防掉落的半导体器件清洗装置以及具有该装置的工艺腔制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种防掉落的半导体器件清洗装置。该装置包括：与载体(101)相连接的喷嘴(102)；固定在载体(101)上的兆声波/超声波装置(105)；以及检测兆声波/超声波装置(105)与载体(101)之间的距离以判定兆声波/超声波装置(105)是否松动并将要掉落的传感器(104)。在清洗过程中，兆声波/超声波装置与喷嘴一起工作。本发明专利技术还公开了一种具有防掉落的半导体器件清洗装置的工艺腔。

Falling proof semiconductor device cleaning device and process chamber having the same

The invention discloses an anti fall semiconductor device cleaning device. The device comprises a carrier (101) connected to the nozzle (102) fixed on the carrier; (101) the mega sonic / ultrasonic device (105); and the mega sonic / ultrasonic detection device (105) and carrier (101) to determine the distance between the mega sonic / ultrasonic sensor device (105) is loose and will fall (104). In the cleaning process, the ultrasonic wave / ultrasonic device works with the nozzle. The invention also discloses a process cavity with an anti dropping semiconductor device cleaning device.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】防掉落的半导体器件清洗装置以及具有该装置的工艺腔
本专利技术涉及一种防掉落装置以及具有防掉落装置的工艺腔，尤其涉及一种通过在半导体器件上应用兆声波/超声波能量来清洗半导体器件的防掉落的半导体器件清洗装置。
技术介绍
随着科技发展，半导体清洗工艺日益成熟，与传统的机械清洗工艺不同，大量的先进高端清洗装置和设备开始在半导体制造和工艺市场上崭露头角，作为其中的佼佼者之一，重点推荐具有兆声波/超声波装置的设备。兆声波/超声波装置是先进高端清洗装置和设备的关键部件。兆声波/超声波装置通常与喷嘴一起工作，在清洗过程中，在高频振动和化学反应的影响下，清洗液分子在兆声波/超声波驱动下以高速连续不断的撞击半导体器件的表面，由此去除微粒和细小污染物并溶解到清洗液中。作为先进高端清洗装置和设备的关键部件，兆声波/超声波装置比较大并且重。通常，兆声波/超声波装置固定在载体上，随着载体在清洗液中移动。在清洗过程中，兆声波/超声波装置位于半导体器件上方，向半导体器件发送兆声波/超声波。通过长时间的使用，如果兆声波/超声波装置无法稳定的安装在载体上或者兆声波/超声波装置和载体之间变松，兆声波/超声波装置有可能掉下来并将半导体器件砸成碎片，同时，兆声波/超声波装置在清洗过程中的持续移动增加了兆声波/超声波装置掉落的风险。我们知道，半导体器件价值较贵，如果这种事件不被很好的控制，那么将会对制造商和供应商造成成本上升。此外，长时间的使用后，兆声波/超声波装置或其他部件上可能会产生微粒和微小污染物，因此，工艺腔内的兆声波/超声波装置需要经常清洗。
技术实现思路
