The invention discloses a laser chip planarization processing device includes processing cavity, chip fixed platform, laser device, chip to send interface, rotary positioning device, laser receiving device, detection control device and ultrapure water flushing device is arranged in the cavity processing chip fixed platform, laser device and laser receiving device. Chip fixed platform connecting laser receiving device, laser receiving device is connected with the laser device, the chip chip connected to send a fixed platform interface, rotary positioning device connecting chip fixed platform. By adopting the technical proposal made a cost reduction, environmental protection and reliable laser chip planarization processing device, to achieve a simplified process to solve the problem of the flattening process efficiency and improve the yield of chip manufacturing, and manufacturing factories, manufacturing and maintenance costs and improve the chip to solve the environmental problems.
【技术实现步骤摘要】
一种激光芯片平坦化加工装置及方法
本专利技术涉及电子领域集成电路芯片制造技术,特别涉及一种激光芯片平坦化加工装置。
技术介绍
集成电路技术蓬勃发展,为了提升产能并降低成本,制程工艺上必须朝向积层化与细微化;因此平坦化(Planarization)制程工艺技术为集成电路芯片的制造中不可或缺的一种工艺技术,由于电路线幅设计细小化需求,技术越朝高集成密度而日新月异,针对芯片表面当一系列的薄膜被沉积与蚀刻后,微细铜电路或是钨电路、多晶硅、氧化膜介质电层等出现不平坦现象,早期利用湿刻蚀工艺技术将芯片上的堆栈或凹陷进行平坦化,其技术发展过程还包括SOG、Re-flow、EtchBack等,自1983年IBM研发部门铜制程及芯片表面平坦化首创采用化学机械抛光(简称CMP)工艺技术,合作的设备业者Westtech(现今IPEC公司),于1988年完成与IBM合作的CMP设备。1994年Ebara推出第一台整合清洗与CMP的机台,1996年其他厂商快速推出整合CMP与清洗机构设备,2000年时推出整合型机台的厂商才有占有率,如IPEC、SpeedFam。至2000年CMP设备市场占有率明显的变化,早期AMAT认为CMP属于污染制程,芯片厂不易采用CMP与铜制程,然而却逐步起飞,有可能成为集成电路制造的主流,AMAT才快速切入CMP设备,目前AMAT与Ebara为主流。因此利用平坦化工艺以化学机械抛光达到芯片平坦后,有利于下一个工艺进行,解决电路微影工艺因平坦度变差使曝光聚焦困难,甚至无法进行聚焦等的问题。从此化学机械抛光工艺平坦化技术更形重要,其主要操作组件有化学抛光液(S ...
【技术保护点】
一种激光芯片平坦化加工装置,其特征在于,包括加工腔体、芯片固定平台、激光装置、芯片送进送出接口、转动定位装置、激光输出接收装置、侦测控制装置和超纯水冲洗装置,所述加工腔体内设有芯片固定平台、激光装置和激光输出接收装置,所述芯片固定平台连接激光输出接收装置,所述激光输出接收装置连接激光装置,所述芯片固定平台连接芯片送进送出接口,所述转动定位装置连接芯片固定平台,所述转动定位装置包括位移定位控制装置和伺服电动机,所述侦测控制装置包括侦测装置、监控装置、激光多波长输出装置、激光脉冲波输出装置、激光频率控制装置和激光能量控制装置,所述侦测装置与激光输出接收装置连接,所述侦测装置与并联后的激光多波长输出装置、激光脉冲波输出装置、激光频率控制装置、激光能量控制装置连接,所述激光多波长输出装置、激光脉冲波输出装置、激光频率控制装置、激光能量控制装置并联后与监控装置串联,所述监控装置与激光装置连接,所述激光装置连接伺服电动机,所述芯片固定平台连接超纯水冲洗装置,所述芯片固定平台还连接真空装置。
【技术特征摘要】
1.一种激光芯片平坦化加工装置,其特征在于,包括加工腔体、芯片固定平台、激光装置、芯片送进送出接口、转动定位装置、激光输出接收装置、侦测控制装置和超纯水冲洗装置,所述加工腔体内设有芯片固定平台、激光装置和激光输出接收装置,所述芯片固定平台连接激光输出接收装置,所述激光输出接收装置连接激光装置,所述芯片固定平台连接芯片送进送出接口,所述转动定位装置连接芯片固定平台,所述转动定位装置包括位移定位控制装置和伺服电动机,所述侦测控制装置包括侦测装置、监控装置、激光多波长输出装置、激光脉冲波输出装置、激光频率控制装置和激光能量控制装置,所述侦测装置与激光输出接收装置连接,所述侦测装置与并联后的激光多波长输出装置、激光脉冲波输出装置、激光频率控制装置、激光能量控制装置连接,所述激光多波长输出装置、激光脉冲波输出装置、激光频率控制装置、激光能量控制装置并联后与监控装置串联,所述监控装置与激光装置连接,所述激光装置连接伺服电动机,所述芯片固定平台连接超纯水冲洗装置,所述芯片固定平台还连接真空装置。2.根据权利要求1所述的一种激光芯片平坦化加工装置,其特征在于,所述激光装置包括激光光源、电源供应器、光束引导装置、扫描器、反射镜和透镜。3.根据权利要求1所述的一种激光芯片平坦化加工装置,其特征在于,所述激光多波长输出装置包括基波产生器、第一能量调控器、第二能量调控器、第三能量调控器、第一二次谐波产生器、第二二次谐波产生器、第三二次谐波产生器和三次谐波产生器,所...
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