位置地配置，若一个成膜源222利用成膜源移动装置231而移动，则能够一边与两个基板支架221a、221b中的任一个相面对一边移动。因此，如图7（b）所示，在一个基板支架221a上配置成膜对象物205a，在该成膜对象物205a的下方位置，一边从释放孔223释放成膜材料的微小粒子，一边使成膜源222与成膜对象物205a相面对地移动，在正在生长出薄膜的过程中，能够在配置于输送室212内的基板移动装置225上载置未成膜的成膜对象物205b，向成膜室211内搬入，并进行与另一个基板支架221b的对准。然而，在该薄膜形成装置210中，虽然能够设置一个成膜源222，但需要在各基板支架221a、221b上分别配置拍摄装置235、对准移动装置，要求进一步低成本的薄膜形成装置。专利文献1：日本特开2012－174609号公报。专利文献2：日本特许4510609号。
技术实现思路
本专利技术是为了解决上述现有技术的不良情况而作出的，其目的在于提供一种低成本的薄膜形成装置。为了解决上述问题，本专利技术是一种薄膜形成装置，该薄膜形成装置具有：成膜室；旋转装置，其配置于上述成膜室内，设有配置掩模与成膜对象物的多个基板支架，并在上述成膜室内旋转；主拍摄装置，其对在位于对准场所的上述基板支架上配置的上述掩模、以及与上述掩模相面对的上述成膜对象物进行拍摄；控制装置，其根据上述主拍摄装置的拍摄结果，求出上述掩模与上述成膜对象物之间的第一位置误差，使上述成膜对象物移动，以便减小上述第一位置误差，以进行了对位的状态将上述成膜对象物配置于上述掩模；成膜源，其配置于上述成膜室的内部，释放成膜材料的微小粒子；以及成膜源移动装置，其使上述成膜源在上述成膜室的内部移动并通过与成膜场所相面对的场所，借助上述旋转装置的旋转，使进行了对位的上述掩模与上述成膜对象物从上述对准场所移动到上述成膜场所，上述成膜源一边释放上述微小粒子一边通过与上述成膜场所相面对的场所，上述微小粒子通过上述基板支架的贯通孔与上述掩模的窗部而到达上述成膜对象物，形成薄膜。本专利技术是如下所述的薄膜形成装置，其设有对位于上述成膜场所的上述掩模与上述成膜对象物进行拍摄的辅助拍摄装置，根据上述辅助拍摄装置所拍摄到的结果，求出上述成膜对象物与上述掩模之间的第二位置误差。本专利技术是下述薄膜形成装置，其具有将上述掩模与配置在上述掩模上的上述成膜对象物固定于上述旋转装置的保持装置。本专利技术是下述薄膜形成装置：上述第二位置误差被与第二基准值比较，在上述第二位置误差比上述第二基准值大的情况下，上述成膜对象物不形成上述薄膜，而是借助上述旋转装置的旋转，与上述掩模一起返回到上述对准场所。本专利技术是一种薄膜形成装置，该薄膜形成装置具有：成膜室；旋转装置，其配置于上述成膜室内，设有供成膜对象物配置的多个基板支架，并在上述成膜室内旋转；主拍摄装置，其对位于对准场所的上述基板支架和与上述基板支架相面对的成膜对象物进行拍摄；控制装置，其根据上述主拍摄装置的拍摄结果，求出上述基板支架与上述成膜对象物之间的第一位置误差，使上述成膜对象物移动，以便减小上述第一位置误差，以进行了对位的状态将上述成膜对象物配置于上述基板支架；成膜源，其配置于上述成膜室的内部，释放成膜材料的微小粒子；以及成膜源移动装置，其使上述成膜源在上述成膜室的内部移动并通过与成膜场所相面对的场所，借助上述旋转装置的旋转，使进行了对位的上述基板支架与上述成膜对象物从上述对准场所移动到上述成膜场所，上述成膜源一边释放上述微小粒子一边通过与上述成膜场所相面对的场所，上述微小粒子通过上述基板支架的贯通孔而到达上述成膜对象物，形成薄膜。本专利技术是下述薄膜形成装置，其设有对位于上述成膜场所的上述基板支架与上述成膜对象物进行拍摄的辅助拍摄装置，根据上述辅助拍摄装置所拍摄到的结果，求出上述成膜对象物与上述掩模之间的第二位置误差。