一种真空镀膜方法及设备技术

本发明专利技术实施例公开了一种真空镀膜方法及真空镀膜设备。所述真空镀膜方法包括对被镀件进行真空预处理；以及将真空预处理后的被镀件放入真空镀膜装置中进行真空镀膜。本申请中的真空镀膜设备及其所采用的真空镀膜方法,是将被镀件长时间置于第一真空度的真空舱室内，高效地去除被镀件内残留的气体和杂质，因此被镀件在真空镀膜过程中很难再释放气体或杂质，进而保证真空镀膜室内的气氛成分稳定，从而使被镀件表面的膜层颜色均匀，活化被镀件表面，提高膜层结合力并改善膜层表面应力，保证真空镀膜工艺的稳定性和可重复性，提高被镀件生产的效率和良品率。

Vacuum coating method and equipment

The embodiment of the invention discloses a vacuum coating method and a vacuum coating equipment. The vacuum coating method including the vacuum plating pretreatment; and the vacuum after pretreatment by plating in vacuum coating device. Method of vacuum coating equipment in this application and used, are to be plated long time in the first vacuum vacuum chamber, effectively remove the plated piece within the residual gases and impurities, so it is plated in vacuum coating process is very difficult to release gas or impurities, so as to ensure the stability of atmosphere composition of vacuum coating chamber, which makes the plating surface film of uniform color, and activation of the plated surface, improve film adhesion and improve the film surface stress, ensure the stability of vacuum coating technology and repeatability, improve the plating production efficiency and yield.

