气体匀流组件及片材表面处理装置制造方法及图纸

技术编号:16549801 阅读:58 留言:0更新日期:2017-11-11 13:30
本实用新型专利技术公开的气体匀流组件,包括相互连通的第一匀流件和第二匀流件,第一匀流件通过气体控制阀门连通气管,第一匀流件具有多个分气通路,第二匀流件上开设多个气孔,多个气孔与多个分气通路相通。本实用新型专利技术公开的片材表面处理装置,利用气流对片材进行表面处理,其包括箱体,还包括至少一个气体匀流组件,气体匀流组件设置于箱体内。本实用新型专利技术的片材表面处理装置通过在箱体内加装气体匀流组件,使氮气、臭氧进出箱体均匀分散,气流平稳、流速缓慢,有效避免气流冲击;气体在箱体内部均匀填充,使得箱体内部杂质排除更彻底,清洁范围无死角;臭氧与箱体内部并列排布的硅片接触更彻底,每片硅片周围的臭氧浓度均匀一致,保证氧化效果。

Gas homogenizing assembly and sheet surface treatment device

The utility model discloses a uniform gas flow component, comprising a first uniform interconnected flow and second uniform flow, uniform flow valve is communicated with the first pipe through the gas control, the first uniform flow has a plurality of gas channels, second uniform flow piece is provided with a plurality of holes, a plurality of holes and a plurality of gas passage. The surface of the material processing device disclosed by the utility model on the sheet surface treatment by air, which comprises a box body, also includes at least one uniform gas flow components, gas well flow component is arranged in the box body. The surface of the material processing device of the utility model by adding a uniform gas flow components in the box body, the nitrogen and ozone import box evenly dispersed flow smooth, slow flow, effectively avoid air impact; gas inside the box filled the impurities inside the box to exclude more thoroughly clean range without dead; internal ozone and parallel wafer box contact arrangement more thoroughly, the ozone concentration around each wafer uniform, ensure the effect of oxidation.

【技术实现步骤摘要】
气体匀流组件及片材表面处理装置
本技术属于光伏太阳能电池硅片制造
,具体涉及一种气体匀流组件,还涉及一种包括上述气体匀流组件的片材表面处理装置。
技术介绍
随着世界经济的不断发展,现代化建设对高效能源需求不断增长。而光伏发电作为绿色能源以及人类可持续发展的主要能源的一种,日益受到世界各国的重视并得到大力发展。单晶硅片、多晶硅片作为光伏发电的太阳能电池片的基础材料,拥有广泛的市场需求。在太阳能电池的加工过程中,为了提高太阳能电池的转换效率,需要对表面制绒后的硅片进行有效的钝化,通过氧化法在硅片表面形成二氧化硅薄膜,目前常用的工艺是采用臭氧气体进行硅片钝化。图1展示了一种现有技术中的硅片臭氧钝化装置。硅片花篮插装硅片后,横向放置在硅片臭氧钝化装置的箱体1内;而供气装置采用单管连接的方式连接箱体1,氮气、臭氧通过箱体顶部的进气管2进入箱体,反应完成后,通过箱体底部的出气管3,在真空泵5的工作下抽出箱体。上述硅片臭氧钝化装置在气体进出箱体的过程中会存在以下技术问题:首先,气体进出箱体点单一,流速较快,容易造成硅片品质隐患:如图1所示,箱体顶部和底部只设计一个进气、出气通路时,气体会迅速本文档来自技高网...
气体匀流组件及片材表面处理装置

【技术保护点】
气体匀流组件,包括气体控制阀门和连接所述气体控制阀门的气管,其特征在于,还包括相互连通的第一匀流件和第二匀流件,所述第一匀流件通过所述气体控制阀门连通所述气管,所述第一匀流件具有多个分气通路,所述第二匀流件上开设多个气孔(12),所述多个气孔(12)与所述多个分气通路相通。

【技术特征摘要】
1.气体匀流组件,包括气体控制阀门和连接所述气体控制阀门的气管,其特征在于,还包括相互连通的第一匀流件和第二匀流件,所述第一匀流件通过所述气体控制阀门连通所述气管,所述第一匀流件具有多个分气通路,所述第二匀流件上开设多个气孔(12),所述多个气孔(12)与所述多个分气通路相通。2.根据权利要求1所述的气体匀流组件,其特征在于,所述第一匀流件的侧壁向外凸出形成多个分气通路,所述第一匀流件的内部中空形成与所述多个分气通路相通的分气腔,所述多个分气通路与所述气管相对设置,所述多个分气通路依次经所述分气腔、气体控制阀门后连通所述气管。3.根据权利要求2所述的气体匀流组件,其特征在于,所述第二匀流件连通所述多个分气通路的表面向内凹陷形成中空的分流腔,所述分流腔连通于所述多个分气通路和多个气孔(12)之间,且所述多个气孔(12)和多个分气通路相对设置。4.根据权利要求3所述的气体匀流组件,其特征在于,所述多个气孔(12)均匀排布在与所述分流腔相对的第二匀流件上。5.如权利要求2所述的气体匀流组件,其特征在于,所述多个分气通路均匀分布在所述第一匀流件的侧壁上。6.片材表面处理装置,其利用气流对片材进行表面处理,所述片材表面处...

【专利技术属性】
技术研发人员:董国樑邢建龙张治国赵科雄赵许飞平洛徐震何双奇
申请(专利权)人:隆基绿能科技股份有限公司
类型:新型
国别省市:陕西,61

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