本实用新型专利技术公开了一种多靶切换溅射装置及溅射镀膜系统，包括：多个溅射靶位，多个溅射靶位上皆设置有溅射靶模块，供电单元，供电单元包括一溅射电源模块、汇流排和多个与溅射靶位一一对应的耦合器，溅射电源模块的输出端电性连接汇流排，多个溅射靶模块的靶电极分别通过对应的耦合器电性连接汇流排；控制模块，控制模块的输出端分别电性连接多个耦合器的控制端以用于控制不同溅射靶位的电源切换。本申请与与常规的溅射系统相比，减少了溅射电源的使用量，在满足多层膜系工艺需求的同时，极大的降低了电源的硬件成本和空间占用，同时可实现自动控制，提高了电源利用率。提高了电源利用率。提高了电源利用率。
【技术实现步骤摘要】
多靶切换溅射装置及溅射镀膜系统
[0001]本技术涉及溅射镀膜领域，特别涉及一种多靶切换溅射装置及溅射镀膜系统。
技术介绍
[0002]磁控光学溅射镀膜，如AR涂层工艺，会在基材上镀上多层不同的材料，因此需要在镀膜设备上配置不同反应气体和不同靶材，其中根据膜系构成，在不同时间利用不同靶材各自的溅射电源，使靶材原子脱离靶材沉积到基材表面形成薄膜。
[0003]常规的溅射方式有中频溅射、直流溅射等。现有的溅射镀膜系统中，每个溅射靶模块都配置一台溅射电源，导致设备成本极高，同时增加了空间占用，并且工艺过程中不同的溅射靶模块一般不会同时工作，电源利用率很低。
技术实现思路
[0004]本技术旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本技术提出一种多靶切换溅射装置及溅射镀膜系统，只需一台溅射电源即可满足多靶位的建设需求，能够减少设备成本并且提高电源利用率。
[0005]根据本技术第一方面实施例的多靶切换溅射装置，包括：多个溅射靶位，多个所述溅射靶位上皆设置有溅射靶模块，供电单元，所述供电单元包括一溅射电源模块、汇流排和多个与溅射靶位一一对应的耦合器，所述溅射电源模块的输出端电性连接汇流排，多个溅射靶模块的靶电极分别通过对应的耦合器电性连接汇流排；控制模块，所述控制模块的输出端分别电性连接多个所述耦合器的控制端以用于控制不同溅射靶位的电源切换。
[0006]根据本技术第一方面实施例的多靶切换溅射装置，至少具有如下有益效果：
[0007]本技术实施方式中溅射电源模块通过汇流排和耦合器连接各个溅射靶位中溅射靶模块的靶电极，只需一个溅射电源模块即可实现对多个溅射靶位的供电，控制模块通过对耦合器的控制来实现各溅射靶位电源的切换，满足不同工艺的需求，本申请与与常规的溅射系统相比，减少了溅射电源的使用量，在满足多层膜系工艺需求的同时，极大的降低了电源的硬件成本和空间占用，同时可实现自动控制，提高了电源利用率。
[0008]根据本技术的一些实施例，所述溅射靶模块为孪生靶或单靶，所述控制模块连接所述溅射电源模块的控制端以用于切换电源输出不同的波形电压。
[0009]根据本技术的一些实施例，所述溅射电源模块的输出端通过电源输出线连接汇流排，所述溅射靶模块的靶电极通过耦合器输出线连接耦合器的输出端，所述耦合器的输入端通过汇流排输出线接入汇流排。
[0010]根据本技术的一些实施例，所述电源输出线、耦合器输出线和所述汇流排输出线皆为带绝缘外皮的铜编织带。
[0011]根据本技术的一些实施例，所述汇流排为铜排，所述铜排上开设有圆孔，所述电源输出线和所述汇流排输出线分别通过紧固件固定在对应的圆孔上。
[0012]根据本技术的一些实施例，所述耦合器包括静铁芯、动铁芯、进线端导电排、出线端导电排和动导电排，所述静铁芯和所述动铁芯相对设置，所述静铁芯上设置有线圈，所述控制模块的输出端电性连接所述线圈的两端，所述进线端导电排电性连接汇流排，所述出线端导电排电性连接溅射靶模块的靶电极，所述进线端导电排和所述出线端导电排分别通过一弹簧绝缘连接动铁芯的上下两端，所述动导电排位于进线端导电排和所述出线端导电排之间且通过一绝缘的固定杆与所述动铁芯固定连接，所述动铁芯通过静铁芯产生的电磁力带动动导电排活动使动导电排的两端分别与进线端导电排和出线端导电排接触/分离。
[0013]根据本技术第二方面实施例的溅射镀膜系统，包括上述的多靶切换溅射装置。
[0014]根据本技术第二方面实施例的溅射镀膜系统，至少具有如下有益效果：
[0015]本技术实施方式溅射电源模块通过汇流排和耦合器连接各个溅射靶位中溅射靶模块的靶电极，只需一个溅射电源模块即可实现对多个溅射靶位的供电，控制模块通过对耦合器的控制来实现各溅射靶位电源的切换，满足不同工艺的需求，本申请与与常规的溅射系统相比，减少了溅射电源的使用量，在满足多层膜系工艺需求的同时，极大的降低了电源的硬件成本和空间占用，同时可实现自动控制，提高了电源利用率。
