器件制造方法技术

技术编号:16400300 阅读:51 留言:0更新日期:2017-10-17 20:18
提供一种能够将微细图案高精度地形成于基板上的基板处理装置及器件制造方法。在基板上涂敷通过光能而产生亲液/疏液性差异的功能层(偶联剂),进行光图案形成,对功能层基于亲液/疏液性赋予反差,之后,通过超声波等使包含用于电子器件等的原材料物质的溶液雾化并喷射到基板表面,由此使喷雾附着于基板表面中的表面能高的亲液部,使原材料物质选择性地沉积。

Device manufacturing method

A substrate processing device and a device fabrication method for fine patterning of high precision terrain on a substrate are provided. In the light generated by coating a substrate lyophilic lyophobic layer / functional differences (coupling agent), optical pattern formation, the function of the liquid / liquid repellent layer Pro gives contrast, based on, made by ultrasonic for raw materials containing solution by electronic devices and the jet to substrate thus, the surface spray attached to the substrate surface in high lyophilic, the original material is selectively deposited.

【技术实现步骤摘要】
器件制造方法本申请是中国专利申请号为201380038134.6、进入国家阶段日期为2015年1月16日,国际申请日为2013年5月23日、PCT国际申请号为PCT/JP2013/064381、专利技术名称为“基板处理装置以及器件制造方法”的专利技术专利申请的分案申请。
本专利技术涉及器件制造方法。
技术介绍
在液晶显示元件等大画面显示元件(显示面板)中,在平面状的玻璃基板上沉积ITO等透明电极层、Si等半导体物质层、绝缘膜层或者布线用金属膜层等之后涂敷光致抗蚀剂而转印电路图案,在转印之后使光致抗蚀剂显影,然后进行蚀刻,由此形成电路图案等。然而,存在以下问题:随着显示元件的大画面化而玻璃基板变为大型化,因此基板的输送装置、处理装置也变为大型化,生产线(工厂)变得庞大等。因此,提出了一种在具有挠性的基板(例如聚酰亚胺、PET、金属箔等薄膜部件、极薄玻璃片材等)上直接形成显示元件的被称为卷对卷(rolltoroll)方式(以下简记为“卷方式”)的技术(例如参照专利文献1)。在通过卷方式来对挠性的薄膜部件进行处理的情况下,期望使用与以往的生产方法相比削减与制造有关的各种材料的使用量、各种生本文档来自技高网...
器件制造方法

【技术保护点】
一种器件制造方法,在基板的表面形成电子器件,其特征在于,包括以下工序:功能层形成工序,在所述基板的表面形成基于感光性亲疏液偶联剂的功能层,该感光性亲疏液偶联剂在硝基苄基内包含具有疏液性的氟基,并且通过照射波长400nm以下的紫外线的光能而使所述氟基的键脱离从而亲液/疏液性改性;光图案形成工序,通过利用投影光学系统对掩膜的图案进行投影的曝光机、无掩膜曝光机及射束扫描型的描绘机中的任一种,对所述基板上的所述功能层照射图案化后的所述紫外线的光能,形成所述功能层的所述氟基脱离的区域和留有所述氟基的区域,由此在所述功能层上形成赋予了基于亲液/疏液性的反差的图案;喷雾沉积工序,通过输送机构沿着规定的输送方...

【技术特征摘要】
2012.05.24 JP 2012-1186171.一种器件制造方法,在基板的表面形成电子器件,其特征在于,包括以下工序:功能层形成工序,在所述基板的表面形成基于感光性亲疏液偶联剂的功能层,该感光性亲疏液偶联剂在硝基苄基内包含具有疏液性的氟基,并且通过照射波长400nm以下的紫外线的光能而使所述氟基的键脱离从而亲液/疏液性改性;光图案形成工序,通过利用投影光学系统对掩膜的图案进行投影的曝光机、无掩膜曝光机及射束扫描型的描绘机中的任一种,对所述基板上的所述功能层照射图案化后的所述紫外线的光能,形成所述功能层的所述氟基脱离的区域和留有所述氟基的区域,由此在所述功能层上形成赋予了基于亲液/疏液性的反差的图案;喷雾沉积工序,通过输送机构沿着规定的输送方向连续地输送由所述光图案形成工序进行处理后的所述基板,一边将所述基板通向在所述输送方向上具有规定的长度的反应室机构,一边将使包含用于所述电子器件的材料物质的分子或者粒子的功能性溶液成为喷雾并与规定的载气混合得到的气体,在所述反应室机构内以使该气体沿着所述基板的形成有所述功能层的表面的方式喷射;以及调整工序,通过测量装置测量所沉积的基于所述材料物质的层的状态,根据该测量结果来调整所述喷雾沉积工序的条件。2.根据权利要求1所述的器件制造方法,其特征在于,所述功能层形成工序由涂敷机构进行,该涂敷机构将所述感光性亲疏液硅烷偶联剂涂敷到所述基板的整个表面或者选择的部分。3.根据权利要求2所述的器件制造方法,其特征在于,...

【专利技术属性】
技术研发人员:奈良圭
申请(专利权)人:株式会社尼康
类型:发明
国别省市:日本,JP

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