【技术实现步骤摘要】
一种真空镀膜方法及设备
本专利技术涉及真空镀膜
，特别涉及一种真空镀膜方法及设备。
技术介绍
真空镀膜，是指在真空室内材料的原子从加热源离析出来打到被镀件的表面上，真空镀膜的主要功能包括赋予被镀件表面高度金属光泽效果和镜面效果，膜层具有出色的阻隔性能，提供优异的电磁屏蔽和导电效果。被镀件表面膜层颜色是否均匀、结合力是否牢固是判断镀膜质量是否优良的重要指标之一，若被镀件表面膜层颜色不均匀或是膜层出现脱落，则被镀件将作为不合格品而被丢弃。为保证被镀件镀膜质量优良，需要维持真空室内的气氛成分稳定。而被镀件在制作过程中其内有可能残留一些气体，如混合注塑件金属和塑胶注塑而成的被镀件，为了保证两者良好结合，两者会有复杂的界面或者孔隙，而这些孔隙中则可能存留一些水分气体或者其它的物体例如清洗液、抛光膏等。现有真空镀膜设备会设定对应的加热温度和真空度。当被镀件放置于真空镀膜设备后，真空镀膜设备启动并逐步达到其设定的加热温度和真空度。一般真空镀膜设备达到预定设定加热温度和预设真空度(如达到真空度6.0*10-3pa)后，就立即进入下一制程环节，不会预留长时间保持真空加热的过程。由于被镀件中的孔隙尺寸特别的微小，相对孔隙的微孔特别深，在相对短的抽真空过程和常温状态下气体或其他杂质很难彻底的清除干净，此时被镀件表面还会残存大量杂气未被释放，导致被镀件在镀膜过程中受到原子撞击，表面升温使残留在缝隙、微孔杂气源源不断被释放出来，最终导致膜层颜色不均，结合力不足，膜层质量受到影响，进而影响真空镀膜设备的工艺稳定性和可重复性。如何避免真空镀膜过程中被镀件释放气体或杂质，保证真空室内的气氛成分稳定，成为真空镀膜工艺中亟待解决的问题。
技术实现思路
本专利技术提供了一种真空镀膜方法，其目的在于，避免真空镀膜过程中被镀件释放气体或杂质，保证真空室内的气氛成分稳定。同时，本专利技术还提供一种真空镀膜设备，其采用本专利技术实施例中的真空镀膜方法，其能够保证真空镀膜工艺的稳定性和可重复性。为了实现上述目的，本专利技术的技术方案如下：根据本专利技术的一方面，提供了一种真空镀膜方法，包括：对被镀件进行真空预处理；将真空预处理后的被镀件放入真空镀膜装置中进行真空镀膜。其中，所述对被镀件进行真空预处理包括：将被镀件置于真空舱室中的载台上；对真空舱室抽真空至第一真空度，抽真空过程中对被镀件加热至第一温度；保持第一温度不变，使所述真空舱室维持第一真空度设定时长。其中，所述真空舱室维持第一真空度设定时长大于1小时；第一真空度小于1×10-2Pa。进一步地，对被镀件进行真空预处理后还包括辉光清洗步骤；辉光清洗步骤包括：保持所述真空舱室第一温度不变，向真空舱室内充入惰性气体至第二真空度；开启辉光清洗装置电源，对被镀件进行辉光清洗设定时间；设定时间到达后，关闭辉光清洗装置电源。优选地，对被镀件进行真空预处理与所述辉光清洗步骤周期性交替。进一步优选地，在对被镀件进行真空预处理之前还包括：在所述真空舱室的进口处设置有与所述真空舱室连通的第一缓冲室；先将第一缓冲室与所述真空舱室隔绝，并将被镀件先放入第一缓冲室；对第一缓冲室抽真空，当第一缓冲室内真空度达到第一真空度时，将被镀件由第一缓冲室送至所述真空舱室中。其中，所述真空舱室与所述真空镀膜装置相连布置或者独立设置。进一步优选地，在所述被镀件放入真空镀膜装置之前，还包括：在所述真空舱室的出口处设置有与所述真空舱室连通的第二缓冲室；先将第二缓冲室与所述真空舱室隔绝，并对第二缓冲室抽真空；当第二缓冲室内的真空度达到第一真空度时，将被镀件由所述真空舱室送至第二缓冲室中。更进一步优选地，在所述被镀件放入真空镀膜装置中进行真空镀膜后，还包括：在所述真空镀膜装置出口处设置有与所述真空镀膜装置连通的第三缓冲室；先将第三缓冲室与所述真空镀膜装置隔绝，并对第三缓冲室抽真空；当第三缓冲室内的真空度与真空镀膜装置内的真空度相同时，将被镀件由所述真空镀膜装置送到第三缓冲室。根据本专利技术的另一方面，还提供了一种真空镀膜设备，包括真空镀膜装置和真空预处理装置，所述真空预处理装置包括真空泵、真空舱室、设置于真空舱室内的载台、加热系统和真空测量系统；所述被镀件设置于所述载台上；所述真空泵与所述真空舱室联通，并对所述真空舱室进行抽真空；所述加热系统和所述真空测量系统设置于所述真空舱室内。优选地，在所述真空预处理装置进口处设置有与所述真空舱室连通的第一缓冲室。进一步优选地，在所述真空预处理装置出口处设置有与所述真空舱室连通的第二缓冲室。进一步优选地，在所述真空镀膜装置出口处设置有与所述真空镀膜装置连通的第三缓冲室。更进一步优选地，所述真空预处理装置还包括辉光清洗装置及惰性气体供气系统；所述辉光清洗装置设置在所述真空舱室内；所述惰性气体供气系统设置于所述真空舱室外，所述辉光清洗装置与所述惰性气体供气系统连接。其中，所述真空舱室与所述真空镀膜装置相连布置或者独立设置。本申请中的所述真空镀膜装置为一个或多个。由以上技术方案可知，本申请中的真空镀膜设备及其所采用的真空镀膜方法,是将被镀件长时间置于第一真空度的真空舱室内，高效地去除被镀件内残留的气体和杂质，因此被镀件在真空镀膜过程中很难再释放气体或杂质，进而保证真空镀膜室内的气氛成分稳定，从而使被镀件表面的膜层颜色均匀，活化被镀件表面，提高膜层结合力并改善膜层表面应力，保证真空镀膜工艺的稳定性和可重复性，提高被镀件生产的效率和良品率。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为根据一优选实施例示出的真空镀膜设备的结构示意图；图2为根据另一优选实施例示出的真空镀膜设备的结构示意图。具体实施方式下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整的描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。本专利技术提供一种真空镀膜方法，其能够将被镀件中的气体或杂质在进行镀膜前进行充分去除，从而避免被镀件在真空镀膜过程中释放气体或杂质，进而保证真空室内的气氛成分稳定。本专利技术实施例中所述的真空镀膜方法包括：对被镀件进行真空预处理；将真空预处理后的被镀件放入真空镀膜装置中进行真空镀膜。具体地，对被镀件进行真空预处理包括：将被镀件置于真空舱室中的载台上；对真空舱室抽真空至第一真空度，抽真空过程中对被镀件加热至第一温度；第一温度的阈值根据被镀件的选用材料决定，第一温度小于被镀件的最高承受温度。保持第一温度不变，使真空舱室维持第一真空度设定时长。其中，第一真空度的数值小于1×10-2Pa。真空舱室维持第一真空度的设定时长需大于1小时；若使被镀件中的气体或杂质去除的更彻底，真空舱室维持第一真空度的设定时长可优选大于3小时。将被镀件长时间置于第一真空度的真空舱室内，可高效地去除被镀件内残留的气体和杂质，则被镀件在真空镀膜过程中便很难再释放气体或杂质，进而保证真空镀膜室内的气氛成分稳定，从而使被镀本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种真空镀膜方法，其特征在于，包括：对被镀件进行真空预处理；将真空预处理后的被镀件放入真空镀膜装置中进行真空镀膜。