本专利技术是下述薄膜形成装置，其具有将上述基板支架与配置在上述基板支架上的上述成膜对象物固定于上述旋转装置的保持装置。本专利技术是下述薄膜形成装置：上述第二位置误差被与第二基准值比较，在上述第二位置误差比上述第二基准值大的情况下，上述本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种薄膜形成装置，其特征在于，该薄膜形成装置具有：成膜室；旋转装置，其配置于上述成膜室内，设有配置掩模与成膜对象物的多个基板支架，并在上述成膜室内旋转；主拍摄装置，其对配置在位于对准场所的上述基板支架上的上述掩模以及与上述掩模相面对的上述成膜对象物进行拍摄；控制装置，其根据上述主拍摄装置的拍摄结果，求出上述掩模与上述成膜对象物之间的第一位置误差，使上述成膜对象物移动，以便减小上述第一位置误差，以进行了对位的状态将上述成膜对象物配置于上述掩模；成膜源，其配置于上述成膜室的内部，释放成膜材料的微小粒子；以及成膜源移动装置，其使上述成膜源在上述成膜室的内部移动并通过与成膜场所相面对的场所，借助上述旋转装置的旋转，进行了对位的上述掩模与上述成膜对象物从上述对准场所被移动到上述成膜场所，上述成膜源一边释放上述微小粒子一边通过与上述成膜场所相面对的场所，上述微小粒子通过上述基板支架的贯通孔与上述掩模的窗部而到达上述成膜对象物，形成薄膜。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.03.13 JP 2015-0513041.一种薄膜形成装置，其特征在于，该薄膜形成装置具有：成膜室；旋转装置，其配置于上述成膜室内，设有配置掩模与成膜对象物的多个基板支架，并在上述成膜室内旋转；主拍摄装置，其对配置在位于对准场所的上述基板支架上的上述掩模以及与上述掩模相面对的上述成膜对象物进行拍摄；控制装置，其根据上述主拍摄装置的拍摄结果，求出上述掩模与上述成膜对象物之间的第一位置误差，使上述成膜对象物移动，以便减小上述第一位置误差，以进行了对位的状态将上述成膜对象物配置于上述掩模；成膜源，其配置于上述成膜室的内部，释放成膜材料的微小粒子；以及成膜源移动装置，其使上述成膜源在上述成膜室的内部移动并通过与成膜场所相面对的场所，借助上述旋转装置的旋转，进行了对位的上述掩模与上述成膜对象物从上述对准场所被移动到上述成膜场所，上述成膜源一边释放上述微小粒子一边通过与上述成膜场所相面对的场所，上述微小粒子通过上述基板支架的贯通孔与上述掩模的窗部而到达上述成膜对象物，形成薄膜。2.如权利要求1所述的薄膜形成装置，其特征在于，设有对位于上述成膜场所的上述掩模与上述成膜对象物进行拍摄的辅助拍摄装置，根据上述辅助拍摄装置所拍摄到的结果，求出上述成膜对象物与上述掩模之间的第二位置误差。3.如权利要求1所述的薄膜形成装置，其特征在于，具有将上述掩模与配置在上述掩模上的上述成膜对象物固定于上述旋转装置的保持装置。4.如权利要求2所述的薄膜形成装置，其特征在于，具有将上述掩模与配置在上述掩模上的上述成膜对象物固定于上述旋转装置的保持装置。5.如权利要求2所述的薄膜形成装置，其特征在于，上述第二位置误差被与第二基准值比较，在上述第二位置误差比上述第二基准值大的情况下，上述成膜对象物不形成上述薄膜，而是借助上述旋转装置的旋转，与上述掩模一起返回到上述对准场所。6.如权利要求4所述的薄膜形成装置，其特征在于，上述第二位置误差被与第二基准值比较，在上述第二位置误差比上述第二基准值大的情况下，上述成膜对象物不形成上述薄膜，而是借助上述旋转装置的旋转，与上述掩模一起返回到上述对准场所。7.一种薄...

【专利技术属性】
技术研发人员：上野充，仓田敬臣，新井真，清田淳也，斋藤一也，
申请(专利权)人：株式会社爱发科，
类型：发明
国别省市：日本,JP