根据本专利技术的一种具体实施方式，提供了一种防掉落的半导体器件清洗装置。该装置包括：与载体相连接的喷嘴；固定在载体上的兆声波/超声波装置，在清洗过程中，兆声波/超声波装置与喷嘴一起工作；检测兆声波/超声波装置与载体之间的距离以判定兆声波/超声波装置是否松动并将要掉落的传感器。根据本专利技术的另一种具体实施方式，提供了一种工艺腔。该工艺腔包括：防掉落的半导体器件清洗装置，该装置包括与载体相连接的喷嘴；固定在载体上的兆声波/超声波装置，在清洗过程中，兆声波/超声波装置与喷嘴一起工作；检测兆声波/超声波装置与载体之间的距离以判定兆声波/超声波装置是否松动并将要掉落的传感器；承载并转动半导体器件的卡盘；在半导体器件上方来回摆动并喷洒化学液或气体清洗半导体器件的摆动式喷头；至少两个用于冲洗或清洗摆动式喷头或者兆声波/超声波装置的托盘。附图说明本专利技术提供了一种防掉落的半导体器件清洗装置。此外，本专利技术还提供了一种具有防掉落的半导体器件清洗装置的工艺腔。通过附图中所示的本专利技术的优选实施例的更具体说明，本专利技术的上述及其他目的、特征和优势将更加清晰。然而，这些附图用于说明本专利技术，但不用来限制本专利技术的范围。图1a-1b示意了防掉落的半导体器件清洗装置的一种具体实施方式。图2a-2b示意了防掉落的半导体器件清洗装置的一种具体实施方式的底视图。图3示意了防掉落的半导体器件清洗装置的兆声波/超声波装置的一种具体实施方式。图4示意了防掉落的半导体器件清洗装置的传感器的一种具体实施方式。图5a-5b示意了本专利技术的工艺腔的一种具体实施方式。图6示意了工艺腔的托盘的一种具体实施方式。图7示意了工艺腔的防掉落的半导体器件清洗装置的一种具体实施方式。图8示意了工艺腔的兆声波/超声波装置的一种具体实施方式。图9示意了工艺腔的传感器的一种具体实施方式。具体实施方式下面结合附图对本专利技术的具体实施方式做详细的说明。所描述的本专利技术的实施例不将本专利技术限定为以下详细说明中所公开的精确形式。图1a-1b示意了防掉落的半导体器件清洗装置的一种具体实施方式。该防掉落的半导体器件清洗装置包括与载体101相连接的喷嘴102；固定在载体101上的兆声波/超声波装置105，在清洗过程中，兆声波/超声波装置105与喷嘴102一起工作；检测兆声波/超声波装置105与载体101之间的距离以判定兆声波/超声波装置105是否松动并将要掉落的传感器104。此外，该防掉落的半导体器件清洗装置还包括驱动该装置移动的摆臂103。图2a-2b示意了防掉落的半导体器件清洗装置的一种具体实施方式的底视图。如图2a所示，兆声波/超声波装置105为扇形，因此能够适用于圆形的半导体器件。如图2b所示，示意了防掉落的半导体器件清洗装置的一种具体实施方式，在该装置中拆掉了兆声波/超声波装置105，由此可以看出传感器104固定在载体101上，传感器104位于兆声波/超声波装置105和载体101之间。在本专利技术的一种具体实施方式中，传感器的输出，例如传感器的读数与兆声波/超声波装置105与载体101之间的距离成比例。进一步地，如果兆声波/超声波装置105与载体101之间的距离达到最小值，传感器的输出，例如传感器的读数为“0”。在一种具体实施方式中，传感器104的精确度为0.01mm或更高。在本专利技术的一种具体实施方式中，防掉落的半导体器件清洗装置还包括与传感器104相连接的自动报警器，如果传感器的读数超过预设阈值，自动报警器会被触发，以提醒操作人员固定兆声波/超声波装置105。采取这种方式，兆声波/超声波装置105掉落砸碎半导体器件的可能性降低。图3示意了防掉落的半导体器件清洗装置的兆声波/超声波装置的一种具体实施方式。在一种具体实施方式中，使用至少一对螺丝和螺母将兆声波/超声波装置105安装在载体101的底部，螺丝和螺母可以调节兆声波/超声波装置105和载体101之间的距离。在一种具体实施方式中，有三对螺丝和螺母构成三角形分布在兆声波/超声波装置105上，兆声波/超声波装置105和载体101之间的距离可以通过松开或拧紧至少一对螺丝和螺母108来调节。传感器104用来检测由螺丝和螺母108的松开引起的兆声波/超声波装置105的位置改变，松开三对中的部分螺丝和螺母会引起兆声波/超声波装置105的位置改变。