[0016]本技术的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本技术的实践了解到。
附图说明
[0017]下面结合附图和实施例对本技术做进一步的说明，其中：
[0018]图1为本技术实施例中多靶切换溅射装置的电路图；
[0019]图2为本技术实施例中汇流排的结构图；
[0020]图3为本技术实施例中耦合器的结构图；
[0021]图4为本技术实施例中多靶切换溅射装置的启动控制流程图；
[0022]图5为本技术实施例中多靶切换溅射装置的停止控制流程图；
[0023]图6为本技术实施例中多靶切换溅射装置的切换控制流程图。
[0024]附图标号：
[0025]溅射靶位100、溅射靶模块110、溅射电源模块200、汇流排300、耦合器400、静铁芯410、动铁芯420、进线端导电排430、出线端导电排440、动导电排450、塑料支架460、电源输出线510、耦合器输出线520、汇流排输出线530。
具体实施方式
[0026]下面详细描述本技术的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，仅用于解释本技术，而不能理解为对本技术的限制。
[0027]在本技术的描述中，需要理解的是，涉及到方位描述，例如上、下等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描
述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。
[0028]在本技术的描述中，多个指的是两个以上。如果有描述到第一、第二只是用于区分技术特征为目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量或者隐含指明所指示的技术特征的先后关系。
[0029]本技术的描述中，除非另有明确的限定，设置、安装、连接等词语应做广义理解，所属
技术人员可以结合技术方案的具体内容合理确定上述词语在本技术中的具体含义。
[0030]参照图1所示，一种多靶切换溅射装置，包括：多个溅射靶位100、供电单元和控制模块。具体的，溅射靶位100位于溅射室中，每个溅射靶位100上皆设置有溅射靶模块110，供电单元包括一溅射电源模块200、汇流排300和多个与溅射靶位100一一对应的耦合器400，溅射电源模块200的输出端电性连接汇流排300，多个溅射靶模块110的靶电极分别通过对应的耦合器400电性连接汇流排300，控制模块的输出端分别电性连接多个耦合器400的控制端，通过控制不同耦合器400的开闭来控制不同溅射靶位100的电源切换。
[0031]本实用新本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种多靶切换溅射装置，其特征在于，包括：多个溅射靶位(100)，多个所述溅射靶位(100)上皆设置有溅射靶模块(110)；供电单元，所述供电单元包括一溅射电源模块(200)、汇流排(300)和多个与溅射靶位(100)一一对应的耦合器(400)，所述溅射电源模块(200)的输出端电性连接汇流排(300)，多个溅射靶模块(110)的靶电极分别通过对应的耦合器(400)电性连接汇流排(300)；控制模块，所述控制模块的输出端分别电性连接多个所述耦合器(400)的控制端以用于控制不同溅射靶位(100)的电源切换。2.根据权利要求1所述的多靶切换溅射装置，其特征在于，所述溅射靶模块(110)为孪生靶或单靶，所述控制模块连接所述溅射电源模块(200)的控制端以用于切换电源输出不同的波形电压。3.根据权利要求1所述的多靶切换溅射装置，其特征在于，所述溅射电源模块(200)的输出端通过电源输出线(510)连接汇流排(300)，所述溅射靶模块(110)的靶电极通过耦合器输出线(520)连接耦合器(400)的输出端，所述耦合器(400)的输入端通过汇流排输出线(530)接入汇流排(300)。4.根据权利要求3所述的多靶切换溅射装置，其特征在于，所述电源输出线(510)、耦合器输出线(520)和所述汇流排输出线(530)皆为带绝缘外皮的铜编织带。5...
【专利技术属性】
技术研发人员：彭中业，杨诗锋，陈培绍，
申请(专利权)人：中山凯旋真空科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：
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