用于在基板上沉积材料的沉积装置制造方法及图纸

一种用于在基板上沉积材料的沉积装置(300)。沉积装置(300)包括第一处理腔室(310)和第二处理腔室(320)；位于第一处理腔室(310)内的至少一个第一沉积源(311)和位于第二处理腔室(320)内的至少一个第二沉积源(321)；和至少一个第一遮蔽设备(350)。此至少一个第一遮蔽设备(350)配置为至少在第一位置和第二位置之间为可移动的，其中此至少一个第一遮蔽设备(350)配置为当至少一个第一遮蔽设备(350)在第一位置时遮蔽至少一个第一沉积源(311)，且其中至少一个第一遮蔽设备(350)配置为在第一处理腔室(310)和第二处理腔室(320)之间为可移动的。

Deposition device for depositing material on substrate

A deposition device for depositing materials on a substrate (300). The deposition device (300) comprises a first processing chamber (310) and second (320) in the processing chamber; the first processing chamber (310) at least one deposition source within the first (311) and second in the processing chamber (320) at least one deposition source within second (321); and at least a first shield the equipment (350). The at least one first shielding device (350) configured to at least between the first position and the second position is movable, wherein the at least one first screening device (350) configured when at least one of the first screening device (350) in the first position covering at least a first deposition source (311). And at least one of the first screening device (350) configured in a first processing chamber (310) and second (320) between the processing chamber is removable.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于在基板上沉积材料的沉积装置
本公开的实施例涉及一种用于在基板上沉积材料的沉积装置。本公开的实施例特别涉及一种用于在基板上沉积层堆叠的溅射装置。
技术介绍
触控面板(诸如触控屏幕面板)为电子可视化显示器的一种特殊类别，其能够检测并定位显示区域内的触碰。触控面板包括多个层堆叠或透明体以形成功能性屏幕(类似触控屏幕面板)。然而，触控面板通常会有较劣等的日光可读性、有色的外观(反射)和相对于下方显示器所产生的图片的颜色改变、以及来自功能性屏幕的结构核心层(例如，图案化透明导电氧化物(TCO)的或多或少的可视图案。在触控面板的制造中使用不同的层堆叠概念。这些不同的层堆叠概念包括例如具有抗反射涂层的层堆叠，接着是金属层堆叠(诸如黑色金属层堆叠(例如，用于黑色金属架桥或黑色金属网(mesh)))。层堆叠概念也包括例如具有透明绝缘层和图案化TCO层(例如，图案化铟锡氧化物(ITO)层)的层堆叠，致使用户看不见图案化TCO层(“看不见的TCO”或(“看不见的(i-)ITO”)。触控面板的制造商具有广泛、多样化和符合市场需求的系列产品，以迅速地适应步调快速的科技演进。一种制造装置对于不同产品(诸如以上示例性的不同层堆叠)的简单且快速的适应是一方面。举例来说，在触控面板制造中，从具有看不见的TCO的层堆叠至金属层堆叠(诸如黑色金属层堆叠)的快速工具转换是有益的。然而，许多工艺步骤，例如于直列式生产工具中，在相邻的工艺单元之间有占据空间的气体分离单元，且通常分离的沉积装置用于生产例如具有看不见的TCO的层堆叠和诸如黑色金属层堆叠的金属层堆叠。如上所述，需要克服至少一些问题的一种用以在基板上沉积材料的沉积装置。