传感器104检测兆声波/超声波装置105和载体101之间的距离，距离由传感器104的输出表示并用作调节螺丝和螺母的参考。也就是说，根据传感器的输出，至少一对螺丝和螺母会被松开或拧紧。进一步地，在清洗过程中，清洗液由喷嘴102喷向半导体器件，兆声波/超声波装置105浸没在清洗液中用于产生兆声波/超声波。图4示意了防掉落的半导体器件清洗装置的传感器的一种具体实施方式。如图4所示，在一种具体实施方式中，传感器104为压力传感器，包括测量端106和固定端107，固定端107安装在载体101上，测量端106是可伸缩的并被兆声波/超声波装置105紧压。压力传感器检测测量端106的伸缩量以判定兆声波/超声波装置105是否松动并将掉落。在另一种具体实施方式中，传感器104为光传感器，光传感器向兆声波/超声波装置105发出光信号并接收反射光信号，计算光信号的往返时间。采取这种方式，载体101和兆声波/超声波装置105之间的距离可以被检测出。在又一种具体实施方式中，传感器104为电传感器，电传感器可以通过监测电参数的变化检测出载体101和兆声波/超声波装置105之间的距离。如图5a至图9所示，本专利技术还提供了一种工艺腔。图5a-5b示意了本专利技术的工艺腔的一种具体实施方式。如图5a-5b所示，工艺腔包括防掉落的半导体本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种防掉落的半导体器件清洗装置，其特征在于，包括：与载体相连接的喷嘴；固定在载体上的兆声波/超声波装置，在清洗过程中，兆声波/超声波装置与喷嘴一起工作；检测兆声波/超声波装置与载体之间的距离以判定兆声波/超声波装置是否松动并将要掉落的传感器。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.02.15 CN 20151008198981.一种防掉落的半导体器件清洗装置，其特征在于，包括：与载体相连接的喷嘴；固定在载体上的兆声波/超声波装置，在清洗过程中，兆声波/超声波装置与喷嘴一起工作；检测兆声波/超声波装置与载体之间的距离以判定兆声波/超声波装置是否松动并将要掉落的传感器。2.根据权利要求1所述的防掉落的半导体器件清洗装置，其特征在于，兆声波/超声波装置通过至少一对螺丝和螺母安装在载体上，兆声波/超声波装置和载体之间的距离可以通过松开或拧紧至少一对螺丝和螺母来调节。3.根据权利要求1所述的防掉落的半导体器件清洗装置，其特征在于，传感器为压力传感器、光传感器或电传感器。4.根据权利要求1所述的防掉落的半导体器件清洗装置，其特征在于，传感器的输出与兆声波/超声波装置和载体之间的距离成比例。5.根据权利要求4所述的防掉落的半导体器件清洗装置，其特征在于，传感器的输出为传感器的读数，如果兆声波/超声波装置和载体之间的距离达到最小值，传感器的读数为“0”。6.根据权利要求1所述的防掉落的半导体器件清洗装置，其特征在于，传感器的精度为0.01mm或更高。7.根据权利要求1所述的防掉落的半导体器件清洗装置，其特征在于，还进一步包括与传感器相连接的自动报警器。8.根据权利要求7所述的防掉落的半导体器件清洗装置，其特征在于，如果传感器的输出超过预设阈值时，自动报警器被触发。9.根据权利要求1所述的防掉落的半导体器件清洗装置，其特征在于，还进一步包括驱动该装置移动的摆臂。10.一种工艺腔，其特征在于，包括：防掉落的半导体器件清洗装置，该装置包括与载体相连接的喷嘴；固定在载体上的兆声波/超声波装置，在清洗过程中，兆声波/超声波装置与喷嘴一起工作；检测兆声波/超声波装置与载体之间的距离以判定兆声波/超声波装置是否松动并将要掉落的传感器；承载并转动半导体器件的卡盘；在半导体器件上方来回摆动并喷洒化学液或气体清洗半导体器件的摆动式喷头；至少两个用于冲洗或清洗摆动式喷头或兆声波/超声波装置的托盘。11.根据权利...

【专利技术属性】
技术研发人员：初振明，王希，王晖，贾社娜，吴均，陈福平，李学军，
申请(专利权)人：盛美半导体设备上海有限公司，
类型：发明
国别省市：上海,31