The present invention relates to a display vacuum sputtering machine manufacturing, vacuum pumping device in the pre, glass substrate placed in the cavity, the cavity cavity side wall is provided with a dry pump outlet and cryogenic pump outlet, the pump dry air outlet and the air outlet is arranged on the cryogenic pump are arranged rectangular the switching process of Atmospheric - vacuum baffle, atmosphere state in the vacuum pumping device, keep the air does not directly interact with the surface of the glass substrate, to mitigate the adverse effects of gas turbulence on the glass substrate caused by the impurity particles and bubbles, improve the film quality into the procedure.
【技术实现步骤摘要】
一种预抽真空装置
本专利技术涉及显示器制造领域,尤其涉及真空溅射机台。
技术介绍
在显示器制造领域中,真空溅射机台是在高真空下利用物理磁控溅射原理在玻璃基板上沉积膜层的机台,玻璃基板从机台外部首先进入机台预抽真空装置,待预抽真空装置从大气状态切换到真空状态时,玻璃基板进入到溅射腔室,沉积膜层后玻璃基板送回预抽真空装置,待预抽真空装置从真空状态切换到大气状态后,玻璃基板从机台内排出。由于预抽真空装置在生产过程中处于大气与真空状态下转换,预抽真空装置显得尤其重要,在实现大气-真空-大气的两次转换过程中,预抽真空装置腔体内空气流动方向、速度、玻璃基板表面湍流状况等,都对溅射工序质量产生直接的影响。现有预抽真空装置排气口在腔室侧壁,包括干泵和低温泵的排气口,排气口正面无保护装置,腔室从大气向真空转换时,有明显湍流,当湍流从玻璃基板表面经过时,会在玻璃基板表面残留颗粒或气泡,对成膜品质会有影响;另一方面,在腔室从真空向大气转换时,从排气口充入的气体形成湍流直接从玻璃基板表面经过,气体中的颗粒杂质同样会对沉积膜层造成损害。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种结构简单,可有效减缓玻璃基板表面湍流的预抽真空装置,提供具体技术方案如下:一种预抽真空装置,包括腔壁,腔壁内放置玻璃基板,所述腔壁一侧内壁同时设有干泵排气口和低温泵排气口,所述干泵排气口外设第一挡板,所述第一挡板与所述腔壁不接触,所述第一挡板遮盖所述干泵排气口;所述低温泵排气口外设第二挡板,所述第二挡板与所述腔壁不接触,所述第二挡板遮盖所述低温泵排气口。其中,所述第一挡板和所述第二挡板表面均采用光滑处理。其中, ...
【技术保护点】
一种预抽真空装置,包括腔壁,腔壁内放置玻璃基板,其特征在于:所述腔壁一侧内壁同时设有干泵排气口和低温泵排气口,所述干泵排气口外设第一挡板,所述第一挡板与所述腔壁不接触,所述第一挡板遮盖所述干泵排气口;所述低温泵排气口外设第二挡板,所述第二挡板与所述腔壁不接触,所述第二挡板遮盖所述低温泵排气口。
【技术特征摘要】
1.一种预抽真空装置,包括腔壁,腔壁内放置玻璃基板,其特征在于:所述腔壁一侧内壁同时设有干泵排气口和低温泵排气口,所述干泵排气口外设第一挡板,所述第一挡板与所述腔壁不接触,所述第一挡板遮盖所述干泵排气口;所述低温泵排气口外设第二挡板,所述第二挡板与所述腔壁不接触,所述第二挡板遮盖所述低温泵排气口。2.如权利要求1所述预抽真空装置,其特征在于:所述第一挡板和所述第二挡板表面均采用光滑处理。3.如权利要求2所述预抽真空装置,其特征在于:所述第一挡板和所述第二挡板均为长方形,长方形中较长的一边平行于所述玻璃基板的上平面。4.如权利要求1所述预抽真空装置,其特征在于:所述第一挡板和所述第二挡板均由螺栓连接于所述内壁上,所述螺栓位置靠近所述第一挡板和所述第二挡板的边缘。5.如权利要求1所述预抽真空装置,其特征在于:所述第一挡板和所述第二挡板...
【专利技术属性】
技术研发人员:张毅,
申请(专利权)人:武汉华星光电技术有限公司,
类型:发明
国别省市:湖北,42
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