【技术实现步骤摘要】
一种长寿命旋转阴极磁控溅射靶材
[0001]本技术涉及一种磁控溅射镀膜靶材，特别涉及一种长寿命旋转阴极磁控溅射靶材。
技术介绍
[0002]磁控溅射镀膜是用荷能粒子轰击固体靶材，使靶材原子溅射出来并沉积到基体表面形成薄膜的镀膜技术。磁控溅射镀膜技术中，圆柱磁控溅射靶通过在靶材中心放置磁极提供磁场，磁场固定旋转靶材通过对靶材施加负高压，以靶材作为阴极，基片作为阳极，在靶材与基片之间形成电场。磁控溅射镀膜是利用磁场与电场交互作用，使电子在靶面上螺旋状运行，并不断撞击氩气产生离子，所产生的离子在电场作用下撞向靶面溅射出靶材，沉积在基片上获得所需的导电薄膜层。在使用常规旋转圆柱靶材做磁控溅射镀膜时，由于磁场产生的磁力线在靶面分布不均，在磁力线集中的地方，等离子体最强，对应的靶面上由于溅射形成“V”型沟道，此处靶材消耗最快、整个靶不能再使用，成了易损件，出现的问题靶材利用率不高。尤其受阴极端头效应影响，在阴极端头表面离子体的均匀性受等离子体电子跑道转弯处影响，在靶面对角线端部区域，等离子体强靶材消耗多，而在靶材直道区域，靶材消耗较少，...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种长寿命旋转阴极磁控溅射靶材，其特征在于，包括圆柱靶材、嵌入环状靶材和靶材堵头，所述圆柱靶材为直段靶材，所述嵌入环状靶材嵌套在所述圆柱靶材外部，所述嵌入环状靶材位于所述圆柱靶材两端的端部。2.根据权利要求1所述的一种长寿命旋转阴极磁控溅射靶材，其特征在于，所述嵌入环状靶材的一端内表面与所述圆柱靶材的外表面相贴合，所述靶材堵头通过螺栓将所述嵌入环状靶材与所述圆柱靶材两端端部相连接；所述嵌入环状靶材的另一端内表面为内凹槽结构。3.根据权利要求1所述的一种长寿命旋转阴极磁控溅射靶材，其特征在于，所述嵌入环状靶材与所述圆柱靶材外表面贴合的一端为斜角结构。4.根据权利要求1所述的一种长寿命旋转阴极磁控溅射靶材，其特征在于，所述嵌入环...
【专利技术属性】
技术研发人员：刘阳，刘彬，王磊磊，
申请(专利权)人：北京实力源科技开发有限责任公司，
类型：新型
国别省市：
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