用于在基板上沉积材料的沉积装置制造方法及图纸

一种用于在基板上沉积材料的沉积装置(300)。沉积装置(300)包括第一处理腔室(310)和第二处理腔室(320)；位于第一处理腔室(310)内的至少一个第一沉积源(311)和位于第二处理腔室(320)内的至少一个第二沉积源(321)；和至少一个第一遮蔽设备(350)。此至少一个第一遮蔽设备(350)配置为至少在第一位置和第二位置之间为可移动的，其中此至少一个第一遮蔽设备(350)配置为当至少一个第一遮蔽设备(350)在第一位置时遮蔽至少一个第一沉积源(311)，且其中至少一个第一遮蔽设备(350)配置为在第一处理腔室(310)和第二处理腔室(320)之间为可移动的。（*该技术在2024年保护过期，可自由使用*）

Deposition device for depositing material on substrate

A deposition device for depositing materials on a substrate (300). The deposition device (300) comprises a first processing chamber (310) and second (320) in the processing chamber; the first processing chamber (310) at least one deposition source within the first (311) and second in the processing chamber (320) at least one deposition source within second (321); and at least a first shield the equipment (350). The at least one first shielding device (350) configured to at least between the first position and the second position is movable, wherein the at least one first screening device (350) configured when at least one of the first screening device (350) in the first position covering at least a first deposition source (311). And at least one of the first screening device (350) configured in a first processing chamber (310) and second (320) between the processing chamber is removable.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于在基板上沉积材料的沉积装置
本公开的实施例涉及一种用于在基板上沉积材料的沉积装置。本公开的实施例特别涉及一种用于在基板上沉积层堆叠的溅射装置。
技术介绍
触控面板(诸如触控屏幕面板)为电子可视化显示器的一种特殊类别，其能够检测并定位显示区域内的触碰。触控面板包括多个层堆叠或透明体以形成功能性屏幕(类似触控屏幕面板)。然而，触控面板通常会有较劣等的日光可读性、有色的外观(反射)和相对于下方显示器所产生的图片的颜色改变、以及来自功能性屏幕的结构核心层(例如，图案化透明导电氧化物(TCO)的或多或少的可视图案。在触控面板的制造中使用不同的层堆叠概念。这些不同的层堆叠概念包括例如具有抗反射涂层的层堆叠，接着是金属层堆叠(诸如黑色金属层堆叠(例如，用于黑色金属架桥或黑色金属网(mesh)))。层堆叠概念也包括例如具有透明绝缘层和图案化TCO层(例如，图案化铟锡氧化物(ITO)层)的层堆叠，致使用户看不见图案化TCO层(“看不见的TCO”或(“看不见的(i-)ITO”)。触控面板的制造商具有广泛、多样化和符合市场需求的系列产品，以迅速地适应步调快速的科技演进。一种制造装置对于不同产品(诸如以本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于在基板上沉积材料的沉积装置，包括：第一处理腔室和第二处理腔室；位于所述第一处理腔室内的至少一个第一沉积源和位于所述第二处理腔室内的至少一个第二沉积源；以及至少一个第一遮蔽设备；其中所述至少一个第一遮蔽设备配置为至少在第一位置和第二位置之间为可移动的，其中所述至少一个第一遮蔽设备配置为当所述至少一个第一遮蔽设备在所述第一位置时遮蔽所述至少一个第一沉积源，且其中所述至少一个第一遮蔽设备配置为在所述第一处理腔室和所述第二处理腔室之间为可移动的。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种用于在基板上沉积材料的沉积装置，包括：第一处理腔室和第二处理腔室；位于所述第一处理腔室内的至少一个第一沉积源和位于所述第二处理腔室内的至少一个第二沉积源；以及至少一个第一遮蔽设备；其中所述至少一个第一遮蔽设备配置为至少在第一位置和第二位置之间为可移动的，其中所述至少一个第一遮蔽设备配置为当所述至少一个第一遮蔽设备在所述第一位置时遮蔽所述至少一个第一沉积源，且其中所述至少一个第一遮蔽设备配置为在所述第一处理腔室和所述第二处理腔室之间为可移动的。2.如权利要求1所述的沉积装置，其中所述至少一个第一遮蔽设备配置为当所述至少一个第一遮蔽设备在所述第二位置时遮蔽所述至少一个第二沉积源。3.如权利要求1所述的沉积装置，其中所述至少一个第一遮蔽设备配置为第一气体分离遮蔽件。4.如权利要求2所述的沉积装置，其中所述至少一个第一遮蔽设备配置为第一气体分离遮蔽件。5.一种用于在基板上沉积材料的沉积装置，包括：第一处理腔室和第二处理腔室；位于所述第一处理腔室内的至少一个第一沉积源和位于所述第二处理腔室内的至少一个第二沉积源；至少一个第一遮蔽设备，其中所述至少一个第一遮蔽设备配置为至少在第一位置和第二位置之间为可移动的，其中所述至少一个第一遮蔽设备配置为当所述至少一个第一遮蔽设备在所述第一位置时遮蔽所述至少一个第一沉积源；以及至少一个第二遮蔽设备，配置为至少在第三位置和第四位置之间为可移动的，其中所述至少一个第二遮蔽设备配置为当所述至少一个第二遮蔽设备在所述第三位置时遮蔽所述至少一个第二沉积源。6.如权利要求5所述的沉积装置，其中所述至少一个第一遮蔽设备设置在所述第一处理腔室中，和/或其中所述至少一个第二遮蔽设备设置在所述第二处理腔室中。7.如权利要求5所述的沉积装置，其中所述至少一个第一遮蔽设备包括第一卷帘，和/或其中所述至少一个第二遮蔽设备包括第二卷帘。8.如权利要求6所述的沉积装置，其中所述至少一个第一遮蔽设备包括第一卷帘，和/或其中所述至少一个第二遮蔽设备包括第二卷帘。9.如权利要求5所述的沉积装置，其中所述至少一个第一遮蔽设备配置为第一气体分离遮蔽件，和/或其中所述至少一个第二遮蔽设备配置为第二气体分离遮蔽件。10.如权利要求1至9中的一项所述的沉积装置，还包括基板支撑件，所述基板支撑件至少延伸通过所述第一处理腔室和所述第二处理腔室，其中在所述第一位置中，所述至少一个第一...

【专利技术属性】
技术研发人员：T·W·齐尔鲍尔，A·赫尔米希，R·欣特舒斯特，U·慕尔菲德，B·斯托克，H·G·沃尔夫，M·班德尔，
申请(专利权)人：应用材料公司，
类型：新型
国别省市：美国,US