技术实现思路
鉴于上述，提出一种用于在基板上沉积材料的沉积装置。根据权利要求书、说明书和所附附图，本公开的进一步的方面、益处和特点是显而易见的。根据本公开的一方面，提供一种用于在基板上沉积材料的沉积装置。沉积装置包括第一处理腔室和第二处理腔室；位于第一处理腔室内的至少一个第一沉积源和位于第二处理腔室内的至少一个第二沉积源；和至少一个第一遮蔽设备。此至少一个第一遮蔽设备配置为至少在第一位置和第二位置之间为可移动的，其中此至少一个第一遮蔽设备配置为当此至少一个第一遮蔽设备在第一位置时遮蔽至少一个第一沉积源，且其中至少一个第一遮蔽设备配置为在第一处理腔室和第二处理腔室之间为可移动的。根据本公开的另一方面，提供一种用于在基板上沉积材料的沉积装置。沉积装置包括：第一处理腔室和第二处理腔室；在第一处理腔室内的至少一个第一沉积源和在第二处理腔室内的至少一个第二沉积源；以及至少一个第一遮蔽设备。此至少一个第一遮蔽设备配置为至少在第一位置和第二位置之间为可移动的，其中此至少一个第一遮蔽设备配置为当此至少一个第一遮蔽设备在第一位置时遮蔽至少一个第一沉积源。沉积装置还包括至少一个第二遮蔽设备，此至少一个第二遮蔽设备配置为至少在第三位置和第四位置之间为可移动的，其中此至少一个第二遮蔽设备配置为当此至少一个第二遮蔽设备在第三位置时遮蔽至少一个第二沉积源。根据本公开的又另一方面，提出一种用于在基板上沉积第一层堆叠和第二层堆叠中的一个的沉积装置，其中第二层堆叠不同于第一层堆叠。沉积装置包括第一处理腔室和第二处理腔室；在第一处理腔室内的至少一个第一沉积源和在第二处理腔室内的至少一个第二沉积源；在第一处理腔室中的至少一个第一遮蔽设备，其中至少一个第一遮蔽设备配置为至少在第一位置和第二位置之间为可移动的，其中此至少一个第一遮蔽设备配置为当此至少一个第一遮蔽设备在第一位置时遮蔽至少一个第一沉积源；以及在第二处理腔室中的至少一个第二遮蔽设备，其中至少一个第二遮蔽设备配置为至少在第三位置和第四位置之间为可移动的，其中，至少一个第二遮蔽设备配置为当此至少一个第二遮蔽设备在第三位置时遮蔽至少一个第二沉积源。此至少一个第一遮蔽设备配置为第一气体分离遮蔽件，和/或此至少一个第二遮蔽设备配置为第二气体分离遮蔽件。附图说明因此，为了详细理解本公开的上述特征的方式，可参照实施例得出以上简要概括的本公开的更具体的描述。所附附图关于本公开的实施例并且说明如下：图1显示用于在基板上沉积材料的沉积装置的示意图；图2显示用于在基板上沉积材料的另一沉积装置的示意图；图3A和3B显示根据本文所述实施例的用以在基板上沉积材料的沉积装置的示意图；图4A和4B显示根据本文所述实施例的用以在基板上沉积材料的另一沉积装置的示意图；以及图5A和5B显示根据本文所述实施例的用以在基板上沉积材料的又一沉积装置的示意图。具体实施方式现将详细参考本公开的多种实施例，在附图中描绘实施例的一个或多个示例。在以下附图描述中，相同的参考标号是指相同的组件。一般来说，仅叙述相对于单独实施例的不同处。各示例作为本公开的解释提供，并且不意欲对本公开进行限制。再者，显示或叙述为一个实施例的部分的特征也可以使用于其他实施例或与其他实施例结合以再产生进一步的实施例。本说明书意在包括这样的修改与变化。触控面板的制造商具有广泛、多样化的系列产品，需要迅速地适应步调快速的科技演进。制造装置对于不同产品(诸如不同的层堆叠)的简单且迅速的适用是一方面。举例来说，在触控面板制造中，需要从具有看不见的TCO的层堆叠至金属层堆叠(诸如黑色金属架桥或黑色金属网)的快速工具转换。本公开提供一种用于在基板上沉积材料的沉积装置。沉积装置包括第一处理腔室和第二处理腔室；在第一处理腔室内的至少一个第一沉积源和在第二处理腔室内的至少一个第二沉积源；以及至少一个第一遮蔽设备。至少一个第一遮蔽设备配置为至少在第一位置和第二位置之间为可移动的，其中至少一个第一遮蔽设备配置为当该至少一个第一遮蔽设备在第一位置时遮蔽至少一个第一沉积源，以及其中至少一个第一遮蔽设备配置为至少在第一处理腔室和第二处理腔室之间为可移动的。根据本公开的另一方面，提供一种用于在基板上沉积材料的沉积装置。沉积装置包括第一处理腔室和第二处理腔室；在第一处理腔室内的至少一个第一沉积源和在第二处理腔室内的至少一个第二沉积源；以及至少一个第一遮蔽设备。