【技术特征摘要】
1.一种真空镀膜方法，其特征在于，包括：对被镀件进行真空预处理；将真空预处理后的被镀件放入真空镀膜装置中进行真空镀膜。2.根据权利要求1所述的真空镀膜方法，其特征在于，所述对被镀件进行真空预处理包括：将被镀件置于真空舱室中的载台上；对真空舱室抽真空至第一真空度，抽真空过程中对被镀件加热至第一温度；保持第一温度不变，使所述真空舱室维持第一真空度设定时长。3.根据权利要求2所述的真空镀膜方法，其特征在于，所述真空舱室维持第一真空度设定时长大于1小时；第一真空度小于1×10-2Pa。4.根据权利要求2所述的真空镀膜方法，其特征在于，对被镀件进行真空预处理后还包括辉光清洗步骤；所述辉光清洗步骤包括：保持所述真空舱室第一温度不变，向真空舱室内充入惰性气体至第二真空度；开启辉光清洗装置电源，对被镀件进行辉光清洗设定时间；设定时间到达后，关闭辉光清洗装置电源。5.根据权利要求4所述的真空镀膜方法，其特征在于，对被镀件进行真空预处理与所述辉光清洗步骤周期性交替。6.根据权利要求2至5中任一所述的真空镀膜方法，其特征在于，包括下述技术特征的至少一种：在对被镀件进行真空预处理之前还包括：在所述真空舱室的进口处设置有与所述真空舱室连通的第一缓冲室；先将第一缓冲室与所述真空舱室隔绝，并将被镀件先放入第一缓冲室；对第一缓冲室抽真空，当第一缓冲室内真空度达到第一真空度时，将被镀件由第一缓冲室送至所述真空舱室中；在所述被镀件放入真空镀膜装置之前，还包括：在所述真空舱室的出口处设置有与所述真空舱室连通的第二缓冲室；先将第二缓冲室与所述真空舱室隔绝，并对第二缓冲室...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘彬，施利刚，陈美亚，王磊磊，
申请(专利权)人：北京实力源科技开发有限责任公司，
类型：发明
国别省市：北京,11