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本实用新型涉及一种长寿命旋转阴极磁控溅射靶材，其特征在于，包括圆柱靶材、嵌入环状靶材和靶材堵头，所述圆柱靶材为直段靶材，所述嵌入环状靶材嵌套在所述圆柱靶材外部，所述嵌入环状靶材位于所述圆柱靶材两端的端部。使所述圆柱靶材两端端部靶材的消耗速率...
该专利属于北京实力源科技开发有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京实力源科技开发有限责任公司授权不得商用。

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