至少一个第一遮蔽设备配置为至少在第一位置和第二位置之间为可移动的，其中至少一个第一遮蔽设备配置为当该至少一个第一遮蔽设备在第一位置时遮蔽至少一个第一沉积源。沉积装置还包括至少一个第二遮蔽设备，该至少一个第二遮蔽设备配置为至少在第三位置和第四位置之间为可移动的，其中至少一个第二遮蔽设备配置为当该至少一个第二遮蔽设备在第三位置时遮蔽至少一个第二沉积源。本公开提供一种沉积装置，其包括至少一个第一遮蔽设备，至少一个第一遮蔽设备例如具有移位寄存器型的装置配置且带有可移动的气体分离单元，可移动的气体分离单元可以同时用作气体分离器且用作沉积源的保护单元，使得一个直列式系统可以提供具有不同材料的两个或更多个层堆叠(即，堆叠概念)。本文使用的术语“遮蔽设备”应涵盖配置成至少部分地遮盖和/或保护沉积源免受周遭影响的设备，以及提供气体分离遮蔽的设备，其允许针对不同分压和/或工艺气体在沉积装置中或在是沉积装置的处理腔室中提供区域或者分离区域。本文使用的“基板”应涵盖可用于显示器制作的基板，例如玻璃或塑料基板。例如，文中所述的基板应包括可用于液晶显示器(LCD)、等本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于在基板上沉积材料的沉积装置，包括：第一处理腔室和第二处理腔室；位于所述第一处理腔室内的至少一个第一沉积源和位于所述第二处理腔室内的至少一个第二沉积源；以及至少一个第一遮蔽设备；其中所述至少一个第一遮蔽设备配置为至少在第一位置和第二位置之间为可移动的，其中所述至少一个第一遮蔽设备配置为当所述至少一个第一遮蔽设备在所述第一位置时遮蔽所述至少一个第一沉积源，且其中所述至少一个第一遮蔽设备配置为在所述第一处理腔室和所述第二处理腔室之间为可移动的。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种用于在基板上沉积材料的沉积装置，包括：第一处理腔室和第二处理腔室；位于所述第一处理腔室内的至少一个第一沉积源和位于所述第二处理腔室内的至少一个第二沉积源；以及至少一个第一遮蔽设备；其中所述至少一个第一遮蔽设备配置为至少在第一位置和第二位置之间为可移动的，其中所述至少一个第一遮蔽设备配置为当所述至少一个第一遮蔽设备在所述第一位置时遮蔽所述至少一个第一沉积源，且其中所述至少一个第一遮蔽设备配置为在所述第一处理腔室和所述第二处理腔室之间为可移动的。2.如权利要求1所述的沉积装置，其中所述至少一个第一遮蔽设备配置为当所述至少一个第一遮蔽设备在所述第二位置时遮蔽所述至少一个第二沉积源。3.如权利要求1所述的沉积装置，其中所述至少一个第一遮蔽设备配置为第一气体分离遮蔽件。4.如权利要求2所述的沉积装置，其中所述至少一个第一遮蔽设备配置为第一气体分离遮蔽件。5.一种用于在基板上沉积材料的沉积装置，包括：第一处理腔室和第二处理腔室；位于所述第一处理腔室内的至少一个第一沉积源和位于所述第二处理腔室内的至少一个第二沉积源；至少一个第一遮蔽设备，其中所述至少一个第一遮蔽设备配置为至少在第一位置和第二位置之间为可移动的，其中所述至少一个第一遮蔽设备配置为当所述至少一个第一遮蔽设备在所述第一位置时遮蔽所述至少一个第一沉积源；以及至少一个第二遮蔽设备，配置为至少在第三位置和第四位置之间为可移动的，其中所述至少一个第二遮蔽设备配置为当所述至少一个第二遮蔽设备在所述第三位置时遮蔽所述至少一个第二沉积源。6.如权利要求5所述的沉积装置，其中所述至少一个第一遮蔽设备设置在所述第一处理腔室中，和/或其中所述至少一个第二遮蔽设备设置在所述第二处理腔室中。7.如权利要求5所述的沉积装置，其中所述至少一个第一遮蔽设备包括第一卷帘，和/或其中所述至少一个第二遮蔽设备包括第二卷帘。8.如权利要求6所述的沉积装置，其中所述至少一个第一遮蔽设备包括第一卷帘，和/或其中所述至少一个第二遮蔽设备包括第二卷帘。9.如权利要求5所述的沉积装置，其中所述至少一个第一遮蔽设备配置为第一气体分离遮蔽件，和/或其中所述至少一个第二遮蔽设备配置为第二气体分离遮蔽件。10.如权利要求1至9中的一项所述的沉积装置，还包括基板支撑件，所述基板支撑件至少延伸通过所述第一处理腔室和所述第二处理腔室，其中在所述第一位置中，所述至少一个第一...

【专利技术属性】
技术研发人员：T·W·齐尔鲍尔，A·赫尔米希，R·欣特舒斯特，U·慕尔菲德，B·斯托克，H·G·沃尔夫，M·班德尔，
申请(专利权)人：应用材料公司，
类型：新型
国别省